真空熱蒸發(fā)鍍膜的故障原因和處理方法

《真空熱蒸發(fā)鍍膜的故障原因和處理方法》由會(huì)員上傳分享，免費(fèi)在線閱讀，更多相關(guān)內(nèi)容在行業(yè)資料-天天文庫(kù)。

1、真空熱蒸發(fā)鍍膜的故障原因和處理方法關(guān)鍵詞：真空,故障,處理?　　1．鍍鋁層陽(yáng)極氧化故障的排除?　　氧化層表面有點(diǎn)狀痕跡?　　(1)預(yù)熔時(shí)電流過(guò)高或未加擋板。應(yīng)適當(dāng)降低預(yù)熔電流及加設(shè)擋板。?　　(2)蒸發(fā)電流過(guò)高。應(yīng)適當(dāng)降低?　　氧化層表面有流痕印跡?　　(1)鍍件表面清潔不良。應(yīng)加強(qiáng)清潔處理。?　　(2)擦拭鍍件時(shí)蘸用乙醇過(guò)多。應(yīng)減少乙醇的蘸用量。?　　(3)手指接觸鍍件表面后留下指印。應(yīng)禁止手指接觸鍍件表面。?　　(4)唾液噴濺到鍍件表面，使鍍層表面產(chǎn)生圈狀印跡。操作者應(yīng)帶上口罩?　　氧化層表面有灰點(diǎn)?　　(1)真

2、空室底盤或室壁太臟。應(yīng)使用乙醇擦拭干凈。?　　(2)夾具太臟。應(yīng)按工藝規(guī)程定期清洗夾具?　　氧化層表面發(fā)紅?　　(1)陽(yáng)極氧化電壓偏低，氧化層厚度不夠。應(yīng)將電壓提高到120V左右。?　　(2)氧化時(shí)間太短，導(dǎo)致陽(yáng)極氧化后表面發(fā)紅。應(yīng)適當(dāng)延長(zhǎng)氧化時(shí)間?　　氧化層表面發(fā)花?　　(1)氧化電壓太高，氧化層部分發(fā)藍(lán)。應(yīng)適當(dāng)降低電壓。?　　(2)各氧化點(diǎn)的電壓或氧化時(shí)間不相同。應(yīng)使各氧化點(diǎn)的電壓和氧化時(shí)間保持一致。?　　(3)電解液溫度太高。應(yīng)適當(dāng)降低?　　氧化層表面發(fā)黃?　　(1)氧化電壓太高，氧化層太厚。應(yīng)適當(dāng)降低電壓。?

3、　　(2)氧化時(shí)間太長(zhǎng)。應(yīng)適當(dāng)縮短。?　　(3)氧化點(diǎn)太多。應(yīng)適當(dāng)減少?　　氧化層表面有灰白細(xì)點(diǎn)?　　(1)溶液中鋁含量增加。應(yīng)更換部分溶液。?　　(2)電解液溫度太高。應(yīng)適當(dāng)降低。?　　(3)鍍件水洗不足，表面殘留電解液，在水分或潮濕氣體作用下形成灰白色的氫氧化鋁細(xì)?　　點(diǎn)。應(yīng)將氧化后的鍍件表面用蒸餾水洗凈電解液，然后擦干，最好是將氧化后的鍍件擦干后?　　放人無(wú)水乙醇中浸1-2h，然后加溫到12．0~C保溫?cái)?shù)小時(shí)?　　氧化后鍍層起泡脫落?　　(1)鍍件表面油a8未除凈。應(yīng)加強(qiáng)脫脂處理。?　　(2>真空度太低。應(yīng)適當(dāng)

4、提高蒸發(fā)時(shí)的真空度。由于鋁是易氧化的金屬，又容易吸收氧，?　　在低真空度下蒸發(fā)，會(huì)因吸收剩余氣體而形成茶褐色的氧化膜，導(dǎo)致反射率降低，鍍層易起泡?　　脫落。通常預(yù)熔的真空度為0．067Pa；蒸鍍裝飾性的鋁膜，蒸發(fā)時(shí)的真空度可適當(dāng)?shù)鸵恍?，?　　般和預(yù)熔的真空度相同；蒸鍍質(zhì)量要求高的鋁膜，真空度應(yīng)當(dāng)高一些，一般為(4—6．7)x10”?　　h。?　　(3)鍍件表面有異物附著。可實(shí)施離子轟擊。一般蒸鍍鋁膜時(shí)進(jìn)行離子轟擊的工藝條件?　　為：電壓2—3kV；電流60—140mA；時(shí)間5—30min?　　氧化后鍍層露底?　　鍍

