紅外發(fā)射率耐高溫涂層的制備及機(jī)理

紅外發(fā)射率耐高溫涂層的制備及機(jī)理

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1、低紅外發(fā)射率耐高溫涂層的制備及機(jī)理?96?材料導(dǎo)報(bào)B:研究篇2011年7月(下)第25卷第7期低紅外發(fā)射率耐高溫涂層的制備及機(jī)理郭騰超,徐國躍,陳硯朋,胡晨,王雅君(南京航空航天大學(xué)材料科學(xué)與技術(shù)學(xué)院,南京210016)摘要以漂浮態(tài)鋁粉為填料,有機(jī)硅樹脂作為粘合劑,制備了耐高溫低紅外發(fā)射率涂層.對(duì)填料的添加量,涂層的固化溫度進(jìn)行了優(yōu)化研究,對(duì)填料及涂層進(jìn)行了結(jié)構(gòu),形貌的表征,并測(cè)試了涂層的紅外發(fā)射率與耐熱性能.研究結(jié)果表明,填料添加量為3O,400’C固化2h,涂層紅外發(fā)射率(3~5m,8~14/

2、,m)最低可達(dá)0.1O~().12,且涂層可在600C條件下長時(shí)間使用.此外,分析認(rèn)為涂層發(fā)射率的降低是消除粘合劑吸收及致密的片層連續(xù)結(jié)構(gòu)兩者協(xié)同作用的結(jié)果,并提出新的涂層結(jié)構(gòu)模型對(duì)低發(fā)射率機(jī)理進(jìn)行了闡述.關(guān)鍵詞低發(fā)射率耐高溫涂層結(jié)構(gòu)模型中圖分類號(hào):TJ765.5;TB34文獻(xiàn)標(biāo)識(shí)碼:APreparationofHeatResistantCoatingswithLowInfraredEmissivityandMechanismGU()Tengchao,XUGuoyue,CHENYanpeng,HU

3、Chen,WANGYajun(TheInstituteofMaterialScienceandTechnology,NanjingUniversityofAeronauticsandAstronautics,Nanjing210016)AbstractLowinfraredemissivitycoatingsworkingathightemperaturewereobtainedbyusingsiliconeresinandleafingaluminuma低紅外發(fā)射率耐高溫涂層的制備及機(jī)理?96?

4、材料導(dǎo)報(bào)B:研究篇2011年7月(下)第25卷第7期低紅外發(fā)射率耐高溫涂層的制備及機(jī)理郭騰超,徐國躍,陳硯朋,胡晨,王雅君(南京航空航天大學(xué)材料科學(xué)與技術(shù)學(xué)院,南京210016)摘要以漂浮態(tài)鋁粉為填料,有機(jī)硅樹脂作為粘合劑,制備了耐高溫低紅外發(fā)射率涂層.對(duì)填料的添加量,涂層的固化溫度進(jìn)行了優(yōu)化研究,對(duì)填料及涂層進(jìn)行了結(jié)構(gòu),形貌的表征,并測(cè)試了涂層的紅外發(fā)射率與耐熱性能.研究結(jié)果表明,填料添加量為3O,400’C固化2h,涂層紅外發(fā)射率(3~5m,8~14/,m)最低可達(dá)0.1O~().12,且涂層

5、可在600C條件下長時(shí)間使用.此外,分析認(rèn)為涂層發(fā)射率的降低是消除粘合劑吸收及致密的片層連續(xù)結(jié)構(gòu)兩者協(xié)同作用的結(jié)果,并提出新的涂層結(jié)構(gòu)模型對(duì)低發(fā)射率機(jī)理進(jìn)行了闡述.關(guān)鍵詞低發(fā)射率耐高溫涂層結(jié)構(gòu)模型中圖分類號(hào):TJ765.5;TB34文獻(xiàn)標(biāo)識(shí)碼:APreparationofHeatResistantCoatingswithLowInfraredEmissivityandMechanismGU()Tengchao,XUGuoyue,CHENYanpeng,HUChen,WANGYajun(TheIns

6、tituteofMaterialScienceandTechnology,NanjingUniversityofAeronauticsandAstronautics,Nanjing210016)AbstractLowinfraredemissivitycoatingsworkingathightemperaturewereobtainedbyusingsiliconeresinandleafingaluminuma低紅外發(fā)射率耐高溫涂層的制備及機(jī)理?96?材料導(dǎo)報(bào)B:研究篇2011年7月(下)第2

7、5卷第7期低紅外發(fā)射率耐高溫涂層的制備及機(jī)理郭騰超,徐國躍,陳硯朋,胡晨,王雅君(南京航空航天大學(xué)材料科學(xué)與技術(shù)學(xué)院,南京210016)摘要以漂浮態(tài)鋁粉為填料,有機(jī)硅樹脂作為粘合劑,制備了耐高溫低紅外發(fā)射率涂層.對(duì)填料的添加量,涂層的固化溫度進(jìn)行了優(yōu)化研究,對(duì)填料及涂層進(jìn)行了結(jié)構(gòu),形貌的表征,并測(cè)試了涂層的紅外發(fā)射率與耐熱性能.研究結(jié)果表明,填料添加量為3O,400’C固化2h,涂層紅外發(fā)射率(3~5m,8~14/,m)最低可達(dá)0.1O~().12,且涂層可在600C條件下長時(shí)間使用.此外,分析認(rèn)

8、為涂層發(fā)射率的降低是消除粘合劑吸收及致密的片層連續(xù)結(jié)構(gòu)兩者協(xié)同作用的結(jié)果,并提出新的涂層結(jié)構(gòu)模型對(duì)低發(fā)射率機(jī)理進(jìn)行了闡述.關(guān)鍵詞低發(fā)射率耐高溫涂層結(jié)構(gòu)模型中圖分類號(hào):TJ765.5;TB34文獻(xiàn)標(biāo)識(shí)碼:APreparationofHeatResistantCoatingswithLowInfraredEmissivityandMechanismGU()Tengchao,XUGuoyue,CHENYanpeng,HUChen,WANGYajun(TheInstituteofMater

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