高熔點(diǎn)單晶生長用銥坩堝制備技術(shù)及應(yīng)用

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1、第34卷第3期PreciousMetalsVol.34,No.3高熔點(diǎn)單晶生長用銥坩堝制備技術(shù)及應(yīng)用唐會毅,李國綱,吳保安,汪建勝,陳德茂,劉慶賓(國家儀表功能材料工程技術(shù)研究中心,重慶材料研究院有限公司,重慶400707)摘要:銥坩堝作為高熔點(diǎn)單晶生長容器具備高溫性能優(yōu)異、耐持久性、溫度場均勻、抗氧化中毒、良好的抗熱震性等性能。采用高頻熔煉熱澆鑄和熱加工制備了大直徑銥坩堝,具有材料純度高、晶粒細(xì)小、組織均勻、致密度高、加工性能優(yōu)異等特點(diǎn),其高溫力學(xué)性能、熱穩(wěn)定性和服役壽命等均有明顯提高。在不同溫度進(jìn)行退火處理,并進(jìn)行了顯微組織分析和顯微硬度測試。結(jié)果表明,適當(dāng)?shù)耐嘶饻囟?/p>

2、和加工率可以降低銥板材的硬度,改善材料的塑性變形及加工能力。獲得了適合大直徑銥坩堝熱加工制度為:退火溫度在1300~1500℃,道次加工率為10%~15%。關(guān)鍵詞:金屬材料;銥坩堝;單晶;大直徑;熱澆鑄;熱加工中圖分類號:TG146.3+4文獻(xiàn)標(biāo)識碼:A文章編號:1004-0676(2013)03-0046-04ThePreparationTechnologyandApplicationofIridiumCrucibleUsedintheGrowthofHighMeltingPointSingleCrystalsTANGHuiyi,LIGuogang,WUBaoan,WA

3、NGJiansheng,CHENDemao,LIUQingbin(NationalInstrumentFunctionalMaterialsEngineeringTechnologyResearchCenters,ChongqingMaterialsResearchInstituteCo.Ltd.,Chongqing400707,China)Abstract:Iridiumcruciblehasexcellentproperties,suchasexcellenthightemperaturemechanicalproperty,durability,temperatur

4、efielduniformity,aswellasoxidationresistance,thermalshockresistance,andsoon.Thelargediameteriridiumcruciblewassuccessfullyfabricatedbyhighfrequencysmelting,hotcastingandhotprocessing.Theiridiumpreparedcruciblehasexcellentproperties,suchasfinecrystalgrain,homogeneityofstructureanddense,goo

5、dprocessingperformance.Anditsignificantlyimprovedhightemperatureproperties,thermalstabilityandlonglifetimes.ThemicrostructureandVickershardnessofiridiumsamplestreatedatdifferenttemperaturewereanalyzed.Theresultsshowthattheappropriateannealingtemperaturecouldreducethehardnessandimproveplas

6、ticdeformationandprocessingperformance.Thesuitabletemperatureparametertofabricatethelargediameteriridiumcrucibleis1300~1500℃,andthepassdeformationis10%~15%.Keywords:metalmaterial;iridiumcrucible;singlecrystal;largediameter;hotcasting;hotprocessing光學(xué)及光電子學(xué)用高熔點(diǎn)單晶如釔鋁石榴石(YAG)、鍺鎵石榴石(GGG)、紅寶石、以及

7、鎢酸鹽、鈦酸鹽、氟磷酸鈣、氟釩酸鈣等的生長正趨向于大尺寸、集成化,技術(shù)指標(biāo)更高。單晶直拉法是目前生產(chǎn)單晶的主流方法,其主要原理為:建立相應(yīng)的溫度場,在固-液界面形成一定過冷度,在籽晶上進(jìn)行結(jié)晶。高熔點(diǎn)單晶生長的容器需具備耐高溫(工作溫度為1900~2200℃)、耐持久性、溫度場均勻、同時具備高的強(qiáng)度和硬度、良好的抗熱震性、良好的耐磨性、抗腐蝕性,且有在高溫下具有抗氧化中毒以及長的服役壽命等性能[1]。貴金屬銥作為一種高熔點(diǎn)(熔點(diǎn)為2443℃)的面心立方晶體材料,具有很高的強(qiáng)度和硬度、很好的耐磨性、抗腐蝕性,高溫抗氧化等性能。但

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