電子玻璃工業(yè)大氣污染物排放標(biāo)準(zhǔn)

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ICS13.040.40Z60中華人民共和國國家標(biāo)準(zhǔn)GB29495-2013電子玻璃工業(yè)大氣污染物排放標(biāo)準(zhǔn)Emissionstandardofairpollutantsforelectronicglassindustry（發(fā)布稿）本電子版為發(fā)布稿。請以中國環(huán)境科學(xué)出版社出版的正式標(biāo)準(zhǔn)文本為準(zhǔn)。2013-03-14發(fā)布2013-07-01實(shí)施環(huán)境保護(hù)部發(fā)布國家質(zhì)量監(jiān)督檢驗(yàn)檢疫總局

1目次前言..........................................................................................................................................II1適用范圍.......................................................................................................................................12規(guī)范性引用文件...........................................................................................................................13術(shù)語和定義...................................................................................................................................24大氣污染物排放控制要求...........................................................................................................35大氣污染物監(jiān)測要求...................................................................................................................56實(shí)施與監(jiān)督...................................................................................................................................7附錄A（資料性附錄）玻殼構(gòu)成示意圖.......................................................................................8I

2前言為貫徹《中華人民共和國環(huán)境保護(hù)法》、《中華人民共和國大氣污染防治法》、《國務(wù)院關(guān)于落實(shí)科學(xué)發(fā)展觀加強(qiáng)環(huán)境保護(hù)的決定》等法律、法規(guī)和《國務(wù)院關(guān)于編制全國主體功能區(qū)規(guī)劃的意見》，保護(hù)環(huán)境，防治污染，促進(jìn)電子玻璃工業(yè)生產(chǎn)工藝和污染治理技術(shù)的進(jìn)步，制定本標(biāo)準(zhǔn)。本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了電子玻璃企業(yè)大氣污染物排放限值、監(jiān)測和監(jiān)控要求。電子玻璃企業(yè)排放水污染物、環(huán)境噪聲適用相應(yīng)的國家污染物排放標(biāo)準(zhǔn)，產(chǎn)生固體廢物的鑒別、處理和處置適用國家固體廢物污染控制標(biāo)準(zhǔn)。本標(biāo)準(zhǔn)為首次發(fā)布。自本標(biāo)準(zhǔn)實(shí)施之日起，電子玻璃企業(yè)的大氣污染物排放控制按本標(biāo)準(zhǔn)的規(guī)定執(zhí)行，不再執(zhí)行《工業(yè)爐窯大氣污染物排放標(biāo)準(zhǔn)》（GB9078-1996）和《大氣污染物綜合排放標(biāo)準(zhǔn)》（GB16297-1996）中的相關(guān)規(guī)定。地方省級人民政府對本標(biāo)準(zhǔn)未作規(guī)定的污染物項(xiàng)目，可以制定地方污染物排放標(biāo)準(zhǔn)；對本標(biāo)準(zhǔn)已作規(guī)定的污染物項(xiàng)目，可以制定嚴(yán)于本標(biāo)準(zhǔn)的地方污染物排放標(biāo)準(zhǔn)。本標(biāo)準(zhǔn)的附錄A為資料性附錄。本標(biāo)準(zhǔn)由環(huán)境保護(hù)部科技標(biāo)準(zhǔn)司組織制訂。本標(biāo)準(zhǔn)主要起草單位：中國環(huán)境科學(xué)研究院、中國硅酸鹽學(xué)會電子玻璃分會。本標(biāo)準(zhǔn)環(huán)境保護(hù)部2013年2月25日批準(zhǔn)。本標(biāo)準(zhǔn)自2013年7月1日起實(shí)施。本標(biāo)準(zhǔn)由環(huán)境保護(hù)部解釋。II