5、鋁層太薄。應(yīng)適當(dāng)延長(zhǎng)蒸鍍時(shí)間，增加膜層厚度。通常，鋁膜厚度為(5—20)xlo—3mm，?　　控制其厚度主要采用計(jì)時(shí)法，亦可根據(jù)膜層的透光程度來(lái)判斷膜厚，這些方法都需要操作人?　　員具有豐富的實(shí)踐經(jīng)驗(yàn)才能控制，但對(duì)裝飾鍍層用上述方法已足可滿足要求?　　氧化層厚度不足?　　(1)電解時(shí)間太短。應(yīng)適當(dāng)延長(zhǎng)。?　　(2)氧化電壓偏低。應(yīng)適當(dāng)提高。?　　(3)接觸不良。應(yīng)改進(jìn)接觸方式，陽(yáng)極(鎳針)與鍍件表面鋁層必須接觸良好。?　　(4)接觸點(diǎn)的數(shù)量不夠。應(yīng)增加接觸點(diǎn)。對(duì)于面積較大的鍍件，應(yīng)在120~的分度線上設(shè)三個(gè)氧化點(diǎn)。?

6、　　(5)電解液溫度偏高。應(yīng)適當(dāng)降低。?　　(6)接觸點(diǎn)被擊穿。應(yīng)變換接觸點(diǎn)?　　氧化層表面有針孔?　　(1)鍍鋁層太薄。應(yīng)適當(dāng)延長(zhǎng)蒸發(fā)時(shí)間。?　　(2)靜電除塵不徹底。應(yīng)嚴(yán)格按照工藝要求進(jìn)行靜電除塵。?　　(3)離子轟擊電流太大，時(shí)間太長(zhǎng)。應(yīng)適當(dāng)減小離子轟擊電流，一般60—140mA。離子轟擊?　　規(guī)范應(yīng)視鍍件材質(zhì)的耐熱程度來(lái)調(diào)整，以防鍍件變形。?　　(4)真空室和夾具太臟。應(yīng)定期清潔真空室和夾具?　　氧化層脫邊?　　(1)鍍件邊緣清潔不良，有拋光粉、汗?jié)n和污物等。應(yīng)加強(qiáng)鍍件邊緣的清潔，擦拭時(shí)應(yīng)帶上?　　工作手套。

7、?　　(2)夾具不清潔。應(yīng)徹底清潔夾具，特別應(yīng)注意清潔夾具與鍍件邊緣接觸的部位?　　氧化層耐磨和耐蝕性能不良?　　(1)電解液溫度偏高。應(yīng)適當(dāng)降低。?　　(2)氧化電壓偏低。應(yīng)適當(dāng)提高。?　　(3)電解時(shí)間太長(zhǎng)。應(yīng)適當(dāng)縮短。?　　(4)電解液濃度過(guò)高。應(yīng)適當(dāng)降低。?　　(5)鍍鋁層被污染。應(yīng)防止鍍件污染?　　氧化電壓升不高?　　(1)接觸點(diǎn)被擊穿。應(yīng)變換接觸點(diǎn)。?　　(2)電解液濃度不正常。應(yīng)調(diào)整電解液濃度。?　　(3)接觸點(diǎn)接觸不良。應(yīng)改進(jìn)接觸方式?　　接觸點(diǎn)燒焦?　　(1)鍍件與夾具接觸不良。應(yīng)改善接觸條件，使其

8、導(dǎo)電性能良好。?　　(2)氧化電壓過(guò)高。應(yīng)適當(dāng)降低。?　　(3)電解液濃度不正常。應(yīng)按配方進(jìn)行調(diào)整?　　2．鍍鋁層表面蒸鍍一氧化硅保護(hù)膜故障的排除?　　鍍鋁層表面呈藍(lán)灰色?　　(1)鍍鋁層偏厚。應(yīng)適當(dāng)縮短蒸鍍時(shí)間。?　　(2)真空度太低。應(yīng)適當(dāng)提高蒸發(fā)時(shí)的真空度。?　　(3)蒸發(fā)速度太慢。應(yīng)將蒸發(fā)速度提高至3x10—3mnl~$。?　　(4)蒸