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1、掩膜版（mask）的制造2016-05-08目錄1凈化車間相關(guān)基礎(chǔ)2掩膜版制作流程3其它相關(guān)內(nèi)容1.凈化車間相關(guān)基礎(chǔ)潔凈室(CleanRoom)，亦稱為無(wú)塵室或凈化車間?！笣崈羰摇故侵笇⒁欢臻g范圍內(nèi)空氣中的微粒子、有害空氣、細(xì)菌等污染物排除，并將室內(nèi)溫度、潔凈度、室內(nèi)壓力、氣流速度與氣流分布、噪音振動(dòng)及照明、靜電控制在某一需求范圍內(nèi)，而所給予特別設(shè)計(jì)的房間。亦即是不論外在之空氣條件如何變化，其室內(nèi)均能具有維持原先所設(shè)定要求的潔凈度、溫濕度及壓力等性能之特性。目前公司光刻室溫度控制在23±0.5℃、其它潔凈室溫度控制在23±1℃，相對(duì)濕度控制在45%～70%
2、RH。1.凈化車間相關(guān)基礎(chǔ)潔凈室潔凈度等級(jí)的定義潔凈度等級(jí)（Class）目前有公制和英制兩種定義方式1）公制定義方式：每立方米空氣中含有大于或等于直徑為0.5цm的塵?？倲?shù)，用10m表示。如果無(wú)塵室每立方米空間含有大于或等于直徑為0.5цm的塵粒1000粒，10m=1000=103，那么該無(wú)塵室就被稱為M3級(jí)。2）英制定義方式：即直接用該區(qū)域每立方英尺空氣中大于等于直徑為0.5цm的塵粒個(gè)數(shù)作為定義標(biāo)準(zhǔn)。ISO14644-1標(biāo)準(zhǔn)1.凈化車間相關(guān)基礎(chǔ)ISO14644-1標(biāo)準(zhǔn)1級(jí)10級(jí)1100級(jí)101000級(jí)10010000級(jí)100010萬(wàn)級(jí)10000∑單位換算
3、：1m3=35.3ft3；1ft3=28.3L；NewWay使得的粒子計(jì)數(shù)器是吸氣量2.83L/Min；∑各行業(yè)對(duì)潔凈室等級(jí)要求存在較大差異；（如LCM、LCD、IC等）感性認(rèn)知一般自然界氣體等級(jí)外大氣層1,000大氣層10,000田園地帶100,000街市區(qū)1,000,000工業(yè)地帶10,000,000理性認(rèn)知1.凈化車間相關(guān)基礎(chǔ)1.凈化車間相關(guān)基礎(chǔ)∑HEPA（HighEffucencyParticulateAir-filter）（FFU）0.3um的微粒子捕捉率至少為99.97%；∑ULPA（UltraLowParticulatePenetrationA
4、ir-filter）0.15um的微粒子捕捉率至少為99.9995%；1.凈化車間相關(guān)基礎(chǔ)彩鋼板泡沫彩鋼板（夾心板）巖綿彩鋼板（夾心板）【需遠(yuǎn)離明火】【防火、隔熱、隔音】2.掩膜版制作流程掩膜版的分類鉻版：（精度高、耐用、價(jià)格高）干版（精度適中、耐用性適中、價(jià)格適中）掩膜版（mask或光罩）菲林（精度低、不耐用、價(jià)格低）凸版（APR)版（主要用來(lái)轉(zhuǎn)移PI液等）2.掩膜版制作流程圖案形成工程檢查修正工程客激光光光光清戶光罩罩罩罩洗數(shù)曝化尺缺缺包據(jù)光學(xué)寸陷陷裝處描制量檢修出理繪程測(cè)驗(yàn)補(bǔ)貨圖檔處理生產(chǎn)品質(zhì)2.掩膜版制作流程掩膜版的圖像形成流程（除曝光外，其它與一般
5、的黃光過程類似）Step1Step2BlankconfigurationExposurePhoto-resistdevelopPhoto-resistCrfilmQuartzStep3Step7Step4AOIPhoto-resiststripWetetch2.掩膜版制作流程曝光過程：掩膜版的曝光過程與一般產(chǎn)品的的曝光差異最大的地方，就是一般的曝光，都是整版一次性完成；而掩膜版的精度要求非常高，需要使用激光束（或電子束）逐行掃描的方式來(lái)完成，因此，曝光一片掩膜版，需要相當(dāng)長(zhǎng)時(shí)間。2.掩膜版制作流程AOI（AutoOpticalInspection，自動(dòng)光學(xué)檢
6、查）由于掩膜版的高精密性，圖形非常細(xì)小，而諸如斷路、短路等缺陷，則會(huì)造成下游使用客戶的致命缺陷，因此，需要使用缺陷掃描能力強(qiáng)的AOI設(shè)備來(lái)對(duì)掩膜版的缺陷進(jìn)行檢查以確保掩膜版的品質(zhì)。2.掩膜版制作流程鉻版存放要求鉻版為硬掩膜版，為防止其變形，需要豎直存放。為了保證掩膜版表面的潔凈度，一般要保存在1000級(jí)以上的無(wú)塵室內(nèi)，溫度：20~26℃，濕度需維持在40-60%RH以內(nèi)，靜電電壓控制在500伏以內(nèi)。因?yàn)殂t版的基材是玻璃，如果需要對(duì)鉻版長(zhǎng)期保存，則需要保持在干燥的環(huán)境里，以防止玻璃出現(xiàn)發(fā)霉現(xiàn)象，影響光學(xué)性能。為了盡可能地避免劃、碰傷，影響壽命，使用時(shí)要輕拿輕放
7、，曝光前必須對(duì)光檢查鉻版表面是否有硬性顆粒，在曝光過程中也需要經(jīng)常用凈化后的壓縮氣體清除鉻版表面的玻璃碎片。使用完畢后，應(yīng)將鉻版表面重新清洗潔凈，干燥后再保存。2.掩膜版制作流程鉻版存放要求在柜子頂部加三個(gè)離子風(fēng)機(jī)向下吹，同時(shí)在第二層的平臺(tái)上打通孔，以便于離子風(fēng)可以垂直往下吹，同時(shí)對(duì)第一層空間也進(jìn)行靜電的消除預(yù)防。3.其它相關(guān)內(nèi)容鉻版原材結(jié)構(gòu)從膜面看：表觀看起來(lái)比較暗，呈深褐色光阻P/R~7000?氧化鉻Cro~500?鉻Cr~700?Glass從非膜面（玻璃）看：表觀看起來(lái)銀亮色，可以清楚看清反射物體類似于鏡子一樣3.其它相關(guān)內(nèi)容鉻版原材玻璃，依材質(zhì)分類：
8、蘇打玻璃、石英玻璃、硼硅玻璃；RigidityMat
