環(huán)保型電鍍鋅工藝).doc

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1、環(huán)保型堿性鋅酸鹽鍍鋅工藝奧邦電鍍呂志DS3000環(huán)保型鍍鋅工藝其工藝范圍寬,?可以在鋅含量?6～15g/?L內(nèi)鍍，?具有很高的穩(wěn)定性。鍍層韌性好,?鍍層厚時(shí)仍柔軟不脆；?可以獲得光亮鍍層；?鍍液具有良好的低電流密度區(qū)遮蓋性與分散能力，尤其是掛鍍時(shí)對(duì)多角深凹的鍍件能更有效地鍍上良好的鋅層；對(duì)鍍液中存在的雜質(zhì)，如鈣、鎂、鉛、鐵及鉻等具有較好的容忍性，?易于接受各種鈍化后處理。??1.?DS3000?工藝?????????????品名范圍最佳鋅8～15g/L10g/L苛性鈉110～140g/L130g/LDS3000調(diào)節(jié)劑2～4ml/L2ml

2、/LDS3000凈化劑2～4ml/L2ml/LDS3000開缸劑8～15ml/L12ml/LDS3000光亮劑2～4ml/L3ml/L溫度10～40℃25℃陰極電流密度0.5～6.0?A/dm22.0A/dm2???2.?鍍液配制???（1）將所需量的氫氧化鈉及所需量的氧化鋅倒入配制槽中，把氧化鋅與氫氧化鈉攪拌均勻后，加入需配制鍍液體積1/3的水，攪拌至完全溶解；???（2）然后逐步緩慢加水稀釋，邊加水邊強(qiáng)烈攪拌至所需配制體積；???（3）待鍍液冷卻至50℃以下時(shí)，將1～3g/L的鋅粉在攪拌條件下撒入鍍液中，繼續(xù)攪拌20～30min，靜

3、止1h后過(guò)濾；???（4）化驗(yàn)分析主鹽成分，加入所需量的添加劑，攪拌均勻后，用瓦楞板陰極以低電流密度（0.1～0.5?A/dm2）電解處理數(shù)小時(shí)，試鍍合格后即可投入生產(chǎn)。??3.?現(xiàn)場(chǎng)工藝維護(hù)與管理???（1）鍍液要定期分析化驗(yàn)、過(guò)濾和及時(shí)加料調(diào)整，應(yīng)每星期分析化驗(yàn)調(diào)整一次，最好連續(xù)過(guò)濾。所用氧化鋅應(yīng)是質(zhì)量分?jǐn)?shù)在99.9%以上的工業(yè)一級(jí)品。氫氧化鈉要用純度為質(zhì)量分?jǐn)?shù)95%以上的塊狀或片狀固體堿?？刂芞n∶NaOH為1∶12（質(zhì)量比）左右。???（2）陽(yáng)極采用全浸式全鐵陽(yáng)極。使用溶解槽提供鋅離子。???（3）鍍液溫度必須控制在工藝規(guī)范內(nèi)，

4、有條件時(shí)最好能配備降溫裝置，控制鍍液溫度在30℃以下工作。???（4）當(dāng)發(fā)現(xiàn)有工件或掛具掉入鍍槽中時(shí)，要及時(shí)打撈出來(lái)，以防止銅等金屬雜質(zhì)污染鍍液。???（5）每隔半年至一年要去除一次碳酸鈉，一般可在冬季寒冷季節(jié)進(jìn)行；???（6）當(dāng)鍍液中含有較多的銅雜質(zhì)時(shí)，會(huì)使鍍層粗糙、無(wú)光?？刹捎?.1～0.2?A/dm2的小電流密度電解處理去除；銅雜質(zhì)較多時(shí)，可加入0.5~1g/L鋅粉置換去除或采用鋅粉置換處理。???（7）鉻酸根和硝酸根這類氧化性雜質(zhì)，會(huì)使鍍液的分散能力和覆蓋能力明顯下降，造成低電流密度區(qū)鍍不上。有機(jī)雜質(zhì)會(huì)使鍍層起泡、光亮度不均勻。

5、少量的硝酸根或鉻酸根或有機(jī)雜質(zhì)可采用CK-778處理之，然后電解處理12h以上。???（8）鍍液中碳酸鈉含量超過(guò)60g/L時(shí)，鍍件邊角處鍍層易燒焦。一般可采用冷凍法去除，即利用冬季氣溫較低（如5℃左右），部分碳酸鈉會(huì)結(jié)晶析出，或利用冷凍機(jī)降溫，使鍍液達(dá)到0℃以下，則大部分碳酸鈉會(huì)結(jié)晶析出，去除更為徹底。采用冷凍法去除碳酸鈉后，應(yīng)分析調(diào)整鍍液，適當(dāng)補(bǔ)充氧化鋅等。???（5）還可以采用CK-778堿性鍍鋅綜合凈化劑進(jìn)行大處理，可同時(shí)有效的去除Cu2+、Pb2+、Cr6+等金屬雜質(zhì)及有機(jī)雜質(zhì)，①用虹吸法將鍍液抽入處理槽內(nèi)，棄去槽底沉淀物；②強(qiáng)

6、烈攪拌條件下，加入CK-778凈化劑1～2g/L；③靜置約4h后，過(guò)濾鍍液后進(jìn)行電解處理，電流密度為2～3A/dm2時(shí)，時(shí)間為2～3h，直至鍍液潔凈透明為止；④分析鍍液，調(diào)整鍍液，用瓦楞陰極以低電流密度電解。用霍爾槽確定添加劑補(bǔ)充量，合格后即可投入生產(chǎn)。??4、添加劑的作用:???（1）DS3000開缸劑：提高鍍液的深鍍能力，同時(shí)它可以控制鍍層的內(nèi)應(yīng)力及陰極電流效率及分散能力。配槽時(shí)它的用量是嚴(yán)格地與鋅的濃度相關(guān)的。1g/L的鋅相應(yīng)于1ml/L的開缸劑。它的作用是控制鍍層的內(nèi)用力及陰極電流效率及分散能力。其消耗量為100～200ml/k

7、ah。???（2）DS3000光亮劑與開缸劑配合使用，可使整個(gè)電流密度范圍內(nèi)保持光亮。DS3000光亮劑消耗量為60～1500ml/kah。???（3）DS3000凈化劑：可有效凈化異金屬雜質(zhì)。它的消耗決定于所用鋅的鈍度，并有改善低電流密度區(qū)發(fā)黑、發(fā)暗功能。???（4）DS3000調(diào)節(jié)劑：此劑使其他添加劑的功效得到改善，補(bǔ)加氫氧化鈉時(shí)也應(yīng)適量補(bǔ)加為好，同時(shí)起到改善發(fā)霧作用，消耗量為40～60ml/kah。????歡迎電鍍?nèi)岁P(guān)注奧邦電鍍這個(gè)專業(yè)的電鍍資訊平臺(tái)，參入討論或分享到朋友圈。