喜樹(shù)苗木生長(zhǎng)、生理生化特性及喜樹(shù)堿含量對(duì)光照強(qiáng)度的響應(yīng)

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1、分類號(hào)密級(jí)不保密ＵＤＣ碩±學(xué)位論文喜樹(shù)巧木生長(zhǎng)、生理生化特性及喜樹(shù)堿含量對(duì)光照強(qiáng)度的響應(yīng)作者姓名；馬曉華指導(dǎo)教師：吳家勝教授學(xué)科專業(yè)名務(wù)－二產(chǎn)；森化培育研究方向：嗟濟(jì)林培脊與利用所在學(xué)院；林業(yè)與生物技術(shù)學(xué)院論文提交日期：２０１５年６月苗＇．＇Ｖ＇；．：浙江農(nóng)林大學(xué)２０１５年６月３日ZhejiangA&FUniversityDissertationfortheDegreeofMasterGrowth、Physiological、andBiochemicalCharacteristicsan

2、dcamptothecincontentresponsesofCamptothecaacuminataseedlingstolightintensityCandidate:MAXiaohuaAdviser:WUJiasheng,ProfessorSpecialty:SilvicultureDateofSubmission:June3,2015ZhejiangA&FUniversityLin’an,zhejiangprovince,P.R.ChinaJune,2015獨(dú)創(chuàng)性聲明本人聲明，所呈交的學(xué)位論文，是在指導(dǎo)教師指導(dǎo)下，通過(guò)我的努力取得的成果，并且是自己撰寫的

3、。盡我所知，除了文中作了標(biāo)注和致謝中已經(jīng)作了答謝的地方外，論文中不包含其他人發(fā)表或撰寫過(guò)的研究成果，也不包含在浙江農(nóng)林大學(xué)或其他教育機(jī)構(gòu)獲得學(xué)位或證書(shū)而使用過(guò)的材料。與我一同對(duì)本研究做出貢獻(xiàn)的同志，都在論文中作了明確的說(shuō)明并表示了謝意。如被查有嚴(yán)重侵犯他人知識(shí)產(chǎn)權(quán)的行為，由本人承擔(dān)應(yīng)有的責(zé)任。學(xué)位論文作者親筆簽名：日期：論文使用授權(quán)的說(shuō)明本人完全了解浙江農(nóng)林大學(xué)有關(guān)保留、使用學(xué)位論文的規(guī)定，即學(xué)校有權(quán)送交論文的復(fù)印件，允許論文被查閱和借閱；學(xué)?？梢怨颊撐牡娜炕虿糠謨?nèi)容，可以采用影印、縮印或其他復(fù)制手段保存論文。保密，在年后解密可適用本授權(quán)書(shū)?！醪槐Ｃ?本學(xué)位

4、論文屬于不保密?！酰ㄕ?qǐng)?jiān)诜娇騼?nèi)打“√”）學(xué)位論文作者親筆簽名：日期：指導(dǎo)教師親筆簽名：日期：摘要摘要論文研究了不同光照強(qiáng)度（全光照、75%光強(qiáng)、50%光強(qiáng)、25%光強(qiáng)）對(duì)喜樹(shù)苗木生長(zhǎng)、葉綠素含量、光合參數(shù)、熒光參數(shù)、保護(hù)酶系統(tǒng)、喜樹(shù)堿含量以及喜樹(shù)堿合成過(guò)程關(guān)鍵酶和基因表達(dá)量的影響。結(jié)果表明，75%光強(qiáng)最有利于喜樹(shù)的生長(zhǎng)，而100%和25%光強(qiáng)則使喜樹(shù)的生長(zhǎng)受到抑制；隨光照強(qiáng)度降低和處理時(shí)間的延長(zhǎng)，喜樹(shù)堿合成過(guò)程相關(guān)酶TSB和TDC活性的增加，與之相應(yīng)的tsb、tdc1、tdc2基因表達(dá)也隨之增加，促進(jìn)喜樹(shù)堿含量的增加；50%光照水平下，單位面積上的喜樹(shù)堿產(chǎn)量達(dá)到

