HULLTEST赫爾槽測試中文版

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1、實用文檔TheHullCell(U.S.Patent#2,149,344)isaminiaturetestcelldesignedtoproduceaplateddepositoverarangeofcurrentdensities.Thedepositisdependentupontheconditionoftheplatingbath(i.e.concentrationofprimarycomponents,additionagentsandimpurities).TheHullCellisauseful

2、toolforvaryingchemicalcomposition,determiningcoveringpower(thelowestcurrentdensityatwhichadepositisproduced),measuringaveragecathodeefficiency,averagemetaldistributionorthrowingpower,andobservingtheeffectsofpH,temperatureanddecompositionproducts.AclearLucit

3、eHullCellenablestheoperatortoobservetheplatingonthebackofthetestpaneltodeterminerelativecoveringpoweratverylowcurrentdensities.赫爾槽(美國專利#2149344)是一種被設(shè)計用來在一定電流密度范圍內(nèi)產(chǎn)生電鍍層的小型測試槽。電鍍層的狀況由電鍍液的狀況決定(主鹽成分,添加劑和雜質(zhì))。赫爾Cell是一種有用的工具,為不同的化學(xué)組成,確定覆蓋能力(最低電流密度產(chǎn)生的鍍層),測量平均電流效率,金

4、屬平均分配或分散能力,并觀察pH值溫度和分解產(chǎn)物的影響,。一個透明的合成樹脂赫爾槽能夠讓操作者通過觀察試片背面的鍍層,以確定在非常低的電流密度下的相對覆蓋能力。TheHullCellwasoriginallydevelopedbytheR.O.HullCompany,whichlaterbecametheROHCODivisionofMcGean-Rohco,andisnowpartofAtotech.TheHullCellhasbecomeanintegralpartofplatingoperationse

5、verywhere.赫爾槽最早由赫爾公司發(fā)明,該公司現(xiàn)在是安美特公司的一個部分,赫爾槽已經(jīng)成為世界各地電鍍操作的一個必須部分。文案大全實用文檔ADVANTAGESTheHullCellenablesanexperiencedoperatortodeterminethefollowingfactsaboutaplatingsolution:1.ApproximateBrightCurrentDensityRange.Thisisaccomplishedbycomparingthebrightplatedarea

6、sonthepanelwithcurrentdensitiesgiveninachart.Ifthebrightoroperablerangeisbetween1-1/4”(3.2cm)and2-1/2“(6.4cm)fromtheleftsideofthepanel,andthetotalcurrentappliedis3Amps,thecorrespondingrespectivecurrentdensitiesfromaHullCellrulerorchartliebetween75Amps/ft2(7

7、.6Amps/dm2)and25Amps/ft2(2.7amps/dm2).Sincethesevaluesrepresentextremelimits,itdoesnotfollowthateitherofthesecurrentdensitiescanbeusedinaplatingbathwithoutobtainingapoordeposit.However,someintermediatecurrentdensitysuchas50Amps/ft2(5.4Amps/dm2)shouldworkbes

8、t.優(yōu)點:赫爾槽可以讓有經(jīng)驗的操作者確定電鍍液的以下狀況:1.近似光亮電流密度的范圍。這是通過用給定的電流密度下比較在試片上的光亮鍍層范圍來實現(xiàn)。如果光亮或可操作的范圍為從試片的左邊算起1-1/4“(3.2厘米)和2-1/2”(6.4厘米),提供的總電流為3安培,從各自的相應(yīng)赫爾槽尺或圖表電流密度讀出電鍍范圍為75Amps/ft2(7.6Amps/dm2)和25Amps/ft2(2.7amps/dm

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