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《靶材及其應(yīng)用_夏慧》由會(huì)員上傳分享，免費(fèi)在線閱讀，更多相關(guān)內(nèi)容在行業(yè)資料-天天文庫。
1、中國有色金屬學(xué)會(huì)第三屆學(xué)術(shù)會(huì)議論文集革巴材及其應(yīng)用夏慧韓雪吳麗君,(北京有色金屬研究總院北京一00055)義和靶材的應(yīng)用分類、靶材應(yīng)用的技術(shù)要求、靶材的制造工藝、靶摘要從濺射靶材的物理意材與底盤的連接方式及要求、靶材的市場銷售、靶材的發(fā)展等幾個(gè)方面進(jìn)行了評述。重點(diǎn)評述了用于,。微電子產(chǎn)業(yè)的半導(dǎo)體關(guān)聯(lián)靶材及透明導(dǎo)電用ITO靶材最后提出了研究與開發(fā)靶材的幾點(diǎn)看法關(guān)鍵詞靶材濺射薄膜濺射可以在任何物質(zhì)上發(fā)生,尤其是對于道,美國跨國公司的直接投資發(fā)生了重大變高熔點(diǎn)、低氣壓元素和化合物更適合。直流電化,它們紛紛花大筆的錢在一些經(jīng)濟(jì)增長很快通,
2、“”,,常用于濺射導(dǎo)電靶材高頻電通常用于濺射的國家建立消費(fèi)網(wǎng)從生產(chǎn)轉(zhuǎn)向營銷建網(wǎng)非。:。導(dǎo)電靶材濺射的特點(diǎn)如下點(diǎn)拓展市場(1)膜與基體的附著性比真空蒸鍍強(qiáng),這是由于基體在等離子體中受嚴(yán)格的濺射清洗;1靶材的應(yīng)用(2)膜的生成速率與靶材、電極幾何形狀。和高頻功率有關(guān)幾乎所有的材料都可作為靶濺射最顯著的特點(diǎn)是它的普遍適用性,因;材來濺射為作為靶材涂覆到基片上是一種化學(xué)力或熱力,(3)濺射時(shí)原子從各方向向基材射入所學(xué)方法,把靶材在濺射過程中變成氣相,緊密,;以鍍膜致密疏松少地沉積在基片上,任何材料都能夠被濺射上。,(4)靶材可以是金屬也可
3、是非金屬或化因此,濺射的應(yīng)用范圍是很大的,重要的應(yīng)用;:合物包括如下的薄膜,(5)濺射時(shí)工作溫度低尤其應(yīng)用到塑料(l)用于數(shù)據(jù)存儲磁帶的磁性材料,其典;一、一一,上濺射更好型材料是CONiTbFe及CoN卜Cr及最近,一一一(6)工作零件表面凹凸不平有l(wèi)mm以發(fā)展的CoCrTaPt;下的狹縫均可很好地濺射成膜。(2)用于透鏡特征的光學(xué)材料,其典型材ve,、濺射現(xiàn)象是1842年由Gro發(fā)現(xiàn)的料是CeMgO及MgF::姚1870年開始實(shí)際應(yīng)用,廣泛用于工業(yè)化是(,3)用于降低摩擦的i閏滑材料其典型材。1930、年川現(xiàn)在世界上已形成多家
4、靶材專業(yè)料是MoSZWSZ及PTFE;,公司,且具相當(dāng)規(guī)模。隨著電子薄膜、光學(xué)薄(4)延長切割工具壽命的耐磨損材料其、、、、膜光電薄膜磁性薄膜超導(dǎo)薄膜等在高新典型材料是TINTIC及ZrBZ;技術(shù)和工業(yè)上大規(guī)模的開發(fā)應(yīng)用,靶材已逐漸(5)微電路的金屬材料,其典型材料是,、一、一、一形成一個(gè)產(chǎn)業(yè)每年有10億美元左右的產(chǎn)AiWTi川51AICu等;。,,6),值同時(shí)隨著濺射設(shè)備越來越先進(jìn)科學(xué)技(透明導(dǎo)電材料其典型材料是術(shù)對特殊薄膜的需要越來越大,世界各國還將‘玩203一ysno:的一種陶瓷性材料;繼續(xù)對靶材進(jìn)行研究開發(fā),以獲得最大利潤
5、。(7)薄膜電阻材料,其典型材料為Ni-“”r、r一r一;據(jù)19%年6月14日美國亞洲華爾街日報(bào)報(bào)CC51及C510:夏慧等靶材及其應(yīng)用,,,。(8)非晶氣泡存儲器件材料其典型材料TINZrN等等一、u3es123a5,:;是GdCOLFO及GdGO表1金屬類靶材性能,(9)微電子遮蔽消除脈沖材料最典型的理論密度溶點(diǎn)r;標(biāo)準(zhǔn)純度/%一制備法是金屬C/『帥〕/℃:..(10)其他應(yīng)用靶材包括微電子的氧化物,Al999999999,124514531410168190452187514951536姚20..;一絕緣層用于集成光學(xué)儀器的
6、非晶光學(xué)薄膜Sb99599999..、、‘.,壓電變;Bi99599999換器及光電導(dǎo)體用于顯示儀器上的分.一。一.‘.且.幾,‘B9(〕9294腸995,一光膜;光學(xué)尋址存儲器的薄膜;電視磁盤的薄..,Cd99599999。193瓦認(rèn)象膠丘么仇工903263186519犯10;固體電解質(zhì)薄膜;膜激光薄膜..r,.,C9989995123、常用靶材6種分類包括半導(dǎo)體關(guān)聯(lián)靶材o.C999、、、磁記錄靶材光學(xué)靶材顯示靶材電子靶..u,C999999999、,。1..材超導(dǎo)靶材等見文獻(xiàn)【]Ge,99999999999.u、A999999
7、999.C995.2999靶材的性能Hf99.9(共生Zr)..n.I999999999用于制備各種用途的靶材有一般金屬及合.eF999、、、、、金難熔金屬硅化物氟化物硼化物碳PL99.999、、、、化物氟化物硒化物硫化物啼化物等Mg99.999.991210下色L7439040加。[’]n.等M9995.2.1金屬類Mo9995...。9999997金屬類靶材的材料如表1所示Ni..,9999999952.2合金和金屬化合物Nb999。此類靶材的性能如表2所示...Pd卯999952.3.氧化物類r,P9999995加212屯變
8、化503創(chuàng)45豹,,-此類薄膜材料有A12O3SbZO3BaaRE999(共生T),Z3,ZL;,43;2,eZ,.BiTieTi仇B(yǎng)iOT咕OBiOCOR9999u.rZ3,aZ3,3一uZ,3512,R999COGOXVOxEOYA1O等。59
