微波氫等離子體發(fā)射光譜診斷

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1、武漢T程大學(xué)碩十學(xué)位論文SiClx基團(tuán),隨后H原子與SiClx基團(tuán)發(fā)生鏈?zhǔn)椒磻?yīng)生成HCl和Si等最終產(chǎn)物。發(fā)現(xiàn)氫氣的加入能增jJISiCl4的分解率,在微波功率為800W時,H0【線發(fā)射光譜的強度和SiCl4的分解率都隨SiCl4初始濃度的增加而減小,當(dāng)SiCl4濃度小于1%時,其分解率能維持在95%以上。測量了噴嘴上方等離子體射流軸向上的激發(fā)態(tài)氫原子的空間分布,結(jié)果表明射流中心的氫原子密度要大于兩端處的氫原子密度。關(guān)鍵詞:氫等離子體;發(fā)射光譜;微波放電;展寬;診斷IIAbstractHydrogenplasmagenerallygeneratedbyDC,RFan

2、dmicrowavehasnumerouspotentialapplicationsinplasmachemicalvapordeposition,plasmareactionkinetics,chemicalsynthesisandotherresearchwork.Insitu,nonintrusivediagnosisofhydrogenplasmaareoftenthekeytOunderstandingthephysical-chemicalprocessesintheplasmaandcontrollingtheplasmabehavior.Inthis

3、paper,plasmaparametersandinterrelatedplasmareactionprocessintwokindsofhydrogenmicrowavedischargessystemhavebeenmeasuredbyatomicemissionspectroscopy.(1)TheHBalmeremissionlineshavebeenmeasuredonahigh-pressure(10-40kPa)microwavedischargesusingpurehydrogen.Thelinestrength,thelineprofilesan

4、dthelinewidthofHatomBalmerlines(戰(zhàn),Hp,H)havebeenstudied.Theinfluenceofthemicrowavepowerandworkingpressureontheelectronicexcitationtemperature,electrondensity,electricfieldstrengthandiontemperaturewereinvestigateddetailedly.Theresultsindicatethat:TheprofileofHatomiclinesisinaccordwithVoi

5、gtprofilesintheory.Thelinewidthof心,Hp,andHlinesincreasesinturn.Therelativeintensityofspectrallines,theelectrondensityandtheelectricfieldincreasewiththeincreaseofmicrowavepower,andincreasegraduallytoapeakvalueandthendecreaseswiththeincreaseofpressure,andallreachthemaximumatapressureof25

6、kPawhenthemicrowavepowerwassetat800W.Theelectronicexcitationtemperaturecontinuouslyreducedwiththeincreaseofpressureandthechangesofpressurehavelittleeffectoniontemperature.Withthemicrowavepowerincrease,theelectronicexcitationtemperatureandiontemperatureincreasewithadifferentextent.(2)Am

7、icrowaveplasmajetdevicehasbeendesignedtoexciteandIII武漢T程大學(xué)碩+學(xué)位論文maintainstableplasmaonatmosphericpress.TheemissionspectraofSiCl4/H2mixedgasdischargewereinvestigated.TheprocessandproductsofSICl4decompositionareanalysed.TheemissionintensityofHalineandthedecompositionefficiencyofSICl4at

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