電子行業(yè)中EDI超純水設(shè)備的應(yīng)用.docx

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1、電子行業(yè)中EDI超純水設(shè)備的應(yīng)用　　目前，各行各業(yè)對水質(zhì)的要求千差萬別，電子行業(yè)發(fā)展迅速，特別是在我國，EDI超純水設(shè)備電子行業(yè)的需求不斷增加，而且對水質(zhì)的要求也越來越嚴格，所以需要原水超純水設(shè)備深度處理采用EDI。介紹了電子級超純水設(shè)備?！　‰娮赢a(chǎn)業(yè)超純水裝備制備超純水工藝有以下3種：　　1、采用離子交換樹脂制備電子工業(yè)超純水的傳統(tǒng)水處理方式，其基本工藝流程為：原水→多介質(zhì)過濾器→活性炭過濾器→精密過濾器→中間水箱→陽床→陰床→混床(復(fù)床)→超純水箱→超純水泵→后置保安過濾器→用水點　　2、采用

2、反滲透水處理設(shè)備與離子交換設(shè)備進行組合制備電子工業(yè)超純水的方式，其基本工藝流程為：原水→多介質(zhì)過濾器→活性炭過濾器→精密過濾器→中間水箱→反滲透設(shè)備→混床(復(fù)床)→超純水箱→超純水泵→后置保安過濾器→用水點　　3、采用反滲透設(shè)備與電去離子(EDI)設(shè)備進行搭配制備電子工業(yè)超純水的的方式，這是一種制取超純水的最新工藝，也是一種環(huán)保，經(jīng)濟，發(fā)展?jié)摿薮蟮某兯苽涔に嚕浠竟に嚵鞒虨椋涸嘟橘|(zhì)過濾器→活性炭過濾器→精密過濾器→中間水箱→反滲透設(shè)備→電去離子(EDI)→超純水箱→超純水泵→后置保安

3、過濾器→用水點　　電子產(chǎn)業(yè)超純水裝備特性　　電子工業(yè)超純水系統(tǒng)設(shè)備無需過多的人工操作，省時省力，能節(jié)省大量人力，在工藝選材上也比其他工藝具有優(yōu)勢，這些特性使得電子工業(yè)超純水設(shè)備跟其他同類產(chǎn)品相比具有更高的實用價值。　　為了保證EDI超純水設(shè)備的連續(xù)制水,提高系統(tǒng)運行的穩(wěn)定性,EDI裝置通常采用模塊化設(shè)計,即利用若干個一定規(guī)格的EDI膜塊組合成一套EDI裝置.如果其中的一個模塊出現(xiàn)故障,在不影響裝置運行的情況下,可以方便地對故障模塊進行維修或更換處理.另外，模塊化的設(shè)計方式還可以使裝置保持一定的擴展

4、性。　　按結(jié)構(gòu)形式分類　　EDI膜塊作為EDI裝置的核心部件，其設(shè)計參數(shù)是保證EDI裝置整體運行性能的關(guān)鍵。EDI膜塊按其結(jié)構(gòu)形式可分為板框式及螺旋卷式等兩種。　　板框式EDI模塊　　板框式EDI膜塊簡稱板式模塊，它的內(nèi)部部件為板結(jié)框工結(jié)構(gòu)，主要由陽、陰電極板板、極框、離子交換膜、淡水隔板、濃水隔板及端板等部件按一定的順序組裝而成，設(shè)備的外形一般為長方形或圓形?！　“蹇蚴紼DI膜塊按其組裝形式又可以分為兩種，有按一定的產(chǎn)水量進行了定型生產(chǎn)的模塊，如生產(chǎn)的MK系列膜塊，生產(chǎn)的XL系列膜塊等。另外一種

5、系列根據(jù)不同的產(chǎn)水量對產(chǎn)品進行定型生產(chǎn)的膜塊?！　÷菪硎紼DI膜塊EDI水處理設(shè)備要點　　螺旋卷式EDI膜塊簡稱卷式EDI膜塊，它主要由電極、陽膜、陰膜、淡水隔板、濃水隔板、濃水配集管和淡水配集管等組成。它的組裝方式與卷式RO相似，即按“濃水隔板——陰膜——淡水隔板——陽膜——濃水隔板——陰膜——淡水隔板——陽膜??”的順序，將它疊放后，以濃水配集管為中心卷制成型，其中濃水配集管兼作EDI的負極，膜卷的一層外殼作為陽極?！　“催\行方式分類　　濃水直排式EDI膜塊　　如果在EDI膜堆的濃水室及極水

6、室中也填充了離子交換樹脂等導(dǎo)電性材料，則可以不設(shè)濃水循環(huán)系統(tǒng)，這種模塊稱為濃水直排式EDI模塊?！　∨c濃水循環(huán)式相比，濃水直排式有如下特點：　　提高工作電流的方法不是靠增加濃水含鹽量，而是借助于導(dǎo)電性材料。因為在EDI膜塊中，樹脂的電導(dǎo)率比水溶液高幾個數(shù)量級，所以，在操作電壓相同的情況下，將能產(chǎn)生更大的工作電流，從而可以用較低的能耗獲得較好的除鹽效果。　　對進水水質(zhì)的波動有一定適應(yīng)性。當進水電導(dǎo)率不太低時，濃水室和極水室的電阻主要取決于導(dǎo)電性材料，而與水中含鹽時的關(guān)系不大，所以，當進水電導(dǎo)率波動同

7、樣有限時.　　根據(jù)濃水處理方式，可將EDI膜塊組成分為濃水循環(huán)式和濃水直排式兩類?！　馑h(huán)式EDI膜塊濃水循環(huán)式EDI系統(tǒng)進水一分為二，大部分水由模塊下部進入淡水室進行脫鹽，小部分水作為濃水循環(huán)回路的補充水。濃水從模塊的濃水室出來后，進入濃水循環(huán)泵入口，經(jīng)升壓后送進入模塊下部，并在模塊內(nèi)一分為二，大部分水送入濃水室內(nèi)，繼續(xù)參與濃水循環(huán)，小部分水送入極水室作為電解液，電解后攜帶電極反應(yīng)的產(chǎn)物和熱量而排放。為了避免因濃水濃縮倍數(shù)過高而出現(xiàn)結(jié)垢現(xiàn)象，運行中將連續(xù)不斷地排出一部分濃水?！　∨c濃水直排式

8、相比，濃水循環(huán)式有如下特點：　　一部分濃水參與再循環(huán)，增大了濃水流量，亦即提高了濃水室的水流速度，這有利于降低膜面滯流層厚度，減輕濃差極化，減小了濃水系統(tǒng)結(jié)垢的可能性?！　≥^高的電流使EDI膜塊中的樹脂處于較多的H型和OH型狀態(tài)，保證了EDI除去二氧化硅等弱電解質(zhì)的有效性?！　⌒枰O(shè)置一套加鹽裝置，因此，必須考慮加鹽量和濃水循環(huán)系統(tǒng)的控制問題。