3電子玻璃工業(yè)大氣污染物排放標(biāo)準(zhǔn)1適用范圍本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了電子玻璃企業(yè)或生產(chǎn)設(shè)施的大氣污染物排放限值、監(jiān)測和監(jiān)控要求，以及標(biāo)準(zhǔn)實(shí)施與監(jiān)督等相關(guān)規(guī)定。本標(biāo)準(zhǔn)適用于現(xiàn)有電子玻璃企業(yè)或生產(chǎn)設(shè)施的大氣污染物排放管理。本標(biāo)準(zhǔn)適用于對電子玻璃工業(yè)建設(shè)項(xiàng)目的環(huán)境影響評價、環(huán)境保護(hù)設(shè)施設(shè)計(jì)、竣工環(huán)境保護(hù)驗(yàn)收及其投產(chǎn)后的大氣污染物排放管理。電子玻璃工業(yè)太陽能電池玻璃（薄膜太陽能電池用基板玻璃、晶體硅太陽能電池用封裝玻璃等）生產(chǎn)中的大氣污染物排放控制不適用本標(biāo)準(zhǔn)。本標(biāo)準(zhǔn)適用于法律允許的污染物排放行為，新設(shè)立污染源的選址和特殊保護(hù)區(qū)域內(nèi)現(xiàn)有污染源的管理，按照《中華人民共和國大氣污染防治法》、《中華人民共和國水污染防治法》、《中華人民共和國海洋環(huán)境保護(hù)法》、《中華人民共和國固體廢物污染環(huán)境防治法》、《中華人民共和國環(huán)境影響評價法》等法律、法規(guī)、規(guī)章的相關(guān)規(guī)定執(zhí)行。2規(guī)范性引用文件本標(biāo)準(zhǔn)內(nèi)容引用了下列文件或其中的條款。GB/T15432-1995環(huán)境空氣總懸浮顆粒物的測定重量法GB/T16157-1996固定污染源排氣中顆粒物測定與氣態(tài)污染物采樣方法HJ/T27-1999固定污染源排氣中氯化氫的測定硫氰酸汞分光光度法HJ/T42-1999固定污染源排氣中氮氧化物的測定紫外分光光度法HJ/T43-1999固定污染源排氣中氮氧化物的測定鹽酸萘乙二胺分光光度法HJ/T55-2000大氣污染物無組織排放監(jiān)測技術(shù)導(dǎo)則HJ/T56-2000固定污染源排氣中二氧化硫的測定碘量法HJ/T57-2000固定污染源排氣中二氧化硫的測定定電位電解法HJ/T67-2001大氣固定污染源氟化物的測定離子選擇電極法HJ/T75-2007固定污染源煙氣排放連續(xù)監(jiān)測技術(shù)規(guī)范（試行）HJ/T76-2007固定污染源煙氣排放連續(xù)監(jiān)測系統(tǒng)技術(shù)要求及檢測方法（試行）HJ/T397-2007固定源廢氣監(jiān)測技術(shù)規(guī)范HJ/T398-2007固定污染源排放煙氣黑度的測定林格曼煙氣黑度圖法HJ538-2009固定污染源廢氣鉛的測定火焰原子吸收分光光度法（暫行）HJ539-2009環(huán)境空氣鉛的測定石墨爐原子吸收分光光度法（暫行）HJ540-2009環(huán)境空氣和廢氣砷的測定二乙基二硫代氨基甲酸銀分光光度法1

4（暫行）HJ548-2009固定污染源廢氣氯化氫的測定硝酸銀容量法（暫行）HJ549-2009環(huán)境空氣和廢氣氯化氫的測定離子色譜法（暫行）HJ629-2012固定污染源廢氣二氧化硫的測定非分散紅外吸收法《污染源自動監(jiān)控管理辦法》（國家環(huán)境保護(hù)總局令第28號）《環(huán)境監(jiān)測管理辦法》（國家環(huán)境保護(hù)總局令第39號）3術(shù)語和定義下列術(shù)語和定義適用于本標(biāo)準(zhǔn)。3.1電子玻璃electronicglassCRT顯像管玻璃、平板顯示玻璃、電光源玻璃等應(yīng)用于電子、微電子、光電子領(lǐng)域的玻璃產(chǎn)品。3.2CRT顯像管玻璃cathoderaytube（CRT）glass用于制造陰極射線管顯示器（也稱“玻殼”）的玻璃，包括屏玻璃、錐玻璃、管頸玻璃、芯柱及排氣管玻璃、電子槍用支架玻桿、低溫焊接玻璃等。玻殼構(gòu)成示意圖參見附錄A。3.3平板顯示玻璃flatpaneldisplay（FPD）glass用于制造液晶顯示器（TN/STN-LCD、TFT-LCD）、等離子體顯示器（PDP）、有機(jī)發(fā)光顯示器（OLED）等平板顯示器件的基板玻璃、防護(hù)（觸摸）玻璃及其他玻璃部件。3.4電光源玻璃lightingglass用于制造白熾燈、熒光燈、高強(qiáng)度氣體放電燈等電光源產(chǎn)品的泡殼、玻管、芯柱及排氣管玻璃等。3.5電子玻璃熔爐electronicglassfurnace熔制電子玻璃的熱工設(shè)備，包括各種型式的池爐和坩堝爐。按熱能來源，可分為使用天然氣、重油等燃料的熔爐（含電助熔）和全電熔爐。3.6冷修coldrepair玻璃熔爐?；鹄鋮s后進(jìn)行大修的過程。3.7純氧燃燒oxygen-fuelcombustion助燃?xì)怏w含氧量大于等于90%的燃燒方式。3.8大氣污染物排放濃度emissionconcentrationofairpollutants2

