研磨拋光常識(shí).doc

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1、研磨拋光常識(shí)機(jī)械制備對(duì)于微觀檢驗(yàn)來(lái)說(shuō)，機(jī)械制備是材料微觀結(jié)構(gòu)分析試樣的最常用的制備方法，它采用粒徑連續(xù)變細(xì)的磨料將材料從試樣表面去除，直到獲得要求的制備結(jié)果。如司特爾制備原理所述，試樣既可制備至完美表面和真實(shí)結(jié)構(gòu)，也可在試樣表面滿足特定檢驗(yàn)?zāi)康臅r(shí)停止制備。分析或檢驗(yàn)的類(lèi)型決定了制備表面的具體要求。?不管我們的目標(biāo)是什么，制備作業(yè)必須以一種系統(tǒng)、可再現(xiàn)的方式進(jìn)行，以最低成本保證最佳制備結(jié)果。過(guò)程定義機(jī)械制備可分為兩個(gè)操作過(guò)程：?研磨與拋光。?更多關(guān)于這兩個(gè)過(guò)程的理論解釋?zhuān)?qǐng)見(jiàn)“Metalog?專(zhuān)家”。司特爾開(kāi)發(fā)的機(jī)械制備系列設(shè)備在業(yè)內(nèi)首屈一指。我們可提供大量研磨和拋光設(shè)備，滿足用戶(hù)在

2、制備能力、制備質(zhì)量及再現(xiàn)性等方面的各種需求?！癕etalog?指南”中介紹的各種方法是基于自動(dòng)設(shè)備開(kāi)發(fā)的，經(jīng)驗(yàn)證明，自動(dòng)化是實(shí)現(xiàn)制備再現(xiàn)性和高質(zhì)量制備的先決條件。另外，自動(dòng)化還可控制易耗品消耗量，幫助您節(jié)省?大量財(cái)力。司特爾機(jī)械制備設(shè)備與易耗品的組合，是以平均每個(gè)試樣的最低成本獲得最優(yōu)質(zhì)制備結(jié)果的最佳保障。研磨機(jī)械式材料去除的第一步被稱(chēng)為研磨。適當(dāng)研磨可去除受損或變形的表面材料，并將新變形的數(shù)量控制在有限范圍內(nèi)。研磨的目的是：獲得平整的表面，將損傷降到最低程度，并可在拋光過(guò)程中以最短的時(shí)間輕松去除這些損傷。研磨可劃分為兩個(gè)獨(dú)立的過(guò)程。1.?粗磨，PG2.?精磨，F(xiàn)G司特爾新型?MD

3、-System?研磨盤(pán)將碳化硅研磨紙的典型研磨過(guò)程減少到兩個(gè)步驟，從而縮短了總制備時(shí)間，且制備質(zhì)量相比碳化硅研磨紙得到了大幅提升。因此，MD-System?新型研磨盤(pán)在價(jià)格和性能上均優(yōu)于碳化硅研磨紙。第一步研磨通常被稱(chēng)為粗磨（PG）。粗磨可保證所有試樣均獲得類(lèi)似的表面，不管其初始狀況及前期處理如何。另外，當(dāng)試樣座中有若干個(gè)試樣需要處理時(shí)，它們必須處于同一水準(zhǔn)或“平面”，以利于試樣的進(jìn)一步制備。第一步研磨采用了?MD-Piano?或?MD-Primo。MD-Piano?是一款金剛石磨盤(pán)，專(zhuān)為?150?至2000?HV?硬度范圍內(nèi)材料的粗磨而設(shè)計(jì)開(kāi)發(fā)。MD-Piano采用金剛石作為磨料

4、，可提高去除率并縮短研磨時(shí)間。MD-Primo?是一款碳化硅磨盤(pán)，專(zhuān)為?40?至?150?HV?硬度范圍內(nèi)軟質(zhì)材料的粗磨而設(shè)計(jì)開(kāi)發(fā)。MD-Piano?可在短時(shí)間內(nèi)始終獲得較高的材料去除量。?這些研磨盤(pán)對(duì)硬質(zhì)和軟質(zhì)材料或位相均具有等效切削作用。因此，使用這些研磨盤(pán)可制備出絕對(duì)平整的試樣，不同位相間不會(huì)產(chǎn)生任何浮凸缺陷。樹(shù)脂與試樣交接面?的邊角修圓缺陷也得到了徹底消除。精磨而成的試樣表面僅有少量變形，可在拋光過(guò)程中消除。?鑒于研磨紙存在的各種缺陷，為了改善和提高精磨效果，司特爾公司研發(fā)了替代型精磨表面。MD-Largo?和?MD-Allegro?是兩款復(fù)合精磨盤(pán)。制備過(guò)程中，金剛石懸浮

5、液或拋光劑定期噴涂，因而可獲得恒定的材料去除率。同?MD-Piano?和?MD-Primo一樣，MD-Largo?和?MD-Allegro?的涂敷面積取決于所制備材料的硬度。MD-Largo?用于?40?至?150?HV?硬度范圍的軟質(zhì)材料或軟基體復(fù)合材料。MD-Allegro則用于硬度大于?150?HV?的材料。精磨通常分多個(gè)步驟在粒度連續(xù)減小的碳化硅研磨紙上完成。采用?MD-Largo?或?MD-Allegro后，這些步驟可合并為一步完成。?典型使用的金剛石晶粒度為15至6微米。?隨后以6微米或3微米的晶粒度精磨，即可獲得完美表面。精磨盤(pán)上涂敷了金剛石磨料，硬質(zhì)相和軟質(zhì)相材料均

6、可獲得始終如一的材料去除率。?軟質(zhì)相材料不會(huì)產(chǎn)生污斑，脆質(zhì)相材料不會(huì)產(chǎn)生碎屑，試樣可保持完美的平面度。?后續(xù)拋光步驟可在最短時(shí)間內(nèi)完成。拋光與研磨一樣，拋光必須消除先前步驟中產(chǎn)生的損傷。?分步拋光、連續(xù)減小磨料粒度可實(shí)現(xiàn)這一目標(biāo)。?拋光可分為兩個(gè)不同的過(guò)程。1.?金剛石拋光，DP2.?氧化物拋光，OP用金剛石作為拋光磨料，可以最快速度去除材料并獲得最佳平面度。?現(xiàn)有的其他材料均不可能獲得類(lèi)似結(jié)果。?金剛石的高硬度幫助您輕松切穿所有材料和位相。某些材料，尤其是軟質(zhì)和韌性材料，需?要通過(guò)終拋光來(lái)獲得最佳制備質(zhì)量。此時(shí)可采用氧化物拋光法。膠態(tài)氧化硅的晶粒度約為?0.04?毫米，pH?值約

7、為?9.8，可為您呈現(xiàn)優(yōu)異的制備結(jié)果。?化學(xué)活性輔以精細(xì)、溫和研磨，可制成絕無(wú)劃痕和變形的試樣。OP-U?是一種多用途拋光懸浮液，在各類(lèi)材料上均可獲得完美的拋光結(jié)果。OP-S?可配合各種試劑使用，試劑會(huì)增強(qiáng)化學(xué)反應(yīng)，使?OP-S?勝任高韌性材料的制備。OP-A?是一種酸性氧化鋁懸浮液，適用于低合金鋼、高合金鋼、鎳基合金及陶瓷材料的終拋光。易耗品拋光過(guò)程在拋光布上完成?（見(jiàn)“拋光表面圖”中的完整介紹）。金剛石拋光時(shí)必須使用潤(rùn)滑劑拋光劑。?拋光布、金剛石晶粒度及潤(rùn)滑劑的選