固態(tài)相變原理考試復(fù)習(xí).pdf

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1、固態(tài)相變原理考試復(fù)習(xí)1.固態(tài)相變的特點主要有哪些(1)相變阻力大。在固態(tài)相變時,兩相間形成新的界面,并且由于新母相的比容不同會消耗能量。即由共格應(yīng)變能和比容差應(yīng)變能所組成的應(yīng)變能與界面能的總和構(gòu)成了固態(tài)相變的阻力;(2)具有某些晶體學(xué)特征:新相與母相間往往存在一定的位相關(guān)系,如K-S關(guān)系等,而且新相往往是在母相一定的晶面族(慣習(xí)面)上形成(慣習(xí)現(xiàn)象),慣習(xí)面的存在意味著在該晶面上新相和母相的原子排列很接近,能較好的匹配,有助于減少兩相間的界面能;(3)形成過渡相:是固態(tài)相變減少相變阻力的重要途徑之一,過渡相在成分和結(jié)構(gòu)上更接近于母相,兩相易于形成共格或半共格

2、界面,以減少界面能,降低形核功,使形核易于進(jìn)行,但是過渡相的自由能高于平衡相的自由能,故在一定條件下仍有繼續(xù)轉(zhuǎn)變?yōu)槠胶庀嗟目赡堋@鏏l-Cu合金中,α相→GP區(qū)→θ”→θ‘→θ;(4)新相長大過程中界面類型會發(fā)生變化,一般形核時形成共格或半共格界面,長大到一定尺寸后共格關(guān)系被破壞,形成非共格界面;(5)擴(kuò)散激活能大,擴(kuò)散系數(shù)較?。唬?)晶體缺陷有顯著影響,缺陷周圍存在畸變能,易于提供額外相變驅(qū)動力,故缺陷處利于形核,此外晶體缺陷對晶核的生長和組元擴(kuò)散過程也有促進(jìn)作用;(7)受外界能量場的影響,如應(yīng)力場、電磁場等,提供能量,促進(jìn)或抑制形核。a)試對固態(tài)相變的

3、相變阻力進(jìn)行分析固態(tài)相變阻力包括界面能和應(yīng)變能,相變時形成新界面,比容不同都需要消耗能量。(1)界面能:是指形成單位面積的界面時,系統(tǒng)的赫姆霍茨自由能的變化值。與大小和化學(xué)dFdnidni鍵的數(shù)目、強度有關(guān)。=σ+∑μiσ為表面張力,μi為偏摩爾自由能,為由于界面dAdAdA面積改變而引起的晶粒內(nèi)部自由能變化.共格界面的化學(xué)鍵數(shù)目、強度沒有發(fā)生大的變化,σ最??;半共格界面產(chǎn)生錯配位錯,化學(xué)鍵發(fā)生變化,σ次之;非共格界面化學(xué)鍵破壞嚴(yán)重,兩相無匹配關(guān)系,σ最大。(2)應(yīng)變能:固態(tài)相變時新相與母相界面上的原子因強行匹配而在界面附近產(chǎn)生應(yīng)變能.①錯配度引起的應(yīng)變能(

4、共格應(yīng)變能):和新母相界面類型相關(guān),共格界面的應(yīng)變能最大,半共格界面次之,非共格界面最小。22②比容差引起的應(yīng)變能(體積應(yīng)變能):和新相的形狀有關(guān),E=MΔf(ca),球狀由于比3容差引起的應(yīng)變能最大,針狀次之,片狀最小。其中M為基體彈性模量,△為新相與基體中每個原子所占的體積分?jǐn)?shù)之差,析出相為圓盤狀時,厚度為b,半徑為r,記r/b=A;當(dāng)界面為非共格時,界面能=σ.S=2πAb2σ(A+1)=f(b2),應(yīng)變能≈0;323223),界面能≈0,E?為平均彈性模量,共格時:應(yīng)變能=E?δV==E?δπ(Ab)b=f(b22δ錯配度;2)=f(b3)時,b=b

5、4σ1當(dāng)f(bc=3Eδ2(1+A);bbc,形成非共格界面,阻力??;若過冷度很大,新相的臨界晶核尺寸很小,使單位體積新相的表面積很大,界面能增大居主要地位,此時兩相間傾向于形成共格/共格界面以降低界面能,但要使界面能的降低足以超過由于形成共格/半共格界面所引起的應(yīng)變能的增加,則傾向于析出盤狀新相以降低應(yīng)變能;若過冷度很小,新相的臨界晶核尺寸很大,使單位體積新相的表面積較小,相對應(yīng)變能增大居主導(dǎo),故兩相間傾向于形成非共格界面以降低應(yīng)變能,若兩相比容差很小,新相傾向于形成球狀以降低界面能,若比容差較大,則傾向于形成針狀以兼顧降

6、低界面能和比容差應(yīng)變能。b)分析晶體缺陷對固態(tài)相變中新相形核的作用固相中存在各種晶體缺陷,如空位、位錯、層錯、晶界及亞晶界等,如果在晶體缺陷處形核,隨著核的形成,缺陷將消失,缺陷的能量將釋放以供形核需要,使臨界形核功下降,故缺陷促進(jìn)形核。(1)空位:可通過加速擴(kuò)散過程或釋放自身能量提供形核驅(qū)動力而促進(jìn)形核,過飽和空位聚集崩塌形成位錯亦可促進(jìn)形核。(2)位錯:①在位錯線上形成新相,位錯線消失會釋放能量,促進(jìn)形核②位錯線不消失,依附在界面上,變成半共格界面上的位錯以補償錯配,減少應(yīng)變能。③位錯線附近溶質(zhì)原子易偏聚,形成濃度起伏,利于形核。④位錯是快速擴(kuò)散的通道,

7、降低擴(kuò)散激活能。⑤位錯分解為兩個不全位錯和其間層錯,使其層錯部分作為新相的核胚而有利于形核。Aaromon總結(jié):刃型位錯比螺型位錯更利于形核;較大柏氏矢量的位錯更容易形核;位錯可纏繞,割階處形核;單獨位錯比亞晶界上位錯易于形核;位錯影響形核,易在某些慣習(xí)面上形成。(3)晶界:晶界上易形核,減小晶界面積,降低形核界面能2.固態(tài)相變的分類主要有哪些(1)按熱力學(xué)分類,相變可分為一級相變和二級相變①一級相變:相變時兩相的自由能相等,化學(xué)位相等,但化學(xué)位的一階偏導(dǎo)數(shù)不相等,?μ1?μ2?μ1?μ2?μ?μ即G1=G2,μ1=μ2,()≠(),()≠()又()P=?S

8、,()T=V即為?TP?TP?PT?PT?T?PS1

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