5、最高。研究結(jié)果為喜樹(shù)葉用園密度設(shè)置和光照強(qiáng)度的管理提供了理論依據(jù)。通過(guò)對(duì)各項(xiàng)指標(biāo)的分析和比較，主要研究結(jié)果如下：（1）不同光照強(qiáng)度下，喜樹(shù)的生長(zhǎng)不同：75%光照喜樹(shù)生長(zhǎng)最優(yōu)；100%和25%光照強(qiáng)度下，生物量和苗高增長(zhǎng)受到抑制。喜樹(shù)的葉面積的變化表現(xiàn)為喜樹(shù)幼苗的葉面積隨著光照強(qiáng)度的降低而增加。（2）隨著光照強(qiáng)度的升高，喜樹(shù)葉片中chla、chlb、chl(a+b)和類胡蘿卜素含量均下降，喜樹(shù)幼苗的光合參數(shù)（包括凈光合速率Pn、氣孔導(dǎo)度Gs、蒸騰速率Tr）均呈上升趨勢(shì)，說(shuō)明低光下喜樹(shù)葉片合成大量的葉綠素以便吸收更多光能，促進(jìn)光合作用；但在全光照條件下，光合參數(shù)（包

6、括凈光合速率Pn、氣孔導(dǎo)度Gs、蒸騰速率Tr）略有下降，胞間CO2濃度Ci也有所升高，說(shuō)明過(guò)高的光強(qiáng)引起的光能過(guò)剩促進(jìn)了葉綠素的降解。而75%光照條件下，有較高的Fv/Fm、Fo、Fm、ΦPSⅡ、qP的值，說(shuō)明此時(shí)喜樹(shù)葉片的光抑制程度和光缺乏現(xiàn)象得到緩解，使喜樹(shù)幼苗在此時(shí)保持較高的PSⅡ光化學(xué)效率。.-（3）25%和全光照條件下，喜樹(shù)幼苗的REC、MDA含量以及超氧陰離子(O2)的產(chǎn)生速率和過(guò)氧化氫H2O2的含量較其他光照條件下高，說(shuō)明此時(shí)植物受到光缺乏以及光抑制引起的傷害作用。且與全光照組相比，喜樹(shù)幼苗的SOD、CAT、POD的活性在75%光照下較低，在其他光

7、照下較高，說(shuō)明SOD、CAT和POD對(duì)清除喜樹(shù)體內(nèi)的活性氧有著重要作用，但當(dāng)傷害加強(qiáng)時(shí)，POD、SOD和CAT，卻不能完全清除植物體內(nèi)過(guò)多的活性氧。（4）光照強(qiáng)度影響著喜樹(shù)葉片氣孔和葉綠體的生長(zhǎng)發(fā)育。過(guò)低和過(guò)高的光照強(qiáng)度都不利于氣孔和綠體的發(fā)育。低光強(qiáng)通過(guò)減少氣孔密度以減少光反應(yīng)中心的負(fù)擔(dān)，高光強(qiáng)通過(guò)減少氣孔的開(kāi)度減少水分的散失。而過(guò)低和過(guò)高的光強(qiáng)導(dǎo)致了葉綠體的變形以及類囊體薄膜結(jié)構(gòu)紊亂。（5）光照強(qiáng)度的降低和處理時(shí)間的延長(zhǎng)促進(jìn)了次生代謝產(chǎn)物喜樹(shù)堿含量的增加，也引起與喜樹(shù)堿合成過(guò)程相關(guān)酶TSB和TDC活性的增加。與之相應(yīng)的TSB基因表達(dá)量I和TDC1、TDC2也

8、隨之增加。但是，當(dāng)處理時(shí)