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《JBT9495.7-1999光學(xué)晶體光學(xué)均勻性測(cè)量方法.pdf》由會(huì)員上傳分享，免費(fèi)在線閱讀，更多相關(guān)內(nèi)容在行業(yè)資料-天天文庫(kù)。
1、ICS17.180;31.030N05中華人民共和國(guó)機(jī)械行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)JS/T9495.7-1999光學(xué)晶體光學(xué)均勻性測(cè)量方法Measuringmethodforopticalhomogeneityofopticalcrystal1999一08一06發(fā)布2000一01一01實(shí)施國(guó)家機(jī)械工業(yè)局發(fā)布JB/T9495.7-1999前言本標(biāo)準(zhǔn)是對(duì)ZBN05001甲7-堿光學(xué)晶體光學(xué)均勻性測(cè)量方法》的修訂。本標(biāo)準(zhǔn)根據(jù)CB/T1.1-1993和GB/f1.22-1993的要求對(duì)原標(biāo)準(zhǔn)作了編輯、文字上的修改，主要技術(shù)內(nèi)容沒(méi)有變化。本標(biāo)準(zhǔn)自實(shí)施之日起，代替ZBN050
2、01.7-86,本標(biāo)準(zhǔn)由儀表功能材料標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會(huì)提出并歸口。本標(biāo)準(zhǔn)由北京玻璃研究所負(fù)責(zé)起草。本標(biāo)準(zhǔn)主要起草人:楊學(xué)志。本標(biāo)準(zhǔn)1986年6月首次發(fā)布。中華人民共和國(guó)機(jī)械行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)光學(xué)晶體光學(xué)均勻性測(cè)t方法JB/T9495.7-1999代擠ZBN03001.7-86M-S-bg.以加d扮叩吐目加.甲叫燈吐甲生目口，目范圈本標(biāo)準(zhǔn)適用于直徑不大于2000.的光學(xué)晶體光學(xué)均勻性的mit,側(cè)盆折射率微差的精度為:d，二:1x10-"e2引用標(biāo)準(zhǔn)下列標(biāo)準(zhǔn)所包含的條文，通過(guò)在本標(biāo)準(zhǔn)中引用面構(gòu)成為本標(biāo)準(zhǔn)的條文。本標(biāo)準(zhǔn)出版時(shí)所示版本均為有效。所有標(biāo)準(zhǔn)都會(huì)被修訂.使
3、用本標(biāo)準(zhǔn)的各方應(yīng)探討使用下列標(biāo)準(zhǔn)最新版本的可能性。IB/1'9495.1-199!)光學(xué)晶體3原理光學(xué)均勻性系相同一塊光學(xué)晶體內(nèi)部折射率微差的大小。當(dāng)一塊內(nèi)部折射率分布不均勻的光學(xué)晶體放在干涉儀(如臺(tái)曼干涉儀)的m呈光路中時(shí)，干涉儀原筆直規(guī)則的干涉條紋會(huì)產(chǎn)生彎曲或其它變形用這種光程改變而引起的干涉條紋彎曲與光學(xué)晶體內(nèi)部折射率分布豹關(guān)系即可判斷其光學(xué)均勻性的好壞。公式(1)給出了這種對(duì)應(yīng)關(guān)系:令么二一(:一UghLIq二一一一不—式中:7一一光學(xué)晶體的折射率;△。—樣品干涉條紋的變化量;}h-祥品表面面形誤差(這里指貼置玻璃表面平面度局部光3卜h-
4、樣品厚度，~。4儀號(hào)本標(biāo)準(zhǔn)采用臺(tái)曼一格林干涉儀(或激光多光束球面干涉儀)。其光路示意圖如圖to5樣品5.1測(cè)量光學(xué)均勻性的光學(xué)晶體樣品應(yīng)力雙拆射應(yīng)小于二類。散射穎粒度為二類以上。5.2樣品加工成外形規(guī)整，兩通光面平行度小于1'，面形平整用303.砂細(xì)磨。以刀刃尺檢驗(yàn)，肉眼觀察無(wú)縫為準(zhǔn)。5.3側(cè)量前樣品需在恒溫室內(nèi)放晉12h.國(guó)家機(jī)械工業(yè)局1999一08一06批準(zhǔn)200〕一01一01實(shí)施IB/T9495.7-19E舊1一單色光誣;z-準(zhǔn)直物鏡;3一分束倪;4一樣品;，一貼t玻確一對(duì);6一標(biāo)準(zhǔn)平面反射鏡;，一補(bǔ)嘗板;8一參考平面反射鏡;9一望遠(yuǎn)俄;1
5、0-觀側(cè)系統(tǒng)圖1臺(tái)受一格林干涉儀光路示憊圖6測(cè).6.，條件6.1.1測(cè)試時(shí)恒溫室溫度波動(dòng)不得超過(guò)t0.5C/h，室內(nèi)相對(duì)濕度不大于75%.6.1.2測(cè)it過(guò)程中要隔展，防展周期小于3Hz/s,隔屁展幅小于0.21m,6.1.3貼置用折射液與樣品折射率差小于1x10-`,6.2步驟6.2.1接通電源，預(yù)熱15min,調(diào)整干涉儀使儀器處于正常工作狀態(tài)。6.2.2將樣品放于載物臺(tái)上，貼人貼置玻璃中，調(diào)整載物臺(tái)及樣品，使其垂直于光路并使光軸通過(guò)其中心。6.2.3調(diào)整標(biāo)準(zhǔn)鏡和參考鏡，使視場(chǎng)中出現(xiàn)五條左右清晰可見(jiàn)的干涉條紋。6.2.4記錄干涉條紋彎曲方向，量
6、取間距及彎曲to6.3結(jié)果6.3.1干涉條紋彎曲童與條紋間距的比值△二的計(jì)算。a)如圖2所示，干涉條紋規(guī)整，等距，但有局部彎曲，則:△a.凸爪二—(2)口式中:L1a-—各條紋彎曲f中的最大值，二;口—條紋間距，畫。6)圖3所示干涉條紋既不規(guī)整，也不等距且有局部彎曲，則:△爪‘二(3)式中:a--最大間距，二;a.‘一最小間距，二。................(4)么勝1=取△。.和△兩中最大值計(jì)算樣品的光學(xué)均勻性△n值。Js/r9495.7，一1999圖2圖36.3.2將:gym值代人公式(工、算出△n按光學(xué)晶體標(biāo)準(zhǔn)JB/r9395.1-1
7、999中5.2.6的規(guī)定分類
