CMOS集成電路版圖 Tanner L-Edit設(shè)計(jì)入門

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1、2021年9月13日星期一集成電路版圖設(shè)計(jì)入門2021年9月13日星期一主要內(nèi)容:n版圖設(shè)計(jì)概念;n版圖設(shè)計(jì)流程及在IC設(shè)計(jì)中的位置;nTanner版圖流程舉例(反相器等)。2021年9月13日星期一版圖設(shè)計(jì)概念定義:版圖設(shè)計(jì)是創(chuàng)建工程制圖(網(wǎng)表)的精確的物理描述過程,而這一物理描述遵守有制造工藝、設(shè)計(jì)流程以及通過仿真顯示為可行的性能要求所帶來的一系列約束。2021年9月13日星期一雙極集成電路版圖設(shè)計(jì)2021年9月13日星期一MOS集成電路版圖設(shè)計(jì)2021年9月13日星期一電壓比較器2021年9月13日星期一運(yùn)算放大器2021年9月13日星期一2

2、021年9月13日星期一版圖設(shè)計(jì)流程流程的定義:流程是一系列有效方法的集合,應(yīng)用這些方法,可以實(shí)現(xiàn)和驗(yàn)證一個設(shè)計(jì)思想的有效描述,使最終的結(jié)果顯示出預(yù)期功能的適當(dāng)特性。全定制:起因于設(shè)計(jì)工程師對設(shè)計(jì)的所有方面有完全定制的自由。2021年9月13日星期一模擬版圖設(shè)計(jì)流程規(guī)范電路輸入電路驗(yàn)證版圖輸入版圖驗(yàn)證實(shí)現(xiàn)版圖參數(shù)提取2021年9月13日星期一CMOSVLSI制造工藝(略)2021年9月13日星期一Tanner版圖流程舉例(反相器)集成電路設(shè)計(jì)近年來發(fā)展相當(dāng)迅速,許多設(shè)計(jì)需要借助計(jì)算機(jī)輔助設(shè)計(jì)軟件。作為將來從事集成電路設(shè)計(jì)的工作人員,至少需要對版圖有

3、所了解,但是許多軟件(如cadence)實(shí)在工作站上執(zhí)行的,不利于初學(xué)者。L-Edit軟件是基于PC上的設(shè)計(jì)工具,簡單易學(xué),操作方便,通過學(xué)習(xí),掌握版圖的設(shè)計(jì)流程。2021年9月13日星期一TannerPro簡介:TannerPro是一套集成電路設(shè)計(jì)軟件,包括S-EDIT,T-SPICE,W-EDIT,L-EDIT,與LVS,他們的主要功能分別如下:1、S-Edit:編輯電路圖2、T-Spice:電路分析與模擬3、W-Edit:顯示T-Spice模擬結(jié)果4、L-Edit:編輯布局圖、自動配置與繞線、設(shè)計(jì)規(guī)則檢查、截面觀察、電路轉(zhuǎn)化5、LVS:電路圖

4、與布局結(jié)果對比2021年9月13日星期一2021年9月13日星期一2021年9月13日星期一2021年9月13日星期一設(shè)計(jì)參數(shù)的設(shè)置Setup>Designn該對話框共有六頁,分別是:Technology(工藝參數(shù))、Grid(網(wǎng)格參數(shù))、Selection(選擇參數(shù))、Drawing(繪圖參數(shù))、Curves(曲線參數(shù))、Xreffiles(外部交叉引用參數(shù))n網(wǎng)格分為顯示網(wǎng)格、鼠標(biāo)網(wǎng)格(跳躍、平滑)、定位器網(wǎng)格2021年9月13日星期一設(shè)計(jì)規(guī)則的作用n設(shè)計(jì)規(guī)則規(guī)定了生產(chǎn)中可以接受的幾何尺寸的要求和達(dá)到的電學(xué)性能。n對設(shè)計(jì)和制造雙方來說,設(shè)計(jì)規(guī)則

5、既是工藝加工應(yīng)該達(dá)到的規(guī)范,也是設(shè)計(jì)必循遵循的原則n設(shè)計(jì)規(guī)則表示了成品率和性能的最佳折衷2021年9月13日星期一設(shè)計(jì)規(guī)則的設(shè)置(一)、設(shè)計(jì)的類型nMinimumWidthnExactWidthnNotExistnSpacingnSurroundnOverlapnExtensionnDensity2021年9月13日星期一(1)MinimumWidth該層上所有object在任意方向上的寬度2021年9月13日星期一(2)Exactwidth該層上所有object在特定方向上的準(zhǔn)確寬度2021年9月13日星期一(3)NotExist在指定的層上,所

6、有object都不能存在.這是唯一不含距離的規(guī)則2021年9月13日星期一(4)Spacing在指定的層上或者在指定的兩層之間的object的最小間距2021年9月13日星期一(5)Surround一個層上的物體,在每個方向上,被另一層上的物體至少要環(huán)繞x各單位2021年9月13日星期一(6)Overlap一個層上的物體必須與另一個層上的物體交疊的最小尺寸。Objectswhichoverlapmorethanthespecifieddistanceorwhoseedgescoincidearenotconsideredinviolationofo

7、verlaprules.重疊大于規(guī)定距離或邊緣重合都不算違規(guī)2021年9月13日星期一(7)Extension一個層上的物體必須超過另一個層上的物體的邊界的最小尺寸。當(dāng):距離超過指定數(shù)字、只有一邊剛好重合,其他都在物體之外、被完全surround的時(shí)候,不算是違背規(guī)則2021年9月13日星期一(8)DensityThedensityrulefindsandflagsobjectsonthederiveddensitylayerspecifiedinLayer1.ThelayerspecifiedmustbeaDensitytypederivedla

8、yer.Violationstotheruleincludeanypolygonsoutputtoadensitylaye

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