現(xiàn)代材料分析測試技術(shù)復(fù)習(xí)題

現(xiàn)代材料分析測試技術(shù)復(fù)習(xí)題

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1、一、名詞解釋題分辨率Kα射線、景深與焦長、熱重分析、光譜分析方法埃利斑、倒易點(diǎn)陣、質(zhì)厚襯度、熱分析、質(zhì)譜二、填空題阿貝成像原理可以簡單地描述為兩次():平行光束受到有周期性特征物體的衍射作用形成(),各級衍射波通過()重新在像平面上形成反映物的特征的像。衍射波的兩個(gè)基本特征—衍射線在空間分布的()和(),與晶體內(nèi)原子()密切相關(guān)。利用電磁線圈激磁的電磁透鏡,通過調(diào)節(jié)()可以很方便地調(diào)節(jié)(),從而調(diào)節(jié)()。質(zhì)譜分析可用于測定化合物的(),推測()和()。光譜分析方法是基于()與材料相互作用產(chǎn)生的()與()進(jìn)行材料分析的方法。光譜分析方法包括各種()和(

2、)以及()。熱電偶實(shí)際上是一種(),它將熱能轉(zhuǎn)換為(),利用所產(chǎn)生的()測量溫度。以合適的()照射處于外磁場B中的核,處于低能態(tài)的核射頻能量而躍遷至高能級,這種現(xiàn)象稱為(),其吸收光譜即為()。入射X射線可使樣品產(chǎn)生()和()。()是X射線衍射分析方法的技術(shù)基礎(chǔ)。材料分析的三個(gè)基本方面:()、()和()。光學(xué)透鏡的像差包括()、()及()。主要的物相分析手段有三種,包括()、()、()。電子能譜包括()、()、()等分析手段。材料性能主要決定于其()、()、()。德拜相機(jī)底片安裝方法包括()、()、()。按入射電子能量的大小,電子衍射可分為()、()

3、及()。常用的熱分析法有()、()、()及動態(tài)熱機(jī)械法和熱機(jī)械分析法。質(zhì)譜分析可用于測定化合物的(),推測()和()。光譜分析儀器主要由()、()及()。以合適的()照射處于外磁場B中的核,處于低能態(tài)的核射頻能量而躍遷至高能級,這種現(xiàn)象稱為(),其吸收光譜即為()。一、判斷題產(chǎn)生特征x射線的前提是原子內(nèi)層電子被打出核外,原子處于激發(fā)態(tài)。()倒易矢量能唯一地代表對應(yīng)的正空間晶面。()x射線物相定性分析可知被測材料中有哪些物相,而定量分析可知這些物相的含量有什么成分。()有效放大倍數(shù)與儀器可以達(dá)到的放大倍數(shù)不同,前者取決于儀器分辨率和人眼分辨率,而后者僅

4、僅是儀器的制造水平。()電子衍射和x射線衍射一樣必須嚴(yán)格符合布拉格方程。()埃利斑半徑與透鏡數(shù)值孔徑成正比,與照明光明光源波長成反比。()影響點(diǎn)陣常數(shù)精度的關(guān)鍵因素是sinθ,當(dāng)θ角位于低角度時(shí),若存在一Δθ的測量誤差,對應(yīng)的Δsinθ的誤差范圍很小。()電子衍射只適于材料表層或或薄膜樣品的結(jié)構(gòu)分析。()凡物質(zhì)受熱時(shí)發(fā)生質(zhì)量變化的物理或化學(xué)變化過程,均可用熱重法分析、研究。()激發(fā)電位較低的譜線都比較強(qiáng),激發(fā)電位高的譜線都比較弱。()一、簡答題什么叫干涉面?當(dāng)波長為λ的X射線在晶體上發(fā)生衍射時(shí),相鄰兩個(gè)(hkl)晶面衍射線的波程差是多少?相鄰兩個(gè)HK

5、L干涉面的波程差又是多少?試述獲取衍射花樣的三種基本方法及其用途?什么是雙光束衍射?電子衍襯分析時(shí),為什么要求在近似雙光束條件下進(jìn)行?簡要說明多晶(納米晶體)、單晶及非晶衍射花樣的特征及形成原理。磁透鏡的像差是怎樣產(chǎn)生的?如何來消除和減少像差?布拉格方程2dsinθ=λ中的d、θ、λ分別表示什么?布拉格方程式有何用途?下列哪些晶面屬于[11]晶帶?(1)、(1)、(231)、(211)、(101)、(01)、(13),(0),(12),(12),(01),(212),為什么?透射電鏡中有哪些主要光闌?分別安裝在什么位置?其作用如何?實(shí)驗(yàn)中選擇X射線管

6、以及濾波片的原則是什么?已知一個(gè)以Fe為主要成分的樣品,試選擇合適的X射線管和合適的濾波片?下面是某立方晶系物質(zhì)的幾個(gè)晶面,試將它們的面間距從大到小按次序重新排列:(12),(100),(200),(11),(121),(111),(10),(220),(130),(030),(21),(110)。

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