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《巰丙基三甲氧基硅烷對納米二氧化硅表面接枝改性的研究》由會員上傳分享，免費在線閱讀，更多相關(guān)內(nèi)容在教育資源-天天文庫。
1、------------------------------------------------------------------------------------------------巰丙基三甲氧基硅烷對納米二氧化硅表面接枝改性的研究第46卷第4期2014年04月無機鹽工業(yè)INORGANICCHEMICALSINDUSTRY33李摘峰，李紅強，賴學(xué)軍，吳文劍，曾幸榮（華南理工大學(xué)材料科學(xué)與工程學(xué)院，廣東廣州510640）要：采用γ-巰丙基三甲氧基硅烷（KH590）對納米二氧化硅表面進行接枝改性，研究KH590用量、反應(yīng)時間和反應(yīng)溫度等對納米二氧化硅相對接枝率和粒徑的影響；采用紅外光譜
2、（FT-IR）和掃描電子顯微鏡（SEM）等手段對改性前后的納米二氧化硅進行表征。結(jié)果表明：KH590通過水解后與二氧化硅粒子表面的羥基發(fā)生反應(yīng)，成功接枝到納米二氧化硅表面；其最佳工藝條件為：KH590用量為二氧化硅質(zhì)量的15%，反應(yīng)溫度為80℃，反應(yīng)時間為10h，其相對接枝率達到10.3%；與未改性納米二氧化硅相比，其平均粒徑明顯變小，分散性及親油性明顯變好。關(guān)鍵詞：納米SiO2；γ-巰丙基三甲氧基硅烷；表面接枝改性中圖分類號：TQ127.2文獻標識碼：A文章編號：1006-4990（2014）04-0033-04——————————————————————————————————————-
3、-----------------------------------------------------------------------------------------------Surfacegraftingmodificationofnano-sizedsilicawith3-mercaptopropyltrimethoxysilaneLiFeng，LiHongqiang，LaiXuejun，WuWenjian，ZengXingrong（SchoolofMaterialsScienceandEngineering，SouthChinaUniversityofTechnology
4、，Guangzhou510640，China）Abstract：Thenano-sizedSiO2wasgraftedandmodifiedwith3-mercaptopropyltrimethoxysilane（KH590）.TheinfluencesofKH590content，reactiontime，andtemperatureongraftingrateandparticlesizeofnano-sizedSiO2werestudied.ThemodifiedandunmodifiedSiO2werecharacterizedbyFouriertransforminfraredsp
5、ectroscopy（FT-IR）andscanningelectronmicroscope（SEM）.ResultsshowedthatKH590wassuccessfullygraftedonthesurfaceofnano-sizedSiO2throughthereactionwiththehydroxylgroupsonthesurfaceofSiO2afterhydrolysis；theoptimalmodificationconditionswereasfollows：KH590contentwas15%（massfraction）basedonSiO2，reactiontemp
6、eraturewas80℃，andreactiontimewas10h；Therelativegraftingratecouldreach10.3%;andcomparedwiththeunmodifiedSiO2particles，themodifiedSiO2particlesshowedsmallersize，betterdispersionandlipophilicity.——————————————————————————————————————---------------------------------------------------------------------
7、---------------------------Keywords：nano-sizedSiO2；3-mercaptopropyltrimethoxysilane；surfacegraftingmodification納米SiO2由于具有表面界面效應(yīng)、量子尺寸效應(yīng)、宏觀量子隧道效應(yīng)等優(yōu)異特性［1］，使其具有廣闊的應(yīng)用前景和商業(yè)價值。但由于納米SiO2的粒徑小、比表面積大、具有大量羥基，使其表面能高、易團聚
