深圳宇眾環(huán)保堿性蝕刻液直接電解設(shè)備

深圳宇眾環(huán)保堿性蝕刻液直接電解設(shè)備

ID:1575434

大小:367.50 KB

頁數(shù):9頁

時間:2017-11-12

深圳宇眾環(huán)保堿性蝕刻液直接電解設(shè)備_第1頁
深圳宇眾環(huán)保堿性蝕刻液直接電解設(shè)備_第2頁
深圳宇眾環(huán)保堿性蝕刻液直接電解設(shè)備_第3頁
深圳宇眾環(huán)保堿性蝕刻液直接電解設(shè)備_第4頁
深圳宇眾環(huán)保堿性蝕刻液直接電解設(shè)備_第5頁
資源描述:

《深圳宇眾環(huán)保堿性蝕刻液直接電解設(shè)備》由會員上傳分享,免費(fèi)在線閱讀,更多相關(guān)內(nèi)容在教育資源-天天文庫。

1、深圳宇眾環(huán)保堿性蝕刻液直接電解設(shè)備1.再生原理2.電解設(shè)備3.蝕刻參數(shù)4.電解原理5.物料消耗6.效益分析7.設(shè)備清單深圳市宇眾環(huán)??萍加邢薰径﨩一二年6月1日固定電話:86-0755-29873708?傳真:0755-29873708移動電話:18025346488凡許強(qiáng)辦公地址:?廣東省深圳市寶安區(qū)沙井鎮(zhèn)上寮5區(qū)新沙路豐盛大廈808網(wǎng)址:????http://www.szyzhb.com?;?郵箱:??yzhb@szyzhb.com???????堿性蝕刻液直接電解再生原理  印制電路板(PCB)加工的典型工藝采用"圖形電鍍法"

2、。即先在板子外層需保留的銅箔部分上(是電路的圖形部分)預(yù)鍍一層鉛錫抗蝕層,然后用化學(xué)方式將其余的銅箔腐蝕掉,稱為蝕刻?! ≡谖g刻過程中,板面上的銅被[Cu(NH3)4]2+絡(luò)離子氧化,其蝕刻反應(yīng)如下:  Cu(NH3)4Cl2+Cu→2Cu(NH3)2Cl  所生成的[Cu(NH3)2]1+為Cu1+的絡(luò)離子,不具有蝕刻能力。在有過量NH3和Cl-的情況下,能很快地被空氣中的O2所氧化,生成具有蝕刻能力的[Cu(NH3)4]2+絡(luò)離子,其再生反應(yīng)如下:  2Cu(NH3)2Cl+2NH4Cl+2NH3+1/2O2→2Cu(NH3)4

3、Cl2+H2O  從上述反應(yīng)可看出,每蝕刻1克分子銅需要消耗2克分子氨和2克分子氯化銨。因此,在蝕刻過程中,隨著銅的溶解,要不斷補(bǔ)加氨水和氯化銨,因而蝕刻槽母液會不斷增加。由于所生成的[Cu(NH3)2]1+為Cu1+的絡(luò)離子,不具有蝕刻能力,所以必須排除部分母液,增加新的子液(子液不含銅離子)來滿足蝕刻要求?! ∥g刻液再生:實(shí)際上是印制電路板(PCB)蝕刻線上排出的蝕刻母液采用封閉式循環(huán)系統(tǒng),經(jīng)蝕刻液再生循環(huán)設(shè)備將其中的銅離子萃取出來再返回生產(chǎn)線的過程。堿性蝕刻廢液再生系統(tǒng)原理:在線路板的蝕刻過程中,蝕刻液中的銅離子濃度會逐漸升高

4、而降低蝕刻效果,要使蝕刻液達(dá)到最佳的蝕刻效果,就必須將蝕刻液中的銅離子(Cu2+)、氯離子(Cl-)和PH值保持在一個合理穩(wěn)定的范圍內(nèi),要持續(xù)蝕刻液中上述各種成份的最佳濃度,就需不斷添加子液來取代已失去蝕刻能力的『廢蝕刻液』。而該系統(tǒng)則可將原本需要排放的『廢蝕刻液』再生成為新子液即『再生蝕刻液』,它只需添加極少量的補(bǔ)充劑,補(bǔ)償因蝕刻過程中損失的部分就可以循環(huán)使用。同時還回收氨洗水,將氨洗水再生后循環(huán)利用。電解設(shè)備  該系統(tǒng)是一套高科技、環(huán)保型設(shè)備。專門為處理堿性蝕刻廢液而設(shè)計(jì)的全封閉式系統(tǒng),無任何廢水、廢物排放。該系統(tǒng)不僅能將廢蝕刻

