電沉積鎳基銅基納米復(fù)合鍍層制備、組織結(jié)構(gòu)與性能研究

電沉積鎳基銅基納米復(fù)合鍍層制備、組織結(jié)構(gòu)與性能研究

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1、電沉積鎳基/銅基納米復(fù)合鍍層制備、組織結(jié)構(gòu)與性能研究摘要納米復(fù)合電沉積是一種新興的復(fù)合表面技術(shù),通過將納米粒子引入金屬鍍液中形成的納米復(fù)合鍍層,顯示出優(yōu)越的機(jī)械性能、電催化性能、耐腐蝕性能等,正逐漸成為研究的熱點(diǎn)。本文介紹了納米復(fù)合鍍層的制造技術(shù)和研究現(xiàn)狀,并探討了Ni—w.(si,N。/A1203)和Cu.(A1203/si02)納米復(fù)合鍍層的配方和工藝條件,考察了納米微粒的添加量、分散劑、分散方法、PH值、電流密度、施鍍條件等因素對施鍍工藝和鍍層外觀的影響。并在此基礎(chǔ)上,闡述了納米顆粒與金屬共沉積的機(jī)理。在實(shí)驗(yàn)中,測試了納米復(fù)合鍍層的硬度,研究了多種

2、分散方法對納米復(fù)合鍍層中的納米顆粒分散性的作用。同時(shí)用x光電子能譜分析、x射線衍射、掃描電鏡和透射電鏡等手段研究表征了鎳基/銅基納米復(fù)合鍍層的組成與結(jié)構(gòu);并通過腐蝕失重、測定陽極極化曲線和電化學(xué)阻抗譜等方法研究了納米復(fù)合鍍層的性能。隨電流密度的增大,Ni—w-si3N4納米復(fù)合鍍層中納米si3N4的含量不斷提高,當(dāng)電流密度提高到20A/dm2時(shí),鍍層中si3N4的質(zhì)量分?jǐn)?shù)達(dá)到8.3%,鍍層質(zhì)量較好。電流密度增大,Ni—W.A1203納米復(fù)合鍍層中納米A1203的含量不斷提高,當(dāng)溫度大于到75℃后,增長速度趨緩;沉積時(shí)間增加,Cu.(A1203/si02)

3、納米復(fù)合鍍層中微粒復(fù)合量也不斷增加。結(jié)果表明:超聲波分散方法可以使納米粒子充分分散,分布較均勻而且鍍層復(fù)合量高,從而使鍍層表現(xiàn)出較好的組織及性能。在3.5耐%Nacl溶液中,Ni—W.A1203納米復(fù)合鍍層具有良好的耐蝕性。關(guān)鍵詞:電沉積納米顆粒復(fù)合鍍復(fù)合鍍層組織結(jié)構(gòu)耐蝕性電化學(xué)阻抗譜StudyonthePreparation,MicrostructHreandPerfornlanceofNi/Cu—basedNano-CompositeCoatingsbyElectrodepositionAbstractCompositeelectrodepositi

4、onwithnano—particlesisadeVelopingsurfacetechnology.Nano—compositecoatingisshowingmoreandmOreexcellentperformance,suchasmechanicalperformance,catalyticperformance,corrosiveprotectiveperformancda11dsoon.A11ofthishasboughtawiderangeinvestigationonit.‘Inthispaper,themanufhcturetechn0

5、109yandcurrentstudyofelectrodepositedcompositecoatingswereintroduced.ThecompositionandtechnologiesofthecompositecoatingNi-’輔,-nano(Si3N4/A1203)andCu—nano(A1203/Si02)werestudied.Theeffectsofmainfhctors(addingquantityofnano—Si3N4,dispersemethods,currentdensity,dispersingagent)onthe

6、quaIityofNi一、nSi3N4cOmpositecoatingsanddepositionvelocitywerealsodealtwith.Basedofit,codepositionmechanismOfnano—particleswithmetalionswasimroduced.ManydispersjOnmethodsonthenanometerparticleforelectr01esscompositecoatingshavebeenstudiedinthispaper'Atthesametime,themicrostructure

7、sandcomponentsofthecompositecoatingNi一、^Lnano(si3N4,A1203)andcu·nano(A1203/Si02)werecharacterizedbyEDS、XRDandSEMaswellasTEMTechniques.ItSperformancewasstudiedbymeasuringmicrohardness,weightJossmethod,anodicpolarizationcurVeandEIS.TheresuItsshowedthatthewt%ofthenano·particlesinthe

8、depositediayefincreasedasthewt%ofthenanO

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