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1、--電池片工藝流程------一、電池片工藝流程:制絨(INTEX)---擴散(DIFF)----后清洗(刻邊/去PSG)-----鍍減反射膜(PRINTER)-----測試、分選(TESTER+SORTER)------包裝(PACKING)(PECVD)------絲網(wǎng)、燒結------二、各工序工藝介紹:(一)前清洗1.RENA前清洗工序的目的:------(1)去除硅片表面的機械損傷層(來自硅棒切割的物理損傷)(2)清除表面油污(利用HF)和金屬雜質(利用HCl)(3)形成起伏不平的絨面
2、，利用陷光原理，增加對太陽光的吸收，在某種程度上增加了PN結面積，提高短路電流(Isc)，最終提高電池光電轉換效率。2、前清洗工藝步驟:制絨?堿洗?酸洗?吹干Etchbath:刻蝕槽，用于制絨。所用溶液為HF+HNO3，作用:------(1).去除硅片表面的機械損傷層(2).形成無規(guī)則絨面。;------AlkalineRinse:堿洗槽。所用溶液為KOH，作用:(1).對形成的多孔硅表面進行清洗;(2).中和前道刻蝕后殘留在硅片表面的酸液。AcidicRinse:酸洗槽。所用溶液為HCl+HF
3、，作用:(1).中和前道堿洗后殘留在硅片表面的堿液;(2).HF可去除硅片表面氧化層(SiO2)，形成疏水表面，便于吹干;(3).HCl中的Cl-有攜帶金屬離子的能力，可以用于去除硅片1/13頁表面金屬離子。3.酸制絨工藝涉及的反應方程式:HNO3+Si=SiO2+NOx?+H2OSiO2+4HF=SiF4+2H2OSiF4+2HF=H2[SiF6]Si+2KOH+H2O?K2SiO3+2H24.前清洗工序工藝要求(1)片子表面5S控制不容許用手摸片子的表片，要勤換手套，避免擴散后出現(xiàn)臟片。(2)稱
4、重a.每批片子的腐蝕深度都要檢測，不允許編造數(shù)據(jù)，搞混批次等。b.要求每批測量4片。c.放測量片時，把握均衡原則。如第一批放在1.3.5.7道，下一批則放在2.4.6.8道，便于檢測設備穩(wěn)定性以及溶液的均勻性。(3)刻蝕槽液面的注意事項:正常情況下液面均處于綠色，如果一旦在流片過程中顏色改變，立即通知工藝人員。(4)產線上沒有充足的片源時，工藝要求:a.停機1小時以上，要將刻蝕槽的藥液排到tank，減少藥液的揮發(fā)。b.停機15分鐘以上要用水槍沖洗堿槽噴淋及風刀，以防酸堿形成的結晶鹽堵塞噴淋口及風刀。
5、------c.停機1h以上，要跑假片，至少一批(400片)且要在生產前半小時用水槍沖洗風刀處------的滾輪，杜絕制絨后的片子有滾輪印。(5)前清洗到擴散的產品時間:最長不能超過4小時,時間過長硅片會污染氧化，到擴散污染爐2/13頁管,從而影響后面的電性能及效率5.前清洗工序常見工藝問題常見故障原因及解決方法前清洗工藝刻蝕深度不穩(wěn)定a觀察來片是否有異常，或者來片一批中是否是不同晶棒組成，因為不同的片子會對應不同的刻蝕速率。b查看溶液顏色，正常的顏色應該是灰色偏綠。如果覺得顏色過淺，流假片，一般以
6、400片為一個循環(huán)。然后測試4片硅片刻蝕深度。硅片表面有大面積黃斑觀察堿槽溶液是否在循環(huán)，若沒有循環(huán)，手動打開循環(huán)(若有循環(huán)則說明堿濃度不夠，需要補加堿(硅片表面有小白條觀察氣刀是否被堵，通過查看硅片通過氣刀下方時表面液體有無被吹干判斷。滾輪速度較低或較高a一般我們要求滾輪在1.0~1.2的速度下流片，因為過低的速度會影響產量，過高的速度風刀很難將硅片吹干。所以如果滾輪速度小于1.0，需要手動加液，一般按2升HF，5升HNO3進行補液。同時可以將溫度提高，以1度為一個單位升高(可在5~8度之間進行調
7、整)。但是對于溫度的設定，我們一般選擇較低的溫度，因為較低的溫度下可以3/13頁得到很穩(wěn)定的化學反應，所以溫度一般不建議調高，b如果滾輪速度過高，在溫度降低仍不能滿足要求的情況下，可以加水，但是僅能以2升為一個單位加入。前清洗工藝堿槽或酸槽不循環(huán)觀察設備下面的循環(huán)平衡有沒有冒泡泡原因分析:a:可能風刀堵塞，使溶液跑到水槽2中;b:可能噴淋堵塞;c:可能濾芯堵塞;解決方法:a:先期在初始界面處可以發(fā)現(xiàn)各自對應的模板,在“ready”“notready之間”閃動，此時需要工藝立即補液(HCL:HF:DI
8、=3:2:14;KOH:DI=1:10)b:通知設備通風刀(冒泡泡)或清洗更換濾芯(補加了藥水后還沒循環(huán)，浮標沉到底部不起來)堿槽或酸槽流量變小工藝需要檢查槽中溶液是否滿，如果不滿則添藥液;如果是滿的，則通知------設備檢查濾芯是否需要更換或清洗。流量突變，不能達到工藝設定流量前清洗流量會突然變?yōu)?，此時設備會報警，工藝立即到現(xiàn)場通知生產停止投料，通知設備人員調試設備，然后處理設備中的硅片，挑出外觀未受影響的硅片繼續(xù)下傳，外觀受影響的隔離處理水紋片用手可以抹去的，
