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1、電子行業(yè)中EDI超純水設(shè)備的應(yīng)用 目前,各行各業(yè)對水質(zhì)的要求千差萬別,電子行業(yè)發(fā)展迅速,特別是在我國,EDI超純水設(shè)備電子行業(yè)的需求不斷增加,而且對水質(zhì)的要求也越來越嚴(yán)格,所以需要原水超純水設(shè)備深度處理采用EDI。介紹了電子級超純水設(shè)備?! ‰娮赢a(chǎn)業(yè)超純水裝備制備超純水工藝有以下3種: 1、采用離子交換樹脂制備電子工業(yè)超純水的傳統(tǒng)水處理方式,其基本工藝流程為:原水→多介質(zhì)過濾器→活性炭過濾器→精密過濾器→中間水箱→陽床→陰床→混床(復(fù)床)→超純水箱→超純水泵→后置保安過濾器→用水點(diǎn) 2、采用
2、反滲透水處理設(shè)備與離子交換設(shè)備進(jìn)行組合制備電子工業(yè)超純水的方式,其基本工藝流程為:原水→多介質(zhì)過濾器→活性炭過濾器→精密過濾器→中間水箱→反滲透設(shè)備→混床(復(fù)床)→超純水箱→超純水泵→后置保安過濾器→用水點(diǎn) 3、采用反滲透設(shè)備與電去離子(EDI)設(shè)備進(jìn)行搭配制備電子工業(yè)超純水的的方式,這是一種制取超純水的最新工藝,也是一種環(huán)保,經(jīng)濟(jì),發(fā)展?jié)摿薮蟮某兯苽涔に?,其基本工藝流程為:原水→多介質(zhì)過濾器→活性炭過濾器→精密過濾器→中間水箱→反滲透設(shè)備→電去離子(EDI)→超純水箱→超純水泵→后置保安
3、過濾器→用水點(diǎn) 電子產(chǎn)業(yè)超純水裝備特性 電子工業(yè)超純水系統(tǒng)設(shè)備無需過多的人工操作,省時省力,能節(jié)省大量人力,在工藝選材上也比其他工藝具有優(yōu)勢,這些特性使得電子工業(yè)超純水設(shè)備跟其他同類產(chǎn)品相比具有更高的實(shí)用價值?! 榱吮WCEDI超純水設(shè)備的連續(xù)制水,提高系統(tǒng)運(yùn)行的穩(wěn)定性,EDI裝置通常采用模塊化設(shè)計,即利用若干個一定規(guī)格的EDI膜塊組合成一套EDI裝置.如果其中的一個模塊出現(xiàn)故障,在不影響裝置運(yùn)行的情況下,可以方便地對故障模塊進(jìn)行維修或更換處理.另外,模塊化的設(shè)計方式還可以使裝置保持一定的擴(kuò)展
4、性?! “唇Y(jié)構(gòu)形式分類 EDI膜塊作為EDI裝置的核心部件,其設(shè)計參數(shù)是保證EDI裝置整體運(yùn)行性能的關(guān)鍵。EDI膜塊按其結(jié)構(gòu)形式可分為板框式及螺旋卷式等兩種?! “蹇蚴紼DI模塊 板框式EDI膜塊簡稱板式模塊,它的內(nèi)部部件為板結(jié)框工結(jié)構(gòu),主要由陽、陰電極板板、極框、離子交換膜、淡水隔板、濃水隔板及端板等部件按一定的順序組裝而成,設(shè)備的外形一般為長方形或圓形?! “蹇蚴紼DI膜塊按其組裝形式又可以分為兩種,有按一定的產(chǎn)水量進(jìn)行了定型生產(chǎn)的模塊,如生產(chǎn)的MK系列膜塊,生產(chǎn)的XL系列膜塊等。另外一種
5、系列根據(jù)不同的產(chǎn)水量對產(chǎn)品進(jìn)行定型生產(chǎn)的膜塊?! ÷菪硎紼DI膜塊EDI水處理設(shè)備要點(diǎn) 螺旋卷式EDI膜塊簡稱卷式EDI膜塊,它主要由電極、陽膜、陰膜、淡水隔板、濃水隔板、濃水配集管和淡水配集管等組成。它的組裝方式與卷式RO相似,即按“濃水隔板——陰膜——淡水隔板——陽膜——濃水隔板——陰膜——淡水隔板——陽膜??”的順序,將它疊放后,以濃水配集管為中心卷制成型,其中濃水配集管兼作EDI的負(fù)極,膜卷的一層外殼作為陽極?! “催\(yùn)行方式分類 濃水直排式EDI膜塊 如果在EDI膜堆的濃水室及極水
6、室中也填充了離子交換樹脂等導(dǎo)電性材料,則可以不設(shè)濃水循環(huán)系統(tǒng),這種模塊稱為濃水直排式EDI模塊?! ∨c濃水循環(huán)式相比,濃水直排式有如下特點(diǎn): 提高工作電流的方法不是靠增加濃水含鹽量,而是借助于導(dǎo)電性材料。因?yàn)樵贓DI膜塊中,樹脂的電導(dǎo)率比水溶液高幾個數(shù)量級,所以,在操作電壓相同的情況下,將能產(chǎn)生更大的工作電流,從而可以用較低的能耗獲得較好的除鹽效果?! M(jìn)水水質(zhì)的波動有一定適應(yīng)性。當(dāng)進(jìn)水電導(dǎo)率不太低時,濃水室和極水室的電阻主要取決于導(dǎo)電性材料,而與水中含鹽時的關(guān)系不大,所以,當(dāng)進(jìn)水電導(dǎo)率波動同
7、樣有限時. 根據(jù)濃水處理方式,可將EDI膜塊組成分為濃水循環(huán)式和濃水直排式兩類?! 馑h(huán)式EDI膜塊濃水循環(huán)式EDI系統(tǒng)進(jìn)水一分為二,大部分水由模塊下部進(jìn)入淡水室進(jìn)行脫鹽,小部分水作為濃水循環(huán)回路的補(bǔ)充水。濃水從模塊的濃水室出來后,進(jìn)入濃水循環(huán)泵入口,經(jīng)升壓后送進(jìn)入模塊下部,并在模塊內(nèi)一分為二,大部分水送入濃水室內(nèi),繼續(xù)參與濃水循環(huán),小部分水送入極水室作為電解液,電解后攜帶電極反應(yīng)的產(chǎn)物和熱量而排放。為了避免因濃水濃縮倍數(shù)過高而出現(xiàn)結(jié)垢現(xiàn)象,運(yùn)行中將連續(xù)不斷地排出一部分濃水?! ∨c濃水直排式
8、相比,濃水循環(huán)式有如下特點(diǎn): 一部分濃水參與再循環(huán),增大了濃水流量,亦即提高了濃水室的水流速度,這有利于降低膜面滯流層厚度,減輕濃差極化,減小了濃水系統(tǒng)結(jié)垢的可能性?! ≥^高的電流使EDI膜塊中的樹脂處于較多的H型和OH型狀態(tài),保證了EDI除去二氧化硅等弱電解質(zhì)的有效性。 需要設(shè)置一套加鹽裝置,因此,必須考慮加鹽量和濃水循環(huán)系統(tǒng)的控制問題。