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《光刻實(shí)用實(shí)用工藝》由會(huì)員上傳分享，免費(fèi)在線閱讀，更多相關(guān)內(nèi)容在工程資料-天天文庫(kù)。
1、實(shí)用標(biāo)準(zhǔn)文案光刻工藝'B)V!y,V0s'@'X5w*R'j!w5_8C:P/A光刻工藝是半導(dǎo)體制造中最為重要的工藝步驟之一。主要作用是將掩膜板上的圖形復(fù)制到硅片上，為下一步進(jìn)行刻蝕或者離子注入工序做好準(zhǔn)備。光刻的成本約為整個(gè)硅片制造工藝的1/3，耗費(fèi)時(shí)間約占整個(gè)硅片工藝的40～60%。4b-~7@%U;Y"W5T4j:f2}光刻機(jī)是生產(chǎn)線上最貴的機(jī)臺(tái)，5～15百萬美元/臺(tái)。主要是貴在成像系統(tǒng)（由15～20個(gè)直徑為200～300mm的透鏡組成）和定位系統(tǒng)（定位精度小于10nm）。其折舊速度非?？?/p>
2、，大約3～9萬人民幣/天，所以也稱之為印鈔機(jī)。光刻部分的主要機(jī)臺(tái)包括兩部分：軌道機(jī)（Tracker），用于涂膠顯影；掃描曝光機(jī)（Scanning)$S!5^,d,r$n(R#C*^光刻工藝的要求：光刻工具具有高的分辨率；光刻膠具有高的光學(xué)敏感性；準(zhǔn)確地對(duì)準(zhǔn)；大尺寸硅片的制造；低的缺陷密度。6a3w6u7X5e0Y6`9E光刻工藝過程#H:@#b4L/Y6K3v7F#B一般的光刻工藝要經(jīng)歷硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻膠、軟烘、對(duì)準(zhǔn)曝光、后烘、顯影、硬烘、刻蝕、檢測(cè)等工序。:P(q"C$u,@
3、8J4F8P&I/K6H1、硅片清洗烘干（CleaningandPre-Baking）;c(G3G!P.r*W4