5、液再生并返回蝕刻線使用,還能為蝕刻工作線提供穩(wěn)定的蝕刻效果,更能創(chuàng)造巨大的經(jīng)濟(jì)利益和環(huán)保效益。該系統(tǒng)與蝕刻機(jī)相互連接后,自動循環(huán)運(yùn)作,進(jìn)行蝕刻液和氨洗水的回收及再生工作。實(shí)現(xiàn)污染零排放并產(chǎn)出純度高,價值高的電解金屬銅(99.68%)?! ≈饕δ芎吞攸c(diǎn) ?、賹U蝕刻液進(jìn)行再生,經(jīng)再生后的蝕刻液可以循環(huán)再生使用; ?、趯U蝕刻液和氨洗水的銅離子進(jìn)行回收,還原成高純度電解銅;  ③該設(shè)備操作維護(hù)簡單,在安裝調(diào)試過程中不影響生產(chǎn),安裝調(diào)試完畢即可投入使用?! ≡陔娮泳€路版(PCB)蝕刻過程中,蝕刻液中的銅含量漸漸增加。蝕刻液要達(dá)到最佳的蝕

6、刻效果,每公升蝕刻液需含120至180克銅及相應(yīng)分量的蝕刻鹽(NH4CI)及氨水(NH3)。要持續(xù)蝕刻液中上述各種成份的濃度最佳水平,蝕刻用過后的(以下稱[用后蝕刻液])溶液需不斷由添加的藥劑所取締。本系統(tǒng)主要應(yīng)用溶劑萃取法,可以在回收銅的同時回收蝕刻劑,將大量原本需要排放的[用后蝕刻液]再生還原成為可再次使用的[再生蝕刻液]。只需極少量的補(bǔ)充劑及氨水,補(bǔ)償因運(yùn)作時被[帶走]而失去的部份。從而取代蝕刻子液,該工藝不但可以減少蝕刻廢液回收后的污水排放量,減少環(huán)境污染,同時還可以降低PCB廠家的生產(chǎn)成本?! ∈褂帽鞠到y(tǒng)的主要效益  1.

7、再生液可回收利用,節(jié)省物料,降低生產(chǎn)成本?! ?.再生液可回收利用,降低治理污水成本?! ?.響應(yīng)國家政策,節(jié)能減排,污染基本為零排放,。  4.做到清潔生產(chǎn),降低工廠環(huán)保壓力。蝕刻參數(shù)堿性氯化銅蝕刻液1.特性?1)適用于圖形電鍍金屬抗蝕層,如鍍覆金、鎳、錫鉛合金,錫鎳合金及錫的印制板的蝕刻。2)蝕刻速率快,側(cè)蝕小,溶銅能力高,蝕刻速率容易控制。3)蝕刻液可以連續(xù)再生循環(huán)使用,成本低。2.蝕刻過程中的主要化學(xué)反應(yīng)在氯化銅溶液中加入氨水,發(fā)生絡(luò)合反應(yīng):CuCl2+4NH3→Cu(NH3)4Cl2在蝕刻過程中,板面上的銅被[Cu(NH3

8、)4]2+絡(luò)離子氧化,其蝕刻反應(yīng)如下:Cu(NH3)4Cl2+Cu→2Cu(NH3)2Cl所生成的[Cu(NH3)2]1+為Cu1+的絡(luò)離子,不具有蝕刻能力。在有過量NH3和Cl-的情況下,能很快地被空氣中的O2所氧化,生成具有蝕刻能

當(dāng)前文檔最多預(yù)覽五頁,下載文檔查看全文

此文檔下載收益歸作者所有

當(dāng)前文檔最多預(yù)覽五頁,下載文檔查看全文
溫馨提示:
1. 部分包含數(shù)學(xué)公式或PPT動畫的文件,查看預(yù)覽時可能會顯示錯亂或異常,文件下載后無此問題,請放心下載。
2. 本文檔由用戶上傳,版權(quán)歸屬用戶,天天文庫負(fù)責(zé)整理代發(fā)布。如果您對本文檔版權(quán)有爭議請及時聯(lián)系客服。
3. 下載前請仔細(xì)閱讀文檔內(nèi)容,確認(rèn)文檔內(nèi)容符合您的需求后進(jìn)行下載,若出現(xiàn)內(nèi)容與標(biāo)題不符可向本站投訴處理。
4. 下載文檔時可能由于網(wǎng)絡(luò)波動等原因無法下載或下載錯誤,付費(fèi)完成后未能成功下載的用戶請聯(lián)系客服處理。