電子工業(yè)超純水處理設(shè)備.docx

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1、電子工業(yè)超純水處理設(shè)備電子工業(yè)對(duì)用水的純度要求較高，對(duì)水的電導(dǎo)率和電阻率都有明確的要求，用水只有達(dá)到要求才能被采用，超純水超純水處理設(shè)備的出水完全可以滿足電子工業(yè)對(duì)用水的水質(zhì)要求。　　半導(dǎo)體、集成電路芯片及封裝、液晶顯示、高精度線路板、光電器件、各種電子器件、微電子工業(yè)、大規(guī)模、超大規(guī)模集成電路需用大量的高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高，對(duì)水質(zhì)的要求也越高。目前我國(guó)電子工業(yè)部把電子級(jí)水質(zhì)技術(shù)分為五個(gè)行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)，分別為18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm，以區(qū)分不同水質(zhì)?！　≈?/p>

2、備電子工業(yè)用超純水超純水處理設(shè)備工藝流程　　電子行業(yè)制備超水的工藝大致分成以下幾種：　　1、采用離子交換樹(shù)脂制備超純水的傳統(tǒng)水處理方式，其基本工藝流程為：原水→沙炭過(guò)濾器→精密過(guò)濾器→原水箱→陽(yáng)床→陰床→混床(復(fù)床)→純水箱→純水泵→后置精密過(guò)濾器→用水點(diǎn)　　2、采用反滲透水處理設(shè)備與離子交換設(shè)備進(jìn)行組合的方式，其基本工藝流程為：原水→沙炭過(guò)濾器→精密過(guò)濾器→原水箱→反滲透設(shè)備→混床(復(fù)床)→純水箱→純水泵→后置精密過(guò)濾器→用水點(diǎn)　　3、采用反滲透水處理設(shè)備與電去離子(EDI)設(shè)備進(jìn)行搭配的的方式，這是一種制取超純水的最新工藝，也是一

3、種環(huán)保，經(jīng)濟(jì)，發(fā)展?jié)摿薮蟮某兯苽涔に嚕浠竟に嚵鞒虨椋涸程窟^(guò)濾器→精密過(guò)濾器→原水箱→反滲透設(shè)備→電去離子(EDI)→純水箱→純水泵→后置精密過(guò)濾器→用水點(diǎn)　　三種制備電子工業(yè)用超純水的工藝比較　　目前制備電子工業(yè)用超純水的工藝基本上是以上三種，其余的工藝流程大都是在以上三種基本工藝流程的基礎(chǔ)上進(jìn)行不同組合搭配衍生而來(lái)?，F(xiàn)將他們的優(yōu)缺點(diǎn)分別列于下面：　　1、第一種采用離子交換樹(shù)脂其優(yōu)點(diǎn)在于初投資少，占用的地方少，但缺點(diǎn)就是需要經(jīng)常進(jìn)行離子再生，耗費(fèi)大量酸堿，而且對(duì)環(huán)境有一定的破壞。　　2、第二種采用反滲透作為預(yù)處理再配上

4、離子交換設(shè)備，其特點(diǎn)為初投次比采用離子交換樹(shù)脂方式要高，但離子設(shè)備再生周期相對(duì)要長(zhǎng)，耗費(fèi)的酸堿比單純采用離子樹(shù)脂的方式要少很多。但對(duì)環(huán)境還是有一定的破壞性。3、第三種采用反滲透作預(yù)處理再配上電去離子(EDI)裝置，這是目前制取超純水最經(jīng)濟(jì)，最環(huán)保用來(lái)制取超純水的工藝，不需要用酸堿進(jìn)行再生便可連續(xù)制取超純水，對(duì)環(huán)境沒(méi)什么破壞性。其缺點(diǎn)在于初投資相對(duì)以上兩種方式過(guò)于昂貴。采取不同工藝制備的超純水，都有各自的優(yōu)點(diǎn)與弊端，超純水超純水處理設(shè)備能更好的去除水中的離子，是電導(dǎo)率更低，達(dá)到電子工業(yè)用水的標(biāo)準(zhǔn)。