dcs與plc系統(tǒng)在hcl合成裝置中應用

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1、學兔兔www.xuetutu.com第49卷第1期石油化工自動化Vo1．49，No．12013年2月AUT()MAT10NINPETR()_CHEMICALINDUSTRYFebruary，2013DCS和PLC系統(tǒng)在HC1合成裝置中的應用李廣財，包維俊(國電寧夏太陽能有限公司，寧夏753202)摘要：針對國內(nèi)HC1合成裝置的安全聯(lián)鎖控制、H2與cl2的質(zhì)量流量配比控制難等問題，通過PLC與DCS相結(jié)合的控制方案，實現(xiàn)安全聯(lián)鎖與模擬量配比的自動控制。裝置投用以來，系統(tǒng)運行安全、穩(wěn)定、可靠，所產(chǎn)氣體純度較高；通過完善系統(tǒng)的智能報警提示功能，減輕了操作人員的勞

2、動強度。關鍵詞：集散控制系統(tǒng)可編程控制器質(zhì)量流量中圖分類號：TP273文獻標志碼：B文章編號：1007—7324(2013)01—0069—02國電寧夏太陽能有限公司5kt／a多晶硅項目時才會手動停止生產(chǎn)，這樣也帶來了不安全因素。于2010年9月份投產(chǎn)運行，該套HC1合成裝置引如果工藝操作人員稍不注意，可能使HC1合成爐用國外先進成套技術，項目設計通過DeltaV集散裝置設備損壞或影響產(chǎn)生合格率。控制系統(tǒng)與PIC系統(tǒng)相結(jié)合的控制方案，對現(xiàn)場基于上述情況，既要生產(chǎn)出合格的高純度HCI儀表及閥門進行監(jiān)測、控制、報警、聯(lián)鎖，實現(xiàn)整個氣體，又要使生產(chǎn)安全、穩(wěn)定運行

3、，對HCI合成裝HC1合成裝置的自動生產(chǎn)，成功地實現(xiàn)對HCI合置自動控制系統(tǒng)采用DeltaV與PLC系統(tǒng)相結(jié)合成裝置整個生產(chǎn)過程進行安全監(jiān)控與控制。的方案來實現(xiàn)。其中的功能分配：DeltaV對HC11HCI合成裝置生產(chǎn)工藝流程合成裝置內(nèi)模擬量儀表進行監(jiān)測，同時對調(diào)節(jié)閥進HC1氣體由H。和Cl。燃燒生成，H，Cl。質(zhì)量行自動控制；PLC對HC1合成裝置內(nèi)所有數(shù)字量流量比控制在1．00：(1．1O～1．15)，在這種情況信號、控制柜內(nèi)供電系統(tǒng)、通信系統(tǒng)，進行實時監(jiān)下過量的H進料可確保充分燃燒，火焰在鋼殼體測。當其中一個環(huán)節(jié)出現(xiàn)問題，根據(jù)預先設計好的內(nèi)的石墨合成

4、裝置內(nèi)向下燃燒，HC1氣體的合成聯(lián)鎖邏輯條件程序立即對該套HC1合成裝置緊急及其冷卻均在合成裝置內(nèi)完成。干燥的H。和Cl停車，以免損壞設備及給生產(chǎn)帶來不安全因素。分別來自制氫裝置和液氯氣化裝置，分別經(jīng)過緩沖2．1CI2，H2質(zhì)量流量配比采用雙閉環(huán)流量比值罐穩(wěn)壓后進入合成爐入口，在合成爐內(nèi)燃燒生成控制方案HC1氣體，再從合成爐底部導出，經(jīng)過冷凝器、除雙閉環(huán)比值控制系統(tǒng)中主流量為H，副流量霧器、加熱器、HC1氣體干燥裝置，將所生產(chǎn)出的為Cl。若主流量受到干擾發(fā)生波動，則主流量閉合格的HC1氣體經(jīng)過壓縮機壓縮后送人下一個所環(huán)控制回路對實際值進行定值控制，使主流量

5、始終需裝置。其中剩余的HC1氣體從合爐底導出后可穩(wěn)定在給定值上下，同時副流量控制閉環(huán)回路也會按產(chǎn)量需求直接到降膜吸收器制備高純度鹽酸。隨主流量的波動進行調(diào)整；當副流量受到擾動發(fā)生2DeltaV和PLC技術在控制系統(tǒng)中的設計波動時，副流量控制閉環(huán)回路對實際值進行定值控在HC1合成過程中，傳統(tǒng)的控制手段是根據(jù)制，使副流量始終控制在給定值附近，而主流量控火焰的顏色，手動調(diào)節(jié)Cl，H質(zhì)量流量。由于在制回路不受副流量波動的影響。從而使主流量控大型化工企業(yè)所需HC1氣體量比較大，且在根據(jù)制回路和副流量控制回路因物料波動利用各自控火焰的顏色手動控制過程中很容易造成進入合

6、成制回路分別實現(xiàn)實際值與給定值吻合，從而保證爐的C1。與H。質(zhì)量流量配比發(fā)生較大變化，這樣主、副物料質(zhì)量流量的比值恒定。生產(chǎn)出的HC1氣體首先可能面臨的是純度不夠，該套HC1合成爐Cl。和H質(zhì)量流量配比基而不能送至下游siHc1。合成爐，其次是配比不穩(wěn)于在正常生產(chǎn)過程當中可能會出現(xiàn)所需HC1氣體定可能造成HC1氣體當中游離Cl。過高，在制酸時尾氣含cl。高，形成H和cl。爆炸性混合氣體，稿件收到日期：2012—09—18，修改稿收到日期：2012-11-21。給生產(chǎn)帶來不安全因素。傳統(tǒng)的工藝控制聯(lián)鎖方作者簡介：李廣財(1971一)，男，寧夏石嘴山人，199

7、7年畢業(yè)于蘭面只有在Cl，H。質(zhì)量流量配比差大時，火焰顏色州大學電子技術與微機應用專業(yè)，從事化工儀表自動化工作，現(xiàn)工才發(fā)生明顯變化和在冷卻水體積流量沒有等條件作于國電寧夏太陽能有限公司，任儀表車間主任。學兔兔www.xuetutu.com70石油化工自動化第4)卷產(chǎn)量隨生產(chǎn)負荷的提降而有較大變化，為了更好地但相應地在這個區(qū)域所采用的調(diào)節(jié)閥定位器j實現(xiàn)合成爐的c1，H質(zhì)量流量保持穩(wěn)定的狀態(tài)，切斷閥采用的電磁閥需是本安型，起到很好的防在設計配比控制方案時選用主流量與副流量控制爆作用。皆為閉環(huán)控制系統(tǒng)，當主、副流量都得到較為穩(wěn)定3)該裝置現(xiàn)場測量遠傳配比流量計采

8、用進口的控制時，因生產(chǎn)負荷提降而產(chǎn)生所需HC1氣體Rosement