細(xì)長(zhǎng)管內(nèi)腔空心陰極放電等離子體離子注入%2f沉積的研究

細(xì)長(zhǎng)管內(nèi)腔空心陰極放電等離子體離子注入%2f沉積的研究

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1、國(guó)內(nèi)圖書分類號(hào):TG174.444學(xué)校代碼:10213國(guó)際圖書分類號(hào):621.193密級(jí):公開工學(xué)博士學(xué)位論文細(xì)長(zhǎng)管內(nèi)腔空心陰極放電等離子體離子注入/沉積研究博士研究生:姜海富導(dǎo)師:楊士勤教授副導(dǎo)師:田修波教授申請(qǐng)學(xué)位:工學(xué)博士學(xué)科:材料加工工程所在單位:材料科學(xué)與工程學(xué)院答辯日期:2009年10月授予學(xué)位單位:哈爾濱工業(yè)大學(xué)ClassifiedIndex:TG174.444U.D.C:621.193DissertationfortheDoctoralDegreeinEngineeringPLASMAIONIMPLANTATION/DEPOSITIONINSLENDERBORESUSIN

2、GHOLLOWCATHODEDISCHARGECandidate:JiangHaifuSupervisor:Prof.YangShiqinViceSupervisor:Prof.TianXiuboAcademicDegreeAppliedfor:DoctorofEngineeringSpeciality:MaterialsProcessingEngineeringAffiliation:SchoolofMaterialsScienceandEngineeringDateofDefence:October,2009Degree-Conferring-Institution:HarbinIn

3、stituteofTechnology摘要摘要管筒件內(nèi)表面處理一直是等離子體表面改性領(lǐng)域的難題,特別是內(nèi)徑較細(xì)及長(zhǎng)徑比較大的管件,等離子體難以進(jìn)入管件內(nèi)部,因而處理難度較大。針對(duì)這個(gè)問題,本文提出了一種新的有效的管件內(nèi)表面處理的方法,空心陰極等離子體源內(nèi)表面改性法。本文首先研究了空心陰極放電等離子體特性,并對(duì)平面工件進(jìn)行了等離子體處理。同時(shí),通過等離子體粒子模型研究了空心陰極管內(nèi)注入等離子體動(dòng)力學(xué)行為,在此基礎(chǔ)上對(duì)管件內(nèi)表面進(jìn)行了DLC膜層沉積及等離子體注氮研究。基于空心陰極放電現(xiàn)象,本文研制了復(fù)合地電極空心陰極管內(nèi)表面放電系統(tǒng),該系統(tǒng)可以在Ф20×500mm規(guī)格的細(xì)長(zhǎng)管內(nèi)部產(chǎn)生穩(wěn)定的等

4、離子體,能夠?qū)崿F(xiàn)管件內(nèi)表面薄膜沉積及氮離子注入??招年帢O放電等離子體特性研究結(jié)果表明:在自由狀態(tài)空心陰極的放電結(jié)構(gòu)下,陰極前端徑向電流密度隨徑向距離的增加逐漸降低,RF功率的增加導(dǎo)致電流密度增加。在管件約束的空心陰極結(jié)構(gòu)下,管內(nèi)軸向等離子體密度隨距陰極前端口距離的增加逐漸降低。隨氣體流量和氣壓的增加,等離子體密度先增大后減小。大直徑及較短的管件會(huì)提高管內(nèi)軸向等離子體密度的均勻性。采用小內(nèi)徑空心陰極時(shí),管內(nèi)相同位置等離子體密度最高。相對(duì)于管件懸浮的情況,管件接地后,等離子體密度明顯提高。屏蔽地電極的加入增加了空心陰極的起輝難度。RF功率相同時(shí),隨著屏蔽地電極出口與空心陰極嘴距離的增加,管內(nèi)

5、相同位置等離子體密度升高;隨著屏蔽地電極內(nèi)徑的增大,等離子體密度先增加后降低,且都高于無(wú)屏蔽地電極結(jié)構(gòu)。利用空心陰極等離子體源,成功的在直徑Ф20mm不銹鋼圓片表面沉積了TiN及DLC膜層,并進(jìn)行了氮離子注入。結(jié)果表明:隨樣品施加偏壓的升高,TiN(111)晶向擇優(yōu)生長(zhǎng)。薄膜表面呈現(xiàn)島狀結(jié)構(gòu),粗糙度較低,在樣品表面范圍內(nèi),TiN膜層厚度及晶粒尺寸較為均勻。所有制備的DLC薄膜都具有良好的耐磨性能。-50V3偏壓處理的DLC薄膜厚度最大,sp鍵含量較多,硬度最高。注氮處理后,不銹鋼樣品的耐腐蝕性能得到了不同程度的提高。15kV注入的樣品具有較高的硬度和良好的耐磨性能。針對(duì)空心陰極等離子體,

6、利用二維等離子體粒子模型系統(tǒng)研究了管筒內(nèi)表面離子注入的動(dòng)力學(xué)行為。中心輔助地電極的引入使管件內(nèi)部建立了徑向電場(chǎng),提高了-I-哈爾濱工業(yè)大學(xué)工學(xué)博士學(xué)位論文注入離子的徑向速度,有利于取得良好的改性效果。采用較長(zhǎng)尺寸的中心地電極及小內(nèi)徑的屏蔽地電極有利于注入離子徑向速度的提高。管上施加電壓的提高使注入離子的徑向速度增加,但注入劑量變化不大。等離子體密度的提高使離子注入的徑向速度減小,但注入劑量顯著增加。采用復(fù)合地電極空心陰極等離子體源實(shí)現(xiàn)了內(nèi)徑Ф20mm-Ф40mm,長(zhǎng)140mm管件內(nèi)表面改性,包括DLC薄膜的制備及氮離子注入。定點(diǎn)處理的方式可以獲得1-2μm厚的DLC膜層,最大沉積率為65

7、.7nm/min。拉曼光譜顯示所有的DLC膜都-1-1存在兩個(gè)寬峰,即1590cm附近的G峰及1370cm附近的D峰。隨著樣品偏壓及氣壓的升高,DLC薄膜的厚度都呈現(xiàn)先增大后減小的趨勢(shì)。4kV及6kV定點(diǎn)處理的樣品Id/Ig值較低,耐磨性能較好。而在氣壓變化的條件下,0.8Pa及1.0Pa處理的樣品具有較好的耐磨性能。整管處理時(shí),管件內(nèi)徑越小,處理的時(shí)間越長(zhǎng),膜層越厚,耐磨性能越好。XPS分析結(jié)果表明不銹鋼樣品表面形成了FeN及Cr

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