腭杠腭托聯(lián)合支抗矯治雙頜前突的臨床研究論文

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1、腭杠腭托聯(lián)合支抗矯治雙頜前突的臨床研究論文霍娜,段銀鐘,韓春,張菊菊【關(guān)鍵詞】橫腭桿TranspalatalNancearchonreinforcinganchorage:Aclinicalstudyonbimaxillaryprotrusion【Abstract】AIM:TostudytheeffectoftranspalatalNancearchonreinforcinganchorageinthetreatmentofbimaxillaryprotrusion.METHODS:Atotalof34patients(aged12

2、-26years)alocclusionandbimaxillaryprotrusionolarineachquadrant.Lateralcephalometricradiographsandcastsentforanalysis.RESULTS:Theaverageforovementofthefirstmaxillarymolarm,butstilllessthan1/3oftheextractionspace.Thechangesinthebackovementandreductionoftheaxialinclinatio

3、noftheincisorsovementsoftheupperandlomand(5.52±4.62)mmrespectively.Thesofttissueprofile(LsE,LiE,CmSnLs,Pg′B′FH,A′LsFHandZangle)proved(P0.01).Theverticaldistanceofthefirstmaxillarymolartothepalatalplaneisaneffectiveandsimpleanchorageensionalanchoragefunction.Itcanbeused

4、asanoncooperativestronganchorageinthetreatmentofbimaxillaryprotrusion.【Keyaxillaryprotrusion;transpalatalarch;Nancearch;anchorage;extraction【摘要】目的:通過研究不依賴于患者配合的腭杠腭托口內(nèi)支抗系統(tǒng)矯治雙頜前突的臨床療效分析其支抗作用.方法:選取12~26歲安氏Ⅰ類雙頜前突患者34例,均在拔除4個第一前磨牙后,應(yīng)用標準方絲弓固定矯治技術(shù)治療,支抗設(shè)計采用腭杠腭托聯(lián)合支抗系統(tǒng)(橫腭桿+Nance

5、弓);分析治療前后X線頭顱側(cè)位定位片以及牙頜研究模型的各項指標變化.結(jié)果:磨牙平均前移(1.50±0.85)mm,但未達到拔牙間隙的1/3;上下切牙平均內(nèi)收量分別為(4.73±2.64)mm和(5.52±4.62)mm;雙頜前突軟組織側(cè)貌有較大改善(LsE,LiE,CmSnLs,Pg′B′FH,A′LsFH,Z角的改變.freelo.支抗設(shè)計采用腭杠腭托聯(lián)合支抗系統(tǒng),即橫腭桿+Nance弓.治療前后分別為每位患者拍攝X線頭顱側(cè)位定位片并取牙頜研究模型,由一名醫(yī)師在1mo內(nèi)統(tǒng)一描圖定點測量兩次,取兩次結(jié)果的平均值作為最后數(shù)據(jù).頭顱側(cè)位

6、定位片測量指標:①矢狀向指標[4]6uCRSv:上頜第一磨牙根分叉區(qū)到Sv的距離;6uAPSv:上頜第一磨牙近中頰根根尖到Sv的距離;6uSv:上頜第一磨牙近中接觸點到Sv的距離;1uAPSv:上頜中切牙根尖到Sv的距離;1uSv:上頜中切牙切緣到Sv的距離;1lAPSv:下頜中切牙根尖到Sv的距離;1lSv:下頜中切牙切緣到Sv的距離;Sv即過S點所作腭平面的垂線.②垂直向指標[4]6uPP:上頜第一磨牙的頰溝到腭平面的距離;GoGnSN:下頜平面角;ALFHAFH:下面高與全面高之比.③軟組織指標[5-7]LsE:上唇審美平面距

7、;LiE:下唇審美平面距;CmSnLs:鼻唇角;A′LsFH:上唇傾角;B′LiFH:下唇傾角;Pg′B′FH:頦溝傾角;FHN′Pg′:軟組織面角;GSnPg′:面凸角;Z角:過Pg′與較突的唇相切與FH相交的下后角.④硬組織指標SNA:上齒槽座角;SNB:下齒槽座角;ANB:上下齒槽座角;UISN:前顱底上中切牙角;UINA:上中切牙NA線角;LINB:下中切牙NB線角;UILI:上下中切牙交角.牙頜研究模型測量指標[8]:上頜第一磨牙矢狀距:上牙槽嵴前座點至第一磨牙中央窩連線垂直距離;上頜中切牙矢狀距:上牙槽嵴前座點至中切牙切

8、緣連線垂直距離;上頜第一磨牙間寬度:兩側(cè)第一磨牙中央窩之間的距離.統(tǒng)計學(xué)分析:使用統(tǒng)計學(xué)軟件SPSS10.0對測量所得數(shù)據(jù)進行組內(nèi)配對t檢驗.2結(jié)果腭杠腭托聯(lián)合支抗在矢狀向、水平向、垂直向上支抗控制較好,支抗喪失較少,拔牙間隙基本可被

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