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1、最新2008年醫(yī)學會顱腦影像斷面解剖-藥學醫(yī)學精品資料腦CT檢查方法平掃(PlainCT)增強CT(EnhancedCT)腦血管CTACT腦灌注成像(CTpurfusion)8/26/202122008醫(yī)學會顱腦MRI影像檢查方法多程序,多層面,多斷面平掃增強MRIMRAMRV特殊技術(shù):1.擴散加權(quán)成像DWI2.擴散張量成像和擴散張量白質(zhì)束成像DTT3.灌注加權(quán)成像PERFUSION4.MR波譜MRS5.腦功能皮層定位成像BOLD6.磁敏感加權(quán)成像（SusceptibilityWeightedImaging,SWI）
2、8/26/202132008醫(yī)學會掃描層面與ＯＭ線角度不同 對ＣＴ和ＭＲＩ圖像的影響8/26/202172008醫(yī)學會顱腦斷面解剖和正常CT,MRI表現(xiàn)橫斷面解剖和CT,MRI表現(xiàn)冠狀面解剖和正常CT,MRI表現(xiàn)矢狀面解剖和正常CT,MRI表現(xiàn)8/26/202182008醫(yī)學會頭顱CT和MRI三維成像冠狀面矢狀面橫斷面8/26/202192008醫(yī)學會顱腦各組織在ＣＴ，ＭＲＩ上的密度和信號變化 －－顱骨頭皮富含脂肪顱骨內(nèi)外板均為致密骨顱骨板障含脂肪，血流較慢8/26/2021102008醫(yī)學會腦膜瘤鄰近骨質(zhì)改變CTC
3、-CTC-MRIT1WIC+8/26/2021112008醫(yī)學會顱腦各組織在ＣＴ，ＭＲＩ上的密度和信號變化 －－腦膜硬腦膜：外層襯于顱骨內(nèi)面即骨膜，內(nèi)層折疊成隔幕，深入腦各部間隙，形成大腦鐮和小腦幕；蛛網(wǎng)膜：貼于硬腦膜內(nèi)面，被覆腦表面，隨神經(jīng)根向外延伸，和軟腦膜之間為蛛網(wǎng)膜下腔，深入溝裂形成腦池；軟腦膜：包繞腦表面，隨腦溝與腦回行走．位于蛛網(wǎng)膜下腔的血管通入腦組織時，常有軟腦膜隨之通入，所以腦部的血管周圍也有一由軟腦膜所包繞的潛在間隙，即所謂血管周圍間隙（VirchowSpace).ＣＴ，ＭＲＩ無法分層CT平掃密度與
4、灰質(zhì)接近，增強后呈高信號；MRI硬腦膜Ｔ１ＷＩ，Ｔ２ＷＩ均為低信號.8/26/2021122008醫(yī)學會腦膜的解剖8/26/2021132008醫(yī)學會不同部位的顱內(nèi)出血8/26/2021142008醫(yī)學會顱腦各組織在ＣＴ，ＭＲＩ上的密度和信號變化 －－腦灰質(zhì)和腦白質(zhì)ＣＴＣＴ腦灰質(zhì)ＣＴ值32-40Hu，腦白質(zhì)ＣＴ值28-32Hu，不同程度強化腦脊液ＣＴ值１０－２０Hu動脈靜脈密度接近腦灰質(zhì)8/26/2021152008醫(yī)學會顱腦各組織在ＣＴ，ＭＲＩ上的密度和信號變化 －－腦灰質(zhì)和腦白質(zhì)ＭＲＩＭＲＩ成人腦灰質(zhì)Ｔ１值，Ｔ２
5、值均長于腦白質(zhì)，Ｔ１ＷＩ腦灰質(zhì)信號較低，Ｔ２ＷＩ腦灰質(zhì)信號低高腦脊液的Ｔ１值，Ｔ２值大于腦實質(zhì)，Ｔ１ＷＩ呈低信號，T2WI呈高信號動脈因流空效應，T1,2WI均為低信號靜脈血流較慢，T1,2WI均為高信號8/26/2021162008醫(yī)學會醫(yī)學影像學診斷要點區(qū)分正常與異常定位（與解剖學交叉）區(qū)分變異與病變定性：分類，精確（與病理學交叉）8/26/2021172008醫(yī)學會腦結(jié)構(gòu)大腦（端腦）：大腦外側(cè)裂分界額，頂，顳葉，中央溝分界額，頂葉，頂枕溝分界頂，枕葉．在大腦外側(cè)面，顳，頂，枕三葉的分界是假設(shè)的，以頂枕溝和枕前切
6、跡連線為枕葉的前界，從大腦外側(cè)裂水平段終點與上述連線作垂直線，此線上方為頂葉，下方為顳葉．間腦腦干（中腦，腦橋，延髓）小腦8/26/2021182008醫(yī)學會大腦結(jié)構(gòu)傳統(tǒng)上，大腦半球分額，頂，顳，枕四葉；大腦外側(cè)裂L分界額，頂，顳葉，中央溝c分界額，頂葉，頂枕溝分界頂，枕葉．在大腦外側(cè)面，顳，頂，枕三葉的分界是假設(shè)的，以頂枕溝i和枕前切跡連線為枕葉的前界，從大腦外側(cè)裂水平段終點與上述連線作垂直線，此線上方為頂葉，下方為顳葉．新的分葉：額，頂，顳，枕四葉加上島葉和邊緣葉，島葉深藏在大腦外側(cè)裂里面，為額，頂，顳葉覆蓋，并
7、以環(huán)島溝相隔；邊緣葉和其有關(guān)的皮質(zhì)下結(jié)構(gòu)組成邊緣系統(tǒng)．這些皮質(zhì)下結(jié)構(gòu)包括杏仁核，韁，乳頭體，隔區(qū)，以及部分丘腦，下丘腦和中腦結(jié)構(gòu)．8/26/2021192008醫(yī)學會識別腦溝與腦回的步驟１．先確定額上溝a，額上回1和額中回2；２．其次確定中央溝d,中央前溝c，扣帶溝邊緣支b，旁中央小葉4和中央前葉3；３．然后確定中央后溝e和中央后回5；４．最后確定頂內(nèi)溝h，頂上溝g，頂上小葉7和楔前回6．8/26/2021202008醫(yī)學會額上溝ＣＴ和ＭＲＩ能顯示額上溝者分別為85%和100%ＣＴ和ＭＲＩ能顯示額上溝后部與中央前溝相
8、連者分別76%-88%和88%－89%Ｋido測量半球間裂至右側(cè)額上溝的距離平均為21±3mm，至左側(cè)距離比右側(cè)平均短2mm8/26/2021212008醫(yī)學會額上溝，額上回和額中回首先確定距中線２cm的額上溝（藍色），其內(nèi)側(cè)有時可見額內(nèi)溝（黑色）繼之認定位于其內(nèi)側(cè)的額上回（紫色）和其外側(cè)的額中回（黃色）（后部為書寫中樞）8/26/202122
