沉積氣壓對(duì)W—S—C復(fù)合薄膜結(jié)構(gòu)和摩擦學(xué)性能的影響.pdf

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1、2012年6月潤(rùn)滑與密封June2012第37卷第6期LUBRICATIONENGINEERINGVo1.37No.6DOI:10.3969/j.issn.0254—0150.2012.06.016沉積氣壓對(duì)W—S—C復(fù)合薄膜結(jié)構(gòu)和摩擦學(xué)性能的影響韋春貝代明江侯惠君林松盛趙利(廣州有色金屬研究院新材料研究所廣東廣州510651)摘要:采用磁控濺射方法制備W—S—C復(fù)合薄膜,研究沉積氣壓對(duì)薄膜結(jié)構(gòu)和摩擦學(xué)性能的影響。結(jié)果表明,復(fù)合膜以非晶或納米晶結(jié)構(gòu)生長(zhǎng),沉積氣壓低時(shí)薄膜中C含量高,薄膜結(jié)構(gòu)致密;沉積氣壓高時(shí)薄膜中WS含量高,薄膜致密

2、性下降。復(fù)合膜硬度在HV420~500之間,并且隨著沉積氣壓的增加,硬度逐漸下降。在潮濕大氣中的摩擦磨損實(shí)驗(yàn)表明,實(shí)驗(yàn)載荷越大摩擦因數(shù)越小;隨著沉積氣壓的增加,復(fù)合膜的摩擦因數(shù)先降低后增加;當(dāng)沉積氣壓在0.45~0.55Pa時(shí),復(fù)合膜的摩擦因數(shù)最低約為0.1,耐磨性能最好。關(guān)鍵詞:W—S—C復(fù)合膜;沉積氣壓;結(jié)構(gòu);硬度;摩擦學(xué)性能中圖分類號(hào):TG174.4文獻(xiàn)標(biāo)識(shí)碼:A文章編號(hào):0254—0150(2012)6—069—5InfluenceofDepositionPressureonStructureandTribologicalP

3、roperties0fW.S.CCompositeFilmsWeiChunbeiDaiMingjiangHouHuijunLinSongshengZhaoLi(NewMaterialsDepartment,GuangzhouResearchInstituteofNon—ferrousMetals,GuangzhouGuangdong510651,China)Abstract:W—S—Ccompositefilmswerepreparedbymagnetronsputteringmethod.Influenceofdeposition

4、pressureonthestructureandtribologicalpropertiesofcompositefilmswasinvestigated.Theresultsshowthatthecompositefilmspres-entamorphousornanostructure.HigherCcontentandmorecompactstructureareobtainedwithlowdepositionpressure,whilehigherWScontentandlooserstructureisf0undwit

5、hhigherdepositionpressure.ThemicrohardnessofcompositefilmsisbetweenHV420~500anditdecreaseswithincreasingthedepositionpressure.Theresultsofpin-on—discfrictionandweartestinhumidityairshowthatthefrictioncoeficientofthecompositefilmsdecreaseswithincreasingthetestloadandite

6、xhibitsbetterwearresistanceandthelowestfrictioncoeficient(about0.1)underthedepositionpressureof0.45~0.55Pa.Keywords:W—S-Ccompositefilms;depositionpressure;structure;microhardness;tribologicalpropertiesMoS,、WS等過(guò)渡金屬硫化物由于摩擦因數(shù)極復(fù)合薄膜,這種“變色龍”的膜層可以適應(yīng)不同的低、潤(rùn)滑性能優(yōu)異而被廣泛應(yīng)用于真空、干燥環(huán)境下環(huán)

7、境而能保持較低的摩擦因數(shù),即在大氣環(huán)境下的摩的固體潤(rùn)滑。然而它們對(duì)使用環(huán)境十分敏感,在含有擦因數(shù)約0.15,相當(dāng)于DLC膜的摩擦學(xué)性能;而在水氣、氧氣等氣氛下易于發(fā)生氧化而導(dǎo)致摩擦學(xué)性能真空或干燥氮?dú)猸h(huán)境下的摩擦因數(shù)約0.03,相當(dāng)于惡化。為了擴(kuò)大硫系化合物的使用范圍,提高其在大WS,的摩擦學(xué)性能,這種復(fù)合薄膜可以在變化的環(huán)境氣環(huán)境下的摩擦學(xué)性能,已有大量研究通過(guò)在MoS、下具有良好的耐磨性能。目前已有匈牙利、美國(guó)、日WS中添加金屬Ti、Cr、Ag、Au等制備復(fù)合膜,利本等在w—s.c復(fù)合膜方面做了相關(guān)研究,然而國(guó)內(nèi)用這些金屬的摻入

8、來(lái)阻止濺射薄膜柱狀晶的生長(zhǎng),從很少有關(guān)于這方面的研究報(bào)道。而提高薄膜的致密度,增加薄膜抗氧化能力,降低晶有研究表明,w.s—c薄膜的摩擦學(xué)性能不僅與薄界開(kāi)裂傾向,提高薄膜的硬度和耐磨性能?。膜的結(jié)構(gòu)、C含量有關(guān),并且與膜層中S的含量也

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