實(shí)驗(yàn)晶體管功率增益和噪聲系數(shù)的測量

實(shí)驗(yàn)晶體管功率增益和噪聲系數(shù)的測量

ID:34093698

大小:396.00 KB

頁數(shù):14頁

時(shí)間:2019-03-03

實(shí)驗(yàn)晶體管功率增益和噪聲系數(shù)的測量_第1頁
實(shí)驗(yàn)晶體管功率增益和噪聲系數(shù)的測量_第2頁
實(shí)驗(yàn)晶體管功率增益和噪聲系數(shù)的測量_第3頁
實(shí)驗(yàn)晶體管功率增益和噪聲系數(shù)的測量_第4頁
實(shí)驗(yàn)晶體管功率增益和噪聲系數(shù)的測量_第5頁
資源描述:

《實(shí)驗(yàn)晶體管功率增益和噪聲系數(shù)的測量》由會(huì)員上傳分享,免費(fèi)在線閱讀,更多相關(guān)內(nèi)容在應(yīng)用文檔-天天文庫

1、晶體管基極電阻的測量晶體管基極電阻rbb’(器件物理中常用rb表示是晶體管的重要參數(shù)之一。它的存在對(duì)晶體管的噪聲特性、功率增益和發(fā)射區(qū)電流分布都有不良的影響,在研制和生產(chǎn)中總是要求rbb’盡可能小,對(duì)低噪聲晶體管尤其如此。測量rbb’通常有兩種方法。第一種是“基極輸入信號(hào)法”。它是將高頻信號(hào)加在被測晶體管的基極和發(fā)射極之間,然后測出輸出短路時(shí)共發(fā)射極輸入阻抗的實(shí)部,在T和re<

2、高。第二種方法稱為“反向注入信號(hào)法”[1]。它是將高頻信號(hào)加在被測管收集極和基極之間,而令發(fā)射極對(duì)交流開路,然后測出發(fā)射極電壓Ve,并與基極已知串聯(lián)電阻Rb的電壓Vb比較。此法簡單,可在頻率不太高的條件下測量。此外,還有電橋零電壓法[2]。當(dāng)被測管時(shí),測量rbb’就要采用分布參數(shù)電路[3]。本實(shí)驗(yàn)的目的是掌握測量基極電阻的反向注入信號(hào)法,了解基極電阻測量值隨頻率變化的規(guī)律。一、實(shí)驗(yàn)原理反向注入信號(hào)法測rbb’的原理見圖1。測試在高頻小信號(hào)下進(jìn)行,已知基極串聯(lián)電阻Rb與rbb’作對(duì)比。收集極c接輸出電壓為V2的高頻信

3、號(hào)源Eg。在V2作用下,可得發(fā)射極高頻電壓Ve、基極高頻電壓Vb及rbb’上的電壓Vb’。圖2是晶體管高頻應(yīng)用時(shí),其內(nèi)部作用機(jī)理的等效電路。rbb’表示基極與基區(qū)之間的等效電阻(在結(jié)構(gòu)上由內(nèi)基區(qū)電阻、外基區(qū)電阻和電極接觸電阻組成),rce為基區(qū)寬度調(diào)變引起的等效反饋電阻。由圖1和圖2可導(dǎo)出(見本實(shí)驗(yàn)附錄)式(1)式中,,,,選擇測試頻率,使這樣,圖27.2中的Cc和rc可從圖中去掉,并使反向注入信號(hào)滿足恒流條件,式(1)可化簡為(2)當(dāng)取發(fā)射極電流時(shí),,選Rb,使RB比rc大很多;對(duì)平面管,遠(yuǎn)大于幾十千歐:在測試頻

4、率地為幾兆赫,對(duì)為幾個(gè)微微法以上的晶體管,式(2)的虛部可以忽略,可進(jìn)一步簡化為把代入上式,得(3)圖3為的測量值隨頻率變化的示電圖。隨頻率升高,開始下降較快,往后幾乎不變,取此時(shí)的值。圖4是測試的實(shí)際電路圖。其中為高頻信號(hào)源,mV為高頻微伏表,mA為直流電流表。二、實(shí)驗(yàn)內(nèi)容1.在不同頻率下測量Ve和Vb。2.作(Ve/Vb)-1~f關(guān)系曲線。3.求出rbb’值。三、實(shí)驗(yàn)步驟1.調(diào)整被測晶體管的工作點(diǎn)Vb和Ie,取Ie=1mA2.接通高頻信號(hào)源及高頻微伏表電源,按說明書要求調(diào)整儀器。3.從信號(hào)源“75負(fù)載輸出”輸出

5、的信號(hào)按圖27.4接到被測晶體管的收集極與地之間,輸出電壓保持1V。4.高頻微伏表的靈敏度調(diào)整好以后,將其探頭接到開關(guān)S1與地之間。5.在fT/20

6、4期,P47,1980.附錄式(27.1)的導(dǎo)出參閱圖5,設(shè)Za<

7、C1、gce、RB和所代表的意義見式(27.1)后面的符號(hào)說明??紤]到在正常工作電流、工作電壓和工作頻率范圍下,,成立,式(6)可簡化為(7)適當(dāng)選擇和測試頻率,使上式的虛部小于實(shí)部1/5,就可忽略虛部,得(8)這就是式(27.3).應(yīng)該指出,上式是假設(shè)反向注入的全部流經(jīng)整個(gè)而得到的,但這一假設(shè)實(shí)際上不完全成立,特別是對(duì)于硅外延平面管。因?yàn)榘雌矫婀艿膸缀谓Y(jié)構(gòu),整個(gè)的一側(cè)都是以收集結(jié)空間電荷區(qū)的基區(qū)一側(cè)的邊界為界面,由于收集結(jié)這一分布結(jié)電容的影響,收集疆界面的任何一處都有流回基極的反向注入電流通過。也就是說,中的這一

8、部分并未流經(jīng)整個(gè),而是只流過的一部分就到了基極,這樣就使測出的偏小。盡管目前測尚無一普遍適用的完善方法,但本實(shí)驗(yàn)介紹的方法對(duì)器件的研制和使用仍然有一定的指導(dǎo)作用。晶體管功率增益和噪聲系數(shù)的測量晶體管的功率增益定義為輸出功率和輸入功率之比,它表征晶體管功率放大的能力,是功率晶體管的主要參數(shù).在輸入、輸出阻抗匹配條件下測量的功率增益為晶體管最大功率增益。晶體管的

當(dāng)前文檔最多預(yù)覽五頁,下載文檔查看全文

此文檔下載收益歸作者所有

當(dāng)前文檔最多預(yù)覽五頁,下載文檔查看全文
溫馨提示:
1. 部分包含數(shù)學(xué)公式或PPT動(dòng)畫的文件,查看預(yù)覽時(shí)可能會(huì)顯示錯(cuò)亂或異常,文件下載后無此問題,請(qǐng)放心下載。
2. 本文檔由用戶上傳,版權(quán)歸屬用戶,天天文庫負(fù)責(zé)整理代發(fā)布。如果您對(duì)本文檔版權(quán)有爭議請(qǐng)及時(shí)聯(lián)系客服。
3. 下載前請(qǐng)仔細(xì)閱讀文檔內(nèi)容,確認(rèn)文檔內(nèi)容符合您的需求后進(jìn)行下載,若出現(xiàn)內(nèi)容與標(biāo)題不符可向本站投訴處理。
4. 下載文檔時(shí)可能由于網(wǎng)絡(luò)波動(dòng)等原因無法下載或下載錯(cuò)誤,付費(fèi)完成后未能成功下載的用戶請(qǐng)聯(lián)系客服處理。