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《廢鉭靶材回收處理工藝及其回收料應(yīng)用的研究》由會(huì)員上傳分享，免費(fèi)在線閱讀，更多相關(guān)內(nèi)容在學(xué)術(shù)論文-天天文庫(kù)。
1、doi：10.3969/j.issn.1007-7545.2018.04.016廢鉭靶材回收處理工藝及其回收料應(yīng)用的研究任萍，馬海燕，程越偉，李巖，周慧琴（寧夏東方鉭業(yè)股份有限公司，寧夏石嘴山753000）摘要：對(duì)廢鉭靶材回收處理工藝及其回收料的應(yīng)用進(jìn)行了研究。利用氫化處理工藝，將廢鉭靶材組件進(jìn)行了分離，使用酸洗、脫氫等處理工藝，最終得到了純度為99.995%以上的冶金級(jí)鉭粉?；厥盏囊苯鸺?jí)鉭粉可作為原料用于電子束熔煉制備鉭錠，也可直接用做其他鉭加工材的原料。分離出的銅背板可選用清洗、整形、拋光等處理工藝，處理合格后的背板可作為新的靶底使用，或作為黃銅直
2、接回收。關(guān)鍵詞：廢鉭靶材；回收；氫化；鉭粉中圖分類號(hào)：TF841.6文獻(xiàn)標(biāo)志碼：A文章編號(hào)：1007-7545（2018）04-0000-00StudyonRecoveryProcessofWasterTantalumTargetandItsApplicationRENPing,MAHai-yan,CHENYue-wei,LIYan,ZHOUHui-qing(NingxiaOrientTantalumIndustryCo.,Ltd,Shizuishan753000,Ningxia,China)Abstract：Recoveryprocessofwast
3、ertantalumtargetanditsapplicationwerestudied.Separationprocessofwastertantalumtargetwascarriedoutwithhydrogenationprocesstoobtainmetallurgicalgradetantalumpowderwithpurityof99.995%above.Recycledmetallurgicalgradetantalumpowdercanbeusedasrawmaterialsforelectronbeamsmeltingprepara
4、tionoftantalumingots,ordirectlyasothertantalumprocessingmaterials.Copperbackplaneobtainedcanbeusedasanewtarget,orrecoveredasbrass.Keywords：wastertantalumtarget;recovery;hydrogenation;tantalumpowder鉭具有熔點(diǎn)高、蒸汽壓低、冷加工性能好、抗液態(tài)金屬腐蝕和酸堿腐蝕能力強(qiáng)、表面氧化膜介電常數(shù)大等一系列優(yōu)異性能，是重要的功能性材料，近年來發(fā)展了鉭在集成電路中的重要應(yīng)用
5、[1]。隨著電子技術(shù)的高速發(fā)展，鉭濺射靶材在集成電路中的應(yīng)用越來越廣泛。濺射過程，主要通過物理汽化噴鍍工藝（物理氣相沉積PVD），即用高壓加速氣態(tài)離子轟擊，使靶材的原子被濺射出來并以薄膜的形式沉積在硅片或其他基板上，再配合光刻等工藝，最終形成半導(dǎo)體芯片中復(fù)雜的配線結(jié)構(gòu)?，F(xiàn)有工藝中靶材被多次使用之后，由于濺射過程中高能粒子撞擊靶材表面的角度、頻率及能量等有所不同，其表面會(huì)形成一個(gè)環(huán)狀的凹坑，為了避免較深凹坑繼續(xù)被高能粒子撞擊造成靶材擊穿從而影響濺射結(jié)果，就需要及時(shí)更換已經(jīng)形成有較深凹坑的靶材[2]，這就造成了靶材濺射鍍膜過程中利用率低的缺點(diǎn)。有資料顯示：
6、圓形平面(靜態(tài))靶利用率最低，一般低于10%；矩形平面靶次之，一般大于20%，但難以超過30%，它們強(qiáng)烈地受到跑道刻蝕形狀的影響；旋轉(zhuǎn)圓柱靶的利用率最好，一般可以超過50%，但很難超過70%[3]。濺射鍍膜后的鉭靶材成為廢鉭靶材。在鉭靶材生產(chǎn)過程中也產(chǎn)生邊角料、切屑和廢品，這些都是廢鉭再生的主要資源。鉭屬于分布不廣的元素，鉭資源相對(duì)短少[4]，鉭作為一種稀貴的戰(zhàn)略物資，回收再利用廢鉭靶材具有重要的理論意義和實(shí)際應(yīng)用價(jià)值。本文對(duì)廢鉭靶材回收處理工藝及其回收料的應(yīng)用進(jìn)行了研究。1主要研究工藝路線廢鉭靶材組件的回收處理工藝所用設(shè)備有電阻氫化爐、鄂式破碎機(jī)、電
7、阻井式脫氫爐、回轉(zhuǎn)式酸洗槽、真空烘干箱、電子轟擊爐等。所需的原輔材料有廢鉭靶材組件、高純氫氣、鹽酸、氫氟酸、純水等?；厥盏膹U鉭靶材組件為三層結(jié)構(gòu)，具體如圖1所示。1-鉭靶材；2-中間層鈦（厚度2~3mm）；3-銅/黃銅材質(zhì)的背板圖1廢鉭靶材組件的結(jié)構(gòu)Fig.1Structureofrecoveredtantalumtarget收稿日期：2017-10-20基金項(xiàng)目；國(guó)家重點(diǎn)研發(fā)計(jì)劃項(xiàng)目（2017YFB0305404）作者簡(jiǎn)介：任萍（1973-），女，寧夏中寧人，高級(jí)工程師.本工藝研究以廢鉭靶材組件為原料，采用氫化法使廢鉭靶材組件中的鉭金屬氫化吸氫，與背
8、板剝離，破碎制粉，然后用酸酸洗剝離出的氫化鉭粉，再經(jīng)過脫氫，得到回收的冶金級(jí)鉭粉。2處理工藝2
