離子液體[EMIM][PF6】負載納米SiOx表面的熔點及結(jié)構(gòu).pdf

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1、物理化學(xué)學(xué)~(WuliHuaxueXuebao1JulyActaP·Chim．Sin．2011，27(7)，1725—17291725【Article】www．whxb．pku．edu．cn離子液體[EMIM][PF6】負載納米SiOx表面的熔點及結(jié)構(gòu)劉玉勝付海英唐忠鋒黃衛(wèi)’吳國忠(中國科學(xué)院上海應(yīng)用物理研究所，上海210800；徐州工程學(xué)院，江蘇徐州221000)摘要：制備了離子液體(1一乙基一3-甲綦咪嘩八氟磷酸【EMIMI[PF?！?負載量不問的多孔納米氧化硅(SiO)，并采，【}j差式描量熱分析(DSC)、×射線衍射(XRD)

2、、激光Raman光譜、傅早葉變換~#I-(FTIR)光譜分析等手段研究離了液體負載納米氧化硅后的熔點變化及桐行為．研究表明負載J納米氧化碓表面的離子液體熔點明顯下降，}I_負載于同l含量的氧化硅表面熔點下降幅度同．純離子液體[EMIMI[PF。1熔點為62。C，存納米氧化硅表面負載量為35％時熔點為52。C，比負載前下降1O。C：負載于另兩種不同基含量的納米氧化磚表面后熔點分別F降2O和17。C．同一種納米氧化硅(比表面為640m·g-,)負載量小于50％時，熔點下降明顯：進一步增人負載，熔點逐漸趨于小體．XRD和Raman光譜分析顯

3、示，離子液體負載f氰化硅表面后其衍射峰或吸收峰十f1對強度發(fā)q三明顯改變．分析負載前后納米氧化硅的結(jié)構(gòu)變化，推斷離子液體熔點下降的主要原是離子液體分子與納米氧化硅表陽之間存在強烈的界面相瓦作朋，而表面羥基的密度及比衷哳積足影響負載后[EMIM][PF?！侩x子液體相行為的主要岡素．關(guān)鍵詞：納米SiO；離子液體：熔點：相變中圖分類號：0647MeltingPointandStructureofIonicLiquid【EMIM][PF6】ontheSurfaceofNano-SiOParticlesLIUYu—Sheng’-FUHai-Yi

4、ng’TANGZhong-Feng’HUANGWei’WUGuo—Zhong’，tShanghaiIn9tituteAppliedPD3'sicsChineseAcademy0『Scienc’esShanghai210800,PR．China；!XuzhouInstituteofTechlmlogy,Xuzhou221000，JiangsuProvince，R．China1Abstract：The1一ethyl一3一methyIimidazoliumhexafIuorophosphateionicIiquid(rEMlM1『PF4)w

5、asabsorbedontothesurfacesofseveraIkindsofnano．SiOparticlesbymechanicalgrindingusinganagatemortar．ThesampleswereinvestigatedbydiferentiaIscanningcalorimetry(DSC)，Ramanspectroscopv．Fouriertransforminfrared(FTIR)spectr0scopy，andX—raydifraction(XRD)．Wefoundthatthemeltingpoi

6、ntofthe『EMIM1fPF61adsorbedonthesuceofnano—SiOwassignificantlyIessthanthatofthebulkionicIiquid．Forthepureionicliquid[EMIM】[PF6]，themeltingpointwas62。C．AfterabsorptionontoSiOnanoparticlesthemeltingpointdecreasedto52。CandATwas一10。C，F(xiàn)ortheothertwotypesofnano．Si0particlesthe

7、△Twas-20and一17。C．respectivelyTheseresultsindicatethatthemeltingpointdepressionwasdependentonthesurflacepropertiesofthenano—SiOparticles．Furthermore．thecharacteristicsofthesurface．a(chǎn)dsorbedIonicIiquidwerealsofoundtobequitedifierentfrOmthatofthebulkionicIiquidbyRamanandXRD

8、analyses．Thediferenceinthedensityofthesudacehydroxylgroupsandthespecificsuceareaofthenano—SiOparticlesmayinduc