羅門哈斯DesmearPTH操作手冊.doc

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1、羅門斯電子材料上海分公司化學(xué)沉銅工藝操作規(guī)范2011.3蘇州固寶得電子有限公司目錄章節(jié)內(nèi)容頁1化學(xué)沉銅工藝流程簡介22工藝目的33控制條件44化學(xué)品補充55配制槽液程序及用量6-96化學(xué)沉銅工藝生産綫線開工規(guī)則10-127化學(xué)沉銅工藝生産綫線停工規(guī)則138化學(xué)沉銅工藝生產(chǎn)線之停電或機械故障處理方法149化學(xué)沉銅工藝生產(chǎn)線之保養(yǎng)事項及程序15-1610化學(xué)沉銅工藝生產(chǎn)線藥品用量準(zhǔn)備1711品質(zhì)檢定方法及標(biāo)準(zhǔn)18-2012問題分析程序及原因21-231)化學(xué)沉銅工藝流程簡介膨鬆MLSweller除膠KMnO4預(yù)中和（硫酸、雙氧水）中和MLB216-5清潔3325微蝕NaPS

2、預(yù)浸C/P404ê活化CAT44ê速化19Eê化學(xué)沉銅C/P8802)工藝目的2.1MLSweller--膨鬆及調(diào)整樹脂表面使易于被KMnO4蝕刻.2.2除膠劑--通過KMnO4對樹脂之蝕刻以清除鑽孔留下之膠渣及粗化孔壁.2.3中和劑MLB216-5--清除KMnO4殘留下之MnO2確保孔壁為最佳狀態(tài).2.4.清潔劑3325--調(diào)整孔壁的表面使催化劑易于吸附.2.5.微蝕NaPS--蝕刻孔壁內(nèi)層及板面的銅層,具有良好結(jié)合條件.2.6.預(yù)浸劑CP404--調(diào)整銅面及保護催化缸槽液.2.7.催化劑CAT44--是一種膠體狀的錫化鈀,它可以使沒有導(dǎo)電性能的表面,具有金屬導(dǎo)電性

3、能及催化沉銅反應(yīng).2.8.化學(xué)銅CP880--通過催化鈀之作用使在孔壁及銅面沉積一層細緻的銅層以便加厚鍍銅.3)控制條件工序控制項目控制範(fàn)圍標(biāo)準(zhǔn)及分析頻率溫度(℃)時間(min)打氣過濾膨鬆劑MLSwellerMLSweller200-250ml/l225ml/l(2次/天)70-75-806-8不要要除膠劑高錳酸鉀40–80g/l60g/l(2次/天)70-75-859-12要要錳酸鉀<20g/l<20g/l(2次/天)當(dāng)量1.0–1.3N1.2N(2次/天)比重<1.14<1.14除膠量0.1-0.5mg/cm22次/天預(yù)中和（硫酸/雙氧水）硫酸（98%）雙氧水（3

4、5%）1.5-2.5%(V/V)1.5-2.5%(V/V)2%2%25-28-302-4不要要中和劑MLB216-5中和劑MLB216-5硫酸（98%）Cu4-6%(V/V)1.5-2.5%(V/V)<20g/l5%(2次/天)2%(2次/天)>20g/l換缸(1次/天)20-22-256不要要清潔劑3325強度銅含量PH值80-120%<2.0g/l8.0-9.5100%(1次/班)<2.0g/l(1次/班)8.5(1次/班)55-60-655-6不要要微蝕NaPS過硫酸鈉40–80g/l60g/l(1次/班)55g/l(1次/班)>20g/l換缸(1次/班)35mi

5、cro-inch(1次/班)25-28-321.5要要硫酸35-55-75g/lCu蝕銅厚度<20g/l20-50micro-inch預(yù)浸劑404比重銅含量1.12-1.15-1.17<1.5g/l1.15(1次/班)<1.5g/l(1次/周)28-30-321-2不要要活化劑44強度60–75-90ppm75ppm(1次/班)40-43-465-6不要要氯化亞錫3–8g/l6g/l(1次/班)比重1.15-1.167-1.21.167(1次/班)銅含量<2g/l(1次/班)加速劑19E19E0.015-0.025N0.02N1不要要化學(xué)沉銅880銅1.8–2.1-2.

6、4g/l2.1g/l(1次/6h)30-36℃設(shè)定值厚板：32℃薄板：34℃14-18要要氫氧化鈉10–11-12g/l11g/l(1次/6h)甲醛3.0–3.8-4.6g/l3.8g/l(1次/6h)EDTA24–40g/l32g/l(1次/6h)沉銅厚度10-20micro-inch15micro-inch(1次/班)4)化學(xué)品補充槽名成份補充物料補充量的計算方法單位膨鬆濃度Sweller(240—分析值)×槽積/1000公升高錳酸鉀Mn+7KMnO4(60—分析值)×槽積/1000公斤Mn+6大於20g/L時，須稀釋槽液NaOHNaOH(40—分析值)×槽積/10

7、00公斤中和濃度216-5(5—分析值)×槽積/100公升N98%硫酸(0.5—分析值)×槽積/36公升清潔整孔濃度3325(30—分析值)×槽積/1000公升微蝕H2SO4濃度50%H2SO4(3—分析值)×槽積*2.6/100公斤NPS濃度NPS(90—分析值)×槽積/1000公斤預(yù)浸比重404(1.110—分析值)×槽積×1.625公斤活化比重404(1.17—分析值)×槽積×1.625公斤Pd濃度44(13—分析值)×槽積/1000公升化學(xué)銅Cu880A(2.0—分析值)×槽積/200公升NaOHCupositZ(10—分析值)×