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《nife多層膜磁電阻特性與表征-(5334)》由會員上傳分享，免費(fèi)在線閱讀，更多相關(guān)內(nèi)容在行業(yè)資料-天天文庫。
1、山東師范大學(xué)碩士學(xué)位論文AMR有明顯影響。對于Cu（7nm）/Ni81Fe19（10nm）/Cu（x）/Ni81Fe19（10nm）/NiO（25nm）/Cu(4nm)、Ta（7nm）/Ni81Fe19（10nm）/Ta（y）/Ni81Fe19（10nm）/NiO（25nm）/Ta(4nm)、(Ni81Fe19)80.7Nb19.3（2nm）/Ni81Fe19（10nm）/Nb（z）/Ni81Fe19（10nm）/NiO（25nm）/Nb(3nm)系列薄膜研究得出，AMR值對于隔離層厚度具有很強(qiáng)的依賴性，基
2、片溫度為450℃的條件下，在上述不同的隔離層厚度系列中對應(yīng)著不同的最大AMR值和靈敏度，在自旋閥結(jié)構(gòu)中以Cu為隔離層厚度在1nm時其AMR最大達(dá)到2.8%，靈敏度為1.1×10-3%·m·A-1；Ta為隔離層時厚度在2nm時其AMR最大達(dá)到2.6%，靈敏度為2.3×10-3%·m·A-1，Nb為隔離層時厚度在1.5nm時其AMR最大達(dá)到3.2%，其靈敏度達(dá)4.9×10-3%·m·A-1。本文研究表明，氧化插層中NiFe的插入以及自旋閥結(jié)構(gòu)中隔離層的厚度和不同的非磁性金屬材料對NiFe多層薄膜AMR值和磁性能
3、都有很大影響。關(guān)鍵詞：各向異性磁電阻；氧化插層；自旋閥；隔離層；矯頑力；靈敏度分類號：O484.4+3文獻(xiàn)標(biāo)示碼AII萬方數(shù)據(jù)山東師范大學(xué)碩士學(xué)位論文ThemagnetoresistancepropertiesandcharacterizationofNiFefilmsAbstractTheapplicationofNiFefilmplayaveryimportantroleinthemagneticfield.Itsmagnetoresistancehavedirectivitymakeithaveabr
4、oadapplicationinearthmagnetismnavigationfield.Italsohaveabroadapplicationinproductionofsensorandheadbecauseithasasmallmagneticsaturationfieldandahighmagneticfieldsensitivity.Inthispaper,theAMRvalueandmagneticperformanceofNiFefilmsareimprovedtomeetthepracti
5、caldemandformagneticmaterial.AseriesofTa(3nm)/NiO(T)/NiFe(I)/NiO(2nm)/NiFe(20nm)/NiO(2nm)/NiFe(I)/NiO(T)/Ta(4nm),Cu(7nm)/Ni81Fe19(10nm)/Cu(x)/Ni81Fe19(10nm)/NiO(25nm)/Cu(4nm),Ta(7nm)/Ni81Fe19(10nm)/Ta(y)/Ni81Fe19(10nm)/NiO(25nm)/Ta(4nm),(Ni81Fe19)80.7Nb19.
6、3(2nm)/Ni81Fe19(10nm)/Nb(z)/Ni81Fe19(10nm)/NiO(25nm)/Nb(3nm)werepreparedunderappropriateconditions.TheeffectofthatNiFewasinsertedintooxidationintercalationfortheAMRvalueofNiFefilmsarestudiedatrequiredprocesscondition.Atthesametime,theeffectsofdifferentisol
7、atingcoursematerialwithdifferentthicknessfortheAMRvalueofNiFefilmsarestudied.TheAMRvalueandhysteresishoopofNi81Fe19filmsweremeasuredbyfourpointprobetechnologyandvibratingsamplemagnetometer(VSM)respectively.Weanalysistheexperimentalresultsandobservethefollo
8、wingconclusions:(1)AlittleNiFewhichareinsertedintoNiOhaveagreatinfluenceontheAMRvalueofNiFefilmunderhightemperatureconditions.WiththeNiFe(I)thicknessincreasing,theAMRvalueofNiFefilmfirstlyincreaseandthenreduc
