資源描述:
《也談現(xiàn)有技術(shù)抗辯的適用——從現(xiàn)有技術(shù)抗辯法律制度本源出發(fā)》由會(huì)員上傳分享,免費(fèi)在線閱讀,更多相關(guān)內(nèi)容在行業(yè)資料-天天文庫(kù)。
1、也談現(xiàn)有技術(shù)抗辯的適用——從現(xiàn)有技術(shù)抗辯法律制度本源出發(fā)也談現(xiàn)有技術(shù)抗辯的適用??從現(xiàn)有技術(shù)抗辯法律制度本源出發(fā)朱旭云內(nèi)容提要:隨著《專利法》第三次修正案的頒布實(shí)施,現(xiàn)有技術(shù)抗辯作為體現(xiàn)專利制度利益平衡機(jī)制的重要手段得到理論與實(shí)務(wù)界的高度關(guān)注,但是由于《專利法》與《司法解釋》之間存在著規(guī)定和解釋的分歧,關(guān)于現(xiàn)有技術(shù)抗辯的適用規(guī)則以及現(xiàn)有技術(shù)抗辯究竟屬于“侵權(quán)例外抗辯”還是“不侵權(quán)之抗辯”的爭(zhēng)議不絕于耳。嘗試從現(xiàn)有技術(shù)抗辯的制度本源出發(fā),圍繞《專利法》與《司法解釋》的相關(guān)規(guī)定,深入分析現(xiàn)有技術(shù)抗辯適用的具體案例,結(jié)合我國(guó)專利保護(hù)體制現(xiàn)狀,提出現(xiàn)有技術(shù)抗辯的適用建議。專利法現(xiàn)有技術(shù)抗辯
2、法律性質(zhì)法律適用廈門(mén)大學(xué)知識(shí)產(chǎn)權(quán)研究院福建省知識(shí)產(chǎn)權(quán)局國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局條法司:《專利法第三次修改導(dǎo)讀》,北京,知識(shí)產(chǎn)權(quán)出版社年月版。此處暫采用司法解釋的相應(yīng)提法。孫海龍、姚建軍:《現(xiàn)有技術(shù)抗辯的法律性質(zhì)初探??兼談對(duì)專利法第條的理解》,載《中國(guó)專利與商標(biāo)》年第期??紫榭 ⑼跤啦?、李劍:《最高人民法院關(guān)于審理侵犯專利權(quán)糾紛案件應(yīng)用法律若干問(wèn)題的解釋適用的若干問(wèn)題》,載《電子知識(shí)產(chǎn)權(quán)》年第期,第~頁(yè)。尹新天:《專利權(quán)的保護(hù)》第版,北京,知識(shí)產(chǎn)權(quán)出版社年版,第頁(yè)。雷立康:《論“自由公知技術(shù)抗辯”在專利侵權(quán)訴訟中的運(yùn)用》,載《科技情報(bào)開(kāi)發(fā)與經(jīng)濟(jì)》年第期。張鵬:《現(xiàn)有技術(shù)抗辯制度本質(zhì)論》,載《
3、科技與法律》年第期,第~頁(yè)。尹新天:《專利權(quán)的保護(hù)》,北京,專利文獻(xiàn)出版社年版,第頁(yè)。孔祥俊、王永昌、李劍:《最高人民法院關(guān)于審理侵犯專利權(quán)糾紛案件應(yīng)用法律若干問(wèn)題的解釋適用的若干問(wèn)題》,載《電子知識(shí)產(chǎn)權(quán)》第期,第~頁(yè)。張曉都:《再談現(xiàn)有技術(shù)抗辯的認(rèn)定標(biāo)準(zhǔn)與現(xiàn)有技術(shù)抗辯中的抵觸申請(qǐng)》,載《中國(guó)專利與商標(biāo)》年第期,第~頁(yè)。國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局條法司:《專利法第三次修改導(dǎo)讀》,北京,知識(shí)產(chǎn)權(quán)出版社年月版。詳見(jiàn)須建楚等:《發(fā)明與實(shí)用新型專利侵權(quán)訴訟中的現(xiàn)有技術(shù)抗辯》,載《中國(guó)專利與商標(biāo)》年第期。該案例系福建省知識(shí)產(chǎn)權(quán)局年所調(diào)處案件之局部。國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局:《專利審查指南》,北京,知識(shí)產(chǎn)權(quán)出版社年
4、月版,第頁(yè)。楊志敏:《專利侵權(quán)訴訟中專利保護(hù)范圍的確定與法院的權(quán)限??析專利要求的縮小和擴(kuò)大解釋》,載國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局條法司:《專利法研究》,北京,知識(shí)產(chǎn)權(quán)出版社年版,第~頁(yè)?!蹲罡呷嗣穹ㄔ宏P(guān)于審理侵犯專利權(quán)糾紛案件應(yīng)用法律若干問(wèn)題的解釋》第條。吳玉和:《公知技術(shù)抗辯在中國(guó)司法實(shí)踐中的運(yùn)用和發(fā)展》,載《中國(guó)專利與商標(biāo)》年第期。