電子器件用超純水設(shè)備

電子器件用超純水設(shè)備

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1、電子器件用超純水設(shè)備  資源共享來(lái)源于萊特萊德西寧超純水設(shè)備工程公司  電子器件用超純水設(shè)備對(duì)離子含量要求非常高,采用先進(jìn)的反滲透水處理設(shè)備技術(shù),結(jié)合尖端的EDI,混合床技術(shù),使產(chǎn)水水質(zhì)最高可達(dá)18.25兆歐,水質(zhì)符合ASTM標(biāo)準(zhǔn)。目前我國(guó)電子工業(yè)部把電子級(jí)水質(zhì)分為五個(gè)行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)?! ‰娮悠骷兯幚碓O(shè)備工作原理  電去離子(EDI)系統(tǒng)主要是在直流電場(chǎng)的作用下,通過(guò)隔板的水中電介質(zhì)離子發(fā)生定向移動(dòng),利用交換膜對(duì)離子的選擇透過(guò)作用來(lái)對(duì)水質(zhì)進(jìn)行提純的一種科學(xué)的水處理技術(shù)。電滲析器的一對(duì)電極之間,通常由陰膜,陽(yáng)膜和隔板(甲、乙)多組交替排列,構(gòu)成濃室和淡室(

2、即陽(yáng)離子可透過(guò)陽(yáng)膜,陰離子可透過(guò)陰膜)。淡室水中陽(yáng)離子向負(fù)極遷移透過(guò)陽(yáng)膜,被濃室中的陰膜截留,水中陰離子向正極方向遷移陰膜,被濃室中的陽(yáng)膜截留,這樣通過(guò)淡室的水中離子數(shù)逐漸減少,成為淡水,而濃室的水中,由于濃室的陰陽(yáng)離子不斷涌進(jìn),電介質(zhì)離子濃度不斷升高,而成為濃水,從而達(dá)到淡化、提純、濃縮或精制的目的?! ‰娮庸I(yè)制備超純水的工藝  1、采用離子交換樹(shù)脂制備電子工業(yè)超純水的傳統(tǒng)水處理方式,其基本工藝流程為:原水→多介質(zhì)過(guò)濾器→活性炭過(guò)濾器→精密過(guò)濾器→中間水箱→陽(yáng)床→陰床→混床(復(fù)床)→超純水箱→超純水泵→后置保安過(guò)濾器→用水點(diǎn)?! ?、采用反滲透水處理設(shè)

3、備與離子交換設(shè)備進(jìn)行組合制備電子工業(yè)超純水的方式,其基本工藝流程為:原水→多介質(zhì)過(guò)濾器→活性炭過(guò)濾器→精密過(guò)濾器→中間水箱→反滲透設(shè)備→混床(復(fù)床)→超純水箱→超純水泵→后置保安過(guò)濾器→用水點(diǎn)。3、采用反滲透設(shè)備與電去離子(EDI)設(shè)備進(jìn)行搭配制備電子工業(yè)超純水的方式,這是一種制取超純水的最新工藝,也是一種環(huán)保,經(jīng)濟(jì),發(fā)展?jié)摿薮蟮某兯苽涔に嚕浠竟に嚵鞒虨椋涸嘟橘|(zhì)過(guò)濾器→活性炭過(guò)濾器→精密過(guò)濾器→中間水箱→反滲透設(shè)備→電去離子(EDI)→超純水箱→超純水泵→后置保安過(guò)濾器→用水點(diǎn)。  電子工業(yè)超純水設(shè)備應(yīng)用技術(shù)在工藝設(shè)計(jì)上,自來(lái)水標(biāo)準(zhǔn)的水為源

4、水,再設(shè)有介質(zhì)過(guò)濾器,活性炭過(guò)濾器,精密過(guò)濾器等預(yù)處理系統(tǒng)、RO反滲透主機(jī)系統(tǒng)、離子交換混合床等。1、介質(zhì)過(guò)濾器主要作用是去除原水中的懸浮物質(zhì)及機(jī)械雜質(zhì)設(shè)備由優(yōu)質(zhì)不銹鋼材料制作而成。體內(nèi)裝有布水帽、精制石英砂等。合理的石英砂裝填比例及良好的布水系統(tǒng),使系統(tǒng)的產(chǎn)水水質(zhì)更加穩(wěn)定。另外設(shè)備還設(shè)有氣體沖刷功能,能最大限度地清除介質(zhì)上及床層中的污垢,提高出水水質(zhì)和延長(zhǎng)工作周期。2、活性炭過(guò)濾器具有除臭、去色、除油、吸附有機(jī)物雜質(zhì)等作用,能最大程度的去除水中的游離余氯,保證反滲透膜的進(jìn)水水質(zhì),設(shè)備由優(yōu)質(zhì)不銹鋼材料制成。3、RO主機(jī)系統(tǒng)引進(jìn)國(guó)際上先進(jìn)的反滲透技術(shù),利用壓

5、力差原理,能有效地去除水中的鹽。4、混合采用離子交換技術(shù),內(nèi)裝陰、陽(yáng)樹(shù)脂,合理的樹(shù)脂層高度能有效地保證出水水質(zhì)滿足用戶要求?! ‰娮庸I(yè)超純水設(shè)備應(yīng)用范圍  半導(dǎo)體材料、器件、印刷電路板和集成電路、超純材料和超純化學(xué)試劑、實(shí)驗(yàn)室和中試車間、汽車家電表面拋光處理醫(yī)藥行業(yè)用水、其他高科技精微產(chǎn)品行業(yè)。

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