片狀銀粉的性能及其制備方法

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1、第2卷第3期材料研究與應(yīng)用Vo1.2,No.32008年9月MATERIALSRESEARCHANDAPPLICA-TIONSept.2008文章編號(hào):1673-9981(2008)03-0183-04片狀銀粉的性能及其制備方法蔣偉燕,張傳福,張銀亮(中南大學(xué)冶金科學(xué)與工程學(xué)院,湖南長沙410083)摘要:介紹了片狀銀粉的性能優(yōu)勢和制備方法,并對(duì)各種方法的優(yōu)缺點(diǎn)作了比較,對(duì)片狀銀粉制備技術(shù)的發(fā)展方向進(jìn)行了展望.關(guān)鍵詞:片狀銀粉;制備方法;發(fā)展方向中圖分類號(hào):TB383文獻(xiàn)標(biāo)識(shí)碼:A不同形狀的粉體在相同的使用環(huán)境下,其性能小的比表面積和較高的

2、表面能活性,所以它的氧化會(huì)有很大的差異.由貴金屬粉體制成的漿料在微電度和氧化趨勢較高,而片狀銀粉的比表面積相對(duì)較子工業(yè)中應(yīng)用廣泛.對(duì)應(yīng)用于電子工業(yè)的銀粉除要大,比表面能較低,它的氧化度和氧化趨勢較低,另求其純度高、分散性好外,對(duì)其形狀也有特殊的要外,片狀銀粉較寬的撓度范圍和抗折裂伸張?zhí)匦?提求.片狀銀粉被廣泛應(yīng)用于碳膜電位器、鉭電容器、高了電子元器件的可靠性.(3)節(jié)約銀粉.用相同質(zhì)薄膜開關(guān)以及半導(dǎo)體芯片粘結(jié)等電子元器件中.片量的片狀銀粉和其他形狀的銀粉涂布,片狀銀粉的狀銀粉是表面貼裝元件的電極漿料的重要組成涂布面積較大.因此,采用片狀銀粉

3、,一方面可以節(jié)部分.省銀粉的用量,另一方面可以減少涂層的厚度,有利為適應(yīng)電子產(chǎn)品的微型化、集成化、智能化的發(fā)于電子元器件的小型化.展趨勢,很多國家都致力于片狀銀粉的研制和開發(fā).2片狀銀粉的制備方法[1-2,4]1片狀銀粉的優(yōu)越性片狀銀粉的制備方法主要包括機(jī)械球磨法、光片狀銀粉是指一維厚度小于100nm的片狀粉誘導(dǎo)法、熱處理法、異質(zhì)晶核法和模板法等.采用機(jī)末.片狀銀粉相對(duì)于球形銀粉具有以下優(yōu)勢:(1)導(dǎo)械球磨法制備的片狀銀粉的粒徑一般為微米級(jí)或亞電性能好.銀微粒的形狀與導(dǎo)電性能的關(guān)系十分密微米級(jí),采用光誘導(dǎo)、熱處理、模板法等方法制備的切,片狀

4、銀粉呈片式結(jié)構(gòu)排列,粉粒間流動(dòng)性較好.[1]是納米級(jí)片狀銀粉.用作電子材料的片狀銀粉的由于片狀銀粉顆粒間的接觸是面接觸或線接觸,比松裝密度是十分重要的技術(shù)指標(biāo),松裝密度大的銀球狀銀粉的點(diǎn)接觸的接觸面大,所以它的電阻相對(duì)粉適合制作高溫?zé)Y(jié)銀漿,松裝密度小的銀粉適合較低,導(dǎo)電性能也就更好.例如,在導(dǎo)電印料中的銀制作低溫固化銀漿.如果單從獲得優(yōu)良的導(dǎo)電性方微粒以片狀銀微粒的導(dǎo)電性最佳.這是因?yàn)槠瑺钽y面考慮,松裝密度小、比表面積適中、片狀大小不均微粒在形成導(dǎo)電圖形時(shí),在墨層中除形成面與面的勻且片薄的銀粉較好.接觸之外,還會(huì)產(chǎn)生上片層與下片層的交疊,

5、在燒結(jié)成型時(shí)因膜層收縮,使銀片與銀片接觸,即可形成良2.1機(jī)械球磨法好的導(dǎo)電整體.(2)可信度高.由于球形粉末具有最機(jī)械球磨法制備片狀銀粉的一般步驟是將球收稿日期:2008-01-07作者簡介:蔣偉燕(1984—),女,湖南衡陽人,碩士研究生.184材料研究與應(yīng)用2008形、類球形或枝狀的銀粉顆粒,經(jīng)過機(jī)械球磨使之形長等參數(shù)對(duì)片狀銀粉的幾何特征影響較大,而操作成片狀銀粉.例如,將采用化學(xué)還原法制備的納米級(jí)條件難以控制,所以制備的片狀銀粉的粒徑不均勻,顆粒狀銀粉,經(jīng)球磨后壓成片狀,從而得到片狀銀色澤不白亮,這對(duì)電子漿料以及電子元器件的性能粉.

6、球磨方法制備的銀粉色澤光亮、松裝密度大、機(jī)有何影響尚不清楚.由于該方法以球形納米顆粒為械性能好、比表面積大,可改善粉末的燒結(jié)性能和增基礎(chǔ),因而無法獲得大直徑的片狀銀粉,并且反應(yīng)緩大冷卻速度.慢,所需時(shí)間長達(dá)70h.有關(guān)還原球磨法制備片狀銀粉的報(bào)道很多,通采用光誘導(dǎo)法制備包括片狀銀粉在內(nèi)的非球形過改變還原劑的種類、還原條件、球磨條件可制備出貴金屬超細(xì)粉體,具有工藝和設(shè)備簡單、產(chǎn)品不被污[2]不同性能的片狀銀粉.常占河等人采用先沉淀出染的優(yōu)點(diǎn),是替代現(xiàn)行球磨法的可選方法之一.Ag2O,然后用甲醛還原再球磨的方法來制備片狀銀2.3異質(zhì)晶核法粉.他

7、們提出在球磨過程中必須添加適量的表面活[9]異質(zhì)晶核法是通過在反應(yīng)溶液中引入含其它[3]性劑,以保持銀粉的純度.吳建設(shè)提出從硝酸銀溶貴金屬的試劑,如氯鉑酸,在銀被還原前鉑先被還原液中沉淀出Ag2O,然后用H2還原Ag2O得到超細(xì)出來,形成外來晶核,由它原位提供一個(gè)平面,促進(jìn)銀粉,再經(jīng)過鱗片化處理就可以得到滿足GB-1773-銀(111)面的形成與生長,所形成的(111)面堆積密88標(biāo)準(zhǔn)的鱗片狀銀粉.該片狀銀粉的純度超過度最大,能量最小,在被有機(jī)保護(hù)劑(如PVP)分子2399.5%,比表面積0.8m/g,松裝密度1.3g/cm,吸附覆蓋后,阻

8、礙Ag+在該面上的擴(kuò)散、還原與沉3振實(shí)密度3.313g/cm,達(dá)到了工業(yè)用光亮銀粉的積,使銀不能長成立方晶體,只能在側(cè)面繼續(xù)生長,[4]要求.于朝清等人以甲醛做還原劑、Ag2CO

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