tiolt2gt薄膜的制備及其性能研究

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1、摘要摘要在眾多半導(dǎo)體催化材料中,Ti02具有催化活性高、氧化能力強(qiáng)、及光穩(wěn)定性高等特性,成為最常用的一種半導(dǎo)體催化材料。隨著世界范圍內(nèi)環(huán)境問(wèn)題的日益嚴(yán)重,利用Ti02光催化劑進(jìn)行環(huán)境凈化已經(jīng)引起了廣泛的重視。當(dāng)前,Ti02光催化劑的應(yīng)用主要集中在水和空氣的凈化和處理。然而,傳統(tǒng)粉體Ti02光催化劑在應(yīng)用中存在許多缺點(diǎn),如反應(yīng)過(guò)程中必須攪拌、反應(yīng)后催化劑難于分離和回收等。Ti02薄膜光催化劑可以克服這些缺點(diǎn)并拓展其工業(yè)用途,如用作抗菌陶瓷釉面磚、自潔凈玻璃等。目前用作催化劑的Ti02薄膜大多數(shù)采用溶膠一凝膠法制備,雖然這種成膜方法比較成熟,可以應(yīng)用在生產(chǎn)中,但其也具有一定的缺

2、點(diǎn),主要是所制備薄膜必須經(jīng)過(guò)后期熱處理I藝才能具有光催化性能,因此限制了Ti02光催化薄膜的應(yīng)用范圍。為了解決溶膠一凝膠法制備的Ti02薄膜需經(jīng)過(guò)熱處理這一缺點(diǎn),本論文利用直流脈沖磁控濺射方法在室溫下制備Ti02薄膜,并用X射線衍射(XRD)測(cè)試了Ti02薄膜的晶體結(jié)構(gòu),用原子力顯微鏡(AFM)N試了Ti02薄膜的表面形貌,用紫外一可見(jiàn)光譜(UV一Ⅵs)測(cè)試了Ti02鍍膜玻璃的透光率及Ti02薄膜對(duì)甲基橙溶液的降解效率。通過(guò)上述表征方法,研究直流脈沖磁控濺射法制備工藝、Ti02薄膜微觀結(jié)構(gòu)及表面形貌等對(duì)其透光性、光催化性能、親水性能的影響等,結(jié)果發(fā)現(xiàn):1.制備Ti02薄膜時(shí)

3、,在其他條件不變的情況下,隨著02/Ar流量比的增加,薄膜的沉積速率單調(diào)降低,Ti02薄膜的結(jié)晶質(zhì)量不斷提高,銳鈦礦(101)面的衍射峰的強(qiáng)度逐漸增強(qiáng),Ti02薄膜表面顆粒不斷增大,薄膜對(duì)水的接觸角不斷降低,Ti02薄膜的對(duì)甲基橙的降解率隨著02/Ar比,例的增大先增大后減小,在02/ArL匕例為6/14時(shí)Ti02薄膜的對(duì)甲基橙的降解率取得最大值,為29.32%(退火前),因此在制備具有光催化活性的Ti02薄膜時(shí),02/At比例不宜過(guò)大:2.制備Ti02薄膜時(shí),在其他條件不變的情況下,隨著真空室內(nèi)工作壓強(qiáng)的增加,Ti02薄膜的沉積速率單調(diào)降低;平均透過(guò)率隨著工作氣壓的增大。

4、在本實(shí)驗(yàn)范圍內(nèi)∞.5~1.4pa),工作氣壓的增大,能夠提高Ti02薄膜的結(jié)晶質(zhì)量,隨著工作氣壓的增大,銳鈦礦(101)面的結(jié)晶性變好;同時(shí)當(dāng)濺射氣壓較高時(shí),Ti02薄膜結(jié)構(gòu)疏松,表面粗糙,比表面積增大。多孔結(jié)構(gòu)使薄膜的光電化學(xué)反應(yīng)面積增大,吸附水能力增強(qiáng),因此對(duì)甲基橙的降解率增強(qiáng),Ti02薄膜對(duì)甲基橙的降解率隨工作氣壓的升高而增大,且Ti02薄膜的親水性也隨工作氣壓的升高而變好。關(guān)鍵詞:Ti02薄膜;脈沖磁控濺射;光催化活性,光致親水性大連交通大學(xué).1:學(xué)碩士學(xué)何論文AbstractInnianysemiconductorcatalyst,Ti02asacommonlys

5、emiconductorcatalyticmaterialhascharacteristicsofhi【ghcatalyticactivity,oxidativecapacityandhighstability.Sincetheenvironmentinthewholeworlddeteriorates,usingTi02Photocatalyststopurifyenvironmentisemphasized.Currentapplicationisfocusedonthepourficationandthetreatmentofwaterandair,However,t

6、hereexistmanydefectsintheuseofconventionalpowderphotocatalysts,suchasstirringduringtheprocess,SegregatingafterthereactionandSOon.Ti02filmphotocatalystscanbeusedtoovercomethesedefectsandextenditsindustrialapplication.PresentmethodusedtoprepareTi02filmsmostlyincludessol-gelmethod.Thefilmspre

7、paredbythismethodareneedheattreatment,thenfilmshavethecharacteristicsofphotocata!yticactivity.Inordertosolvethefilmsqualityproblemintraditionalsol-gelmethod,thispaperaimsattheresearchofTi02filmspreparedonthesodalimeglass(SLG)substratesbydirectcurrentpulsemagne

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