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《斷層解剖學(xué)課件1斷層頭部.ppt》由會(huì)員上傳分享，免費(fèi)在線閱讀，更多相關(guān)內(nèi)容在教育資源-天天文庫。
1、斷層解剖學(xué)武漢大學(xué)基礎(chǔ)醫(yī)學(xué)院人體解剖學(xué)教研室斷層解剖學(xué)（sectionalanatomy)是用斷層方法研究人體正常形態(tài)結(jié)構(gòu)及其基本功能的科學(xué)，其基本任務(wù)是探索各種結(jié)構(gòu)在連續(xù)斷層內(nèi)的形態(tài)﹑位置和毗鄰等的變化規(guī)律，為臨床學(xué)科提供形態(tài)學(xué)依據(jù)。與系統(tǒng)解剖學(xué)和局部解剖學(xué)相比，斷層解剖學(xué)有以下特點(diǎn)：1.能保持結(jié)構(gòu)于原位；準(zhǔn)確地顯示其斷面形態(tài)變化及位置關(guān)系；2.可由斷層重塑整體；三維重建和定量分析3.與臨床結(jié)合密切。屬于邊緣學(xué)科。系解、局解→斷面解剖學(xué)→影像解剖學(xué)→影像診斷學(xué)。DepartmentofAnatomy,WuhanUniversitySchoolofBasicMe
2、dicalSciences斷層解剖學(xué)的研究范圍1．解剖斷層----冰凍切片技術(shù)（cryotomy）選材、固定、X線標(biāo)記、畫線、冰凍、切鋸。2．生物塑化技術(shù)（plastination）固定、脫水、真空浸漬、硬化處理。3．激光共聚焦技術(shù)4．影像斷層：電子計(jì)算機(jī)圖像三維重建、超聲成像、磁共振成像（MRI）、單電子反射計(jì)算機(jī)斷層顯像（SPECT）、正電子反射計(jì)算機(jī)斷層顯像（PET）圖像1．影像斷層解剖學(xué)研究2．顯微斷層解剖學(xué)研究3．實(shí)驗(yàn)斷層解剖學(xué)研究4．發(fā)育斷層解剖學(xué)研究發(fā)展前景常用術(shù)語根據(jù)研究目的，沿某一方向所作的具有一定厚度的切片或掃描，即斷層標(biāo)本或斷層圖像；斷面是
3、指斷層標(biāo)本的表面。1．?dāng)鄬踊驍嗝妫╯ection）：4．冠狀面：額狀面一般觀測其前表面。2．橫斷面：水平面一般觀測其下表面。3．矢狀面：一般觀測其左表面，超聲觀測其右表面。5．回聲：黑影－血液、膽汁、尿、羊水、腹水、巨塊型癌、腎實(shí)質(zhì)和脾；低回聲－灰影；強(qiáng)回聲：無回聲：6．CT值：用組織對(duì)X線的吸收系數(shù)來說明其密度高低的程度。吸收系數(shù)轉(zhuǎn)換成CT值，Hu，是相對(duì)值，水為0Hu，骨密質(zhì)為＋1000Hu，空氣為－1000Hu。較強(qiáng)回聲：灰白影，癌、肌瘤及血管瘤；強(qiáng)回聲：白影：骨質(zhì)、結(jié)石、鈣化；極強(qiáng)回聲：強(qiáng)光帶－含氣的肺、胃腸。當(dāng)超聲傳經(jīng)兩種聲阻抗不同相鄰介質(zhì)的界面時(shí)，如
4、界面的線度大于波長，則產(chǎn)生反射和折射，這種反射和折射回來的超聲稱為回聲。7．空間分辨力和密度分辨力判斷CT裝置性能和說明圖像質(zhì)量的指標(biāo)8．窗位和窗寬空間分辨力-是指鑒別結(jié)構(gòu)大小的能力，常用像素大小來說明。密度分辨力（又稱對(duì)比度分辨力），是指能夠區(qū)分出密度微小差別的能力。以百分率表示。窗寬是指CT圖像上顯示的CT值范圍，CT值高于或低于此范圍的結(jié)構(gòu)均分別以白影或黑影顯示。窗位是窗寬的中心值，通常欲觀察某一組織結(jié)構(gòu)及發(fā)生的病變，應(yīng)以該組織的CT值為窗位。第一章頭部斷層解剖第一節(jié)概述一、境界與分區(qū)二、標(biāo)志性結(jié)構(gòu)1.眉弓：恰對(duì)大腦額葉下緣。2.額結(jié)節(jié)：眉弓上方5cm處的
5、最突出部位，正對(duì)額中回。3.頂結(jié)節(jié)：耳廓尖上方5cm處，其下2cm處對(duì)應(yīng)大腦外側(cè)溝后支末端。4.枕外窿凸：頭后方正中處，內(nèi)面正對(duì)竇匯。5.上項(xiàng)線：枕外窿凸兩側(cè)，平對(duì)橫竇。1.上眶耳線(supraobitomeatalline,SML):眶上緣至外耳道中點(diǎn)的連線。經(jīng)該線平面約與顱底平面一致，有利于顯示顱后窩結(jié)構(gòu)及減少顱骨偽影。2.Reid基線（Reid’sbaseline,RBL）：下眶耳線，為眶下緣至外耳道中點(diǎn)的連線。頭部橫斷層標(biāo)本的制作多以此線為準(zhǔn)。冠狀斷層標(biāo)本制作常以該線的垂線為基線。RBL與SML成角為16.74°±2.52°三、頭部斷層解剖常用的基線CO
6、R外眥與外耳道中點(diǎn)的連線。顱腦橫斷層掃描（MRI、CT）多以此為基線。實(shí)際工作中，依檢查目的的不同使掃描平面與CML向上或向下成0-20o角。3.眥耳線(Canthomeatalline,CML)或稱眶耳線（Orbitomeatalline,OML）又稱AC-PC線為前連合后緣中點(diǎn)至后連合前緣中點(diǎn)的連線。腦立體定位斷層解剖研究多以此為基線。如腦立體定位手術(shù)、X刀、γ刀治療多以此線為準(zhǔn)。4.連合間線（intercommissuralline）：5.冠狀斷層常用基線經(jīng)外耳門中點(diǎn)向眥耳線所作的垂線即為冠狀斷層常用基線。但腦的立體定位術(shù)和腦的冠狀斷層解剖學(xué)研究多采用經(jīng)A
7、C—PC連線中點(diǎn)所作的垂線為冠狀斷層基線。6.矢狀斷層常用基線顱的正中矢狀面即為矢狀斷層基線。端腦的主體結(jié)構(gòu)大腦皮質(zhì)髓質(zhì)基底核側(cè)腦室第二節(jié)大腦溝、回的應(yīng)用解剖大腦縱裂外側(cè)溝中央溝頂枕溝恒定的溝大腦縱裂頂枕溝中央溝外側(cè)溝分葉額葉頂葉顳葉枕葉島葉一、大腦半球上外側(cè)面的溝和回額葉中央前溝,額上溝,額下溝;中央前回,額上、中、下回頂葉中央后溝、中央后回；頂內(nèi)溝、頂上小葉,頂下小葉(緣上回、角回、)顳葉顳上、下溝；顳上、中、下回，顳橫回角回緣上回頂枕弓1．中央溝：端腦上部橫斷面上最深的一條腦溝，依以下五點(diǎn)可準(zhǔn)確辨認(rèn)。 （1）大部分（87%）中央溝為一不被中斷的溝； （2）
8、中央溝較深，均自腦斷面外
