內毒素對離體鼻黏膜上皮細胞ifnγ、il4表達的影響

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1、內毒素對離體鼻黏膜上皮細胞IFNγ、IL4表達的影響【摘要】目的：探討內毒素(LPS)對鼻黏膜上皮細胞(HNEC)IFNγ、IL4表達的影響。方法:設LPS組、LPS+地塞米松（DXM）組、LPS+吡咯啉烷二硫代氨基甲酸鹽(PDTC)組及生理鹽水空白對照組。采用酶聯(lián)免疫吸附及原位雜交方法檢測培養(yǎng)上清液中IFNγ、IL4及HNEC內NFкBp50mRNA的表達，凝膠電泳遷移率檢測NFкBp50，觀察PDTC及DXM對NFкBp50活化抑制后IFNγ和IL4蛋白水平。結果:(1)0～100μg/LLPS隨濃度的增加，IFNγ分泌量增多；

2、>100μg/L后，IFNγ分泌量減少；100μg/LLPS刺激HNEC分泌IFNγ的作用最強。0～20μg/LLPS隨濃度的增加，IL4分泌量增多；>20μg/L后，IFNγ分泌量減少；20μg/LLPS刺激HNEC分泌IL4的作用最強，40μg/LLPS刺激IFNγ和IL4的分泌有交叉，二者維持于一定的水平。(2)50μg/LLPS刺激HNEC后隨時間延長IFNγ分泌量逐漸增加，從4h開始即有明顯上升(P<0.05)，8h達到峰值；IL4隨時間延長分泌量逐漸增加，從2h開始即有明顯上升(P<0.05)，6h

3、達到峰值。(3)PDTC和DXM均抑制NFкBp50的表達和活性，減少HNEC分泌IFNγ和IL4,DXM4.0μg/L時,下降更明顯,但高于此濃度時,不引起進一步的降低。結論:LPS對HNEC的刺激反應與濃度呈劑量依賴性，適當濃度的LPS刺激有利于HNEC分泌的Th1/Th2細胞因子維持平衡狀態(tài)；過高或過低濃度的LPS刺激可誘導HNEC的Th1/Th2細胞因子失衡分泌，這可能是GNB在慢性鼻、鼻竇炎（CRS）的致病機理?！娟P鍵詞】內毒素類；上皮細胞；鼻黏膜；核因子кBp50;IFNγ；白細胞介素4　?。跘bstract］Objective:T

4、ostudytheinfluenceofendoutoxin(lipopolysaccharide,LPS)toexpressionofIFNγandIL4inhumannasalepithelialcell(HNEC).Methods:CulturedHNECethasone,andLPSpluspyrrolinedithiocarbamaterespectively.Ablankcontrolgroup(groupB)alsaline.ExpressionofIFNγandIL4insupernatantsofculturemediaand

5、NFкBp50mRNAexpressioninHNECelinkedimmuneadsorption(ELISA)andhybridizationinsitu;TheactivationofNFкBp50obilityanalysis;TheproteinlevelchangesofIFNγandIL4aftertheinhibitionofPDTCandDXMtoNFкBp50otethesecretionsofIFNγandIL4intermsoftime.TheLPSexcitementcouldsignificantlyprom

6、otetheactivationofNFкBp50,ulationofLPSshoulationofLPSaintainthebalance;ThestimulationofLPSightbethepathopoiesismechanismofgramnegativebacilliinchronicrhinitisandrhinosinusitis.　　［Keyucosa;nuclerfactorкBp50;IFNΥ;interleukin4　　呼吸道上皮層是一個復雜的系統(tǒng)，由多種細胞共同協(xié)調各種功能，包括離子轉運、黏蛋白產生、纖毛清潔和濕化等，

7、這些功能對于維持呼吸道上皮層微環(huán)境至關重要[1]。Eisenbarth等[2]研究認為內毒素（LPS）的暴露水平與呼吸道炎癥性疾病的發(fā)生和發(fā)展有密切的關系，本研究采用組織細胞培養(yǎng)技術在模擬體內環(huán)境下最大限度獲得結構和功能上接近體細胞的大量鼻黏膜上皮細胞(humannasalepithelialcell,HNEC)，檢測HNEC在不同濃度的LPS刺激下釋放IFNγ和IL4蛋白水平、NFκBp50mRNA表達和活性，同時觀察地塞米松（dexamethasone，DXM）對它們的影響，為慢性鼻炎及鼻竇炎的防治提供一定的實驗依據(jù)?！　?材料和方法　　1.

8、1材料　　1．1.1HNEC培養(yǎng)　　經鼻內鏡行鼻中隔偏曲矯正術中切除的正常下鼻甲黏膜組織30例