鋁摻雜氧化鋅薄膜的電學(xué)及光學(xué)性能

鋁摻雜氧化鋅薄膜的電學(xué)及光學(xué)性能

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1、第37卷第3期吉林大學(xué)學(xué)報(bào)(工學(xué)版)Vol.37No.32007年5月JournalofjilinUniversity(EngineeringandTechnologyEdition)May20O7鋁摻雜氧化鋅薄膜的電學(xué)及光學(xué)性能劉耀東‘,“,李光玉‘,連建設(shè)‘(l.吉林大學(xué)汽車材料教育部重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室,長春130022;2,長春工業(yè)大學(xué)材料科學(xué)與工程學(xué)院,長春130012)摘要:利用脈沖激光沉積法,在氧氣氛下(氧分壓為nPa)以石英玻璃為基體沉積了鋁摻雜氧化鋅薄膜。靶材選用鋅鋁合金靶,沉積過程中基體溫度保持在150℃。研究了ZnO薄膜中鋁的質(zhì)量分?jǐn)?shù)與薄膜電學(xué)性能和發(fā)光性能的關(guān)系。結(jié)

2、果表明,摻雜鋁的質(zhì)量分?jǐn)?shù)為1.37%時(shí)所獲得的ZnO薄膜具有最小的電阻率和較強(qiáng)的紫外發(fā)光特性。關(guān)鍵詞:材料實(shí)驗(yàn);鋁摻雜氧化鋅薄膜;紫外發(fā)光;電學(xué)性能;脈沖激光沉積中圖分類號(hào):TGlls.26;TN3os.3文獻(xiàn)標(biāo)識(shí)碼:A文章編號(hào):1671一5497(2007)03一0495一04EffectofAI一doPingonelectricalandoPticaIProPertiesofZn0fllmsLiuyao一dongl,2,LIGuang一yul,Lianjian--she‘(1.TheKe夕LabofAutomob藝leM泛terial:,Minist勺o(hù)fEducat之On,

3、JilinU元iversit夕,Changchun130022,China;2.SchoolofM巨terialsscienceandEngineering,ChangchunU沁匯versityofTeChnology,Changchun130012,China)Abstract:Aluminum一doPedzincoxide(AZO)thinfilmshavebeendepositedonquartzglasssubstratesbypulsedlaserdepositionfromablatingmetallictargetsinoxygenatmosPhere(11Pao

4、foxygenPressure)andunderasubstratetemperatureof150℃Thestructural,electricalandoPticalProPertiesofthesefilmswereinvestigatedasafunctionofAI一dopingcontentinthefilm.Itwasobservedthatl.37%ofAlcontentinthefilmistheoptimumdopingcontentthatmakesthefilmtoachievetheminimumfilmreslsltlvltyandstrongultr

5、avioletemission.Keywords:materialsexperiment;aluminum-dopedZlnCoxidethinfilms;ultravioleten】ISS10fi;electricalproperty;pulsedlaserdeposition由于新型透明導(dǎo)電薄膜Al摻雜ZnO(AZO)積薄膜的成份更接近于靶材,即使是多種成份的中的Zn價(jià)格便宜、來源豐富、無毒,并且在氫等合金靶也可以用此方法獲得薄膜。更重要的是激離子體中的穩(wěn)定性優(yōu)于ITO[lj,同時(shí)具有可與光作用下產(chǎn)生的等離子體有較高的能量,使AZOITO相比擬的光電特性圖,因此鋁摻雜氧化鋅薄

6、薄膜可以在較低的基體溫度甚至在室溫下沉膜得到了廣泛應(yīng)用。積圈。本實(shí)驗(yàn)利用Zn-AI合金靶在較低的溫度常用的ZnO或AZO薄膜制備工藝有直流(150℃)下于石英玻璃基體上沉積了AZO薄膜,(射頻)磁控濺射、真空反應(yīng)蒸發(fā)、溶膠一凝膠法、脈并研究了鋁的質(zhì)量分?jǐn)?shù)對(duì)薄膜電學(xué)及光學(xué)特性的沖激光沉積法(PLD)等〔3一“〕。其中PLD法所沉影響。收稿日期:2006一06一12.基金項(xiàng)目:“973”國家基礎(chǔ)研究發(fā)展規(guī)化項(xiàng)目(Zoo4CB6193ol)‘作者簡介:劉耀東(1969一),男,博士研究生.研究方向:氧化鋅發(fā)生材料.E-mail:yaodong一liu@163.com通訊聯(lián)系人:連建設(shè)(

7、1953一),男,教授,博士生導(dǎo)師.研究方向:薄膜涂層及納米材料.E--mail:lianjs@jhi,edu.cn496吉林大學(xué)學(xué)報(bào)(工學(xué)版)第37卷也將改變(002)面和(101)面的表面能,進(jìn)而導(dǎo)致1實(shí)驗(yàn)過程了在某種條件下(002)取向的弱化和隨機(jī)生長或薄膜的沉積過程在球形真空室中進(jìn)行,經(jīng)過(101)生長的可能。機(jī)械泵和分子泵的二級(jí)抽真空,使真空度達(dá)到5薄膜的平均晶粒尺寸可以通過Scherrer公x10一‘Pa,然后以nPa的固定壓力充人純度為式〔8〕計(jì)算得到99.99%的

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