5溫度273K，壓力101.3kPa狀態(tài)下，排氣筒干燥排氣中大氣污染物任何1小時濃度平均3值，單位為mg/m。3.9排氣筒高度stackheight自排氣筒（或其主體建筑構(gòu)造）所在的地平面至排氣筒出口計(jì)的高度，單位為m。3.10無組織排放fugitiveemission大氣污染物不經(jīng)過排氣筒的無規(guī)則排放，主要包括作業(yè)場所物料堆存、開放式輸送揚(yáng)塵，以及設(shè)備、管線含塵氣體泄漏等。3.11無組織排放監(jiān)控點(diǎn)濃度限值concentrationlimitatfugitiveemissionreferencepoint溫度273K，壓力101.3kPa狀態(tài)下，監(jiān)控點(diǎn)（根據(jù)HJ/T55確定）的大氣污染物濃度在3任何1小時的平均值不得超過的值，單位為mg/m。3.12現(xiàn)有企業(yè)existingfacility本標(biāo)準(zhǔn)實(shí)施之日前已建成投產(chǎn)或環(huán)境影響評價文件已通過審批的電子玻璃企業(yè)或生產(chǎn)設(shè)施。3.13新建企業(yè)newfacility自本標(biāo)準(zhǔn)實(shí)施之日起環(huán)境影響評價文件通過審批的新建、改建和擴(kuò)建電子玻璃工業(yè)建設(shè)項(xiàng)目。4大氣污染物排放控制要求4.1大氣污染物排放限值4.1.1自2013年7月1日起至2015年6月30日止，現(xiàn)有企業(yè)執(zhí)行表1規(guī)定的大氣污染物排放限值。表1現(xiàn)有企業(yè)大氣污染物排放限值3單位：mg/m（煙氣黑度除外）排放限值配料、碎玻璃污染物排放序號污染物項(xiàng)目適用條件玻璃熔爐*1等其他通風(fēng)生監(jiān)控位置產(chǎn)設(shè)備1顆粒物全部100502煙氣黑度（林格曼，級）全部1—3二氧化硫全部600—車間或生產(chǎn)4氯化氫全部30—設(shè)施排氣筒5氟化物（以總F計(jì)）全部5—CRT錐玻璃、管26鉛及其化合物0.75*玻璃及其他含3

6鉛電子玻璃使用砷化合物27砷及其化合物0.55*作為澄清劑3使用銻化合物8銻及其化合物*5—作為澄清劑1注：*指干煙氣中O2含量8%狀態(tài)下（純氧燃燒為基準(zhǔn)排氣量條件下）的排放濃度限值。2*指鉛、砷配料的顆粒物濃度限值。3*待國家監(jiān)測方法標(biāo)準(zhǔn)發(fā)布后實(shí)施。4.1.2自2015年7月1日起，現(xiàn)有企業(yè)執(zhí)行表2規(guī)定的大氣污染物排放限值。4.1.3現(xiàn)有企業(yè)在2015年7月1日前對玻璃熔爐進(jìn)行冷修重新投入運(yùn)行的，自投入運(yùn)行之日起執(zhí)行表2規(guī)定的大氣污染物排放限值。4.1.4自2013年7月1日起，新建企業(yè)執(zhí)行表2規(guī)定的大氣污染物排放限值。表2新建企業(yè)大氣污染物排放限值3單位：mg/m（煙氣黑度除外）排放限值配料、碎玻璃污染物排放序號污染物項(xiàng)目適用條件玻璃熔爐*1等其他通風(fēng)生監(jiān)控位置產(chǎn)設(shè)備1顆粒物全部50302煙氣黑度（林格曼，級）全部1—3二氧化硫全部400—4氯化氫全部30—5氟化物（以總F計(jì)）全部5—車間或生產(chǎn)CRT錐玻璃、管2設(shè)施排氣筒6鉛及其化合物玻璃及其他含0.73*鉛電子玻璃使用砷化合物27砷及其化合物0.53*作為澄清劑3使用銻化合物8銻及其化合物*5—作為澄清劑9氮氧化物（以NO2計(jì)）全部700—1注：*指干煙氣中O2含量8%狀態(tài)下（純氧燃燒為基準(zhǔn)排氣量條件下）的排放濃度限值。2*指鉛、砷配料的顆粒物濃度限值。3*待國家監(jiān)測方法標(biāo)準(zhǔn)發(fā)布后實(shí)施。4.1.5對于電子玻璃熔爐排氣（純氧燃燒除外），應(yīng)同時對排氣中氧含量進(jìn)行監(jiān)測，實(shí)測排氣筒中大氣污染物排放濃度應(yīng)按公式（1）換算為含氧量8%狀態(tài)下的基準(zhǔn)排放濃度，并以此作為判定排放是否達(dá)標(biāo)的依據(jù)。全電熔爐以及其他車間或生產(chǎn)設(shè)施排氣按實(shí)測濃度計(jì)算，但不得人為稀釋排放。21?8C=?C………………………（1）基實(shí)21?O實(shí)3式中：C基——大氣污染物基準(zhǔn)排放濃度，mg/m；3C實(shí)——實(shí)測排氣筒中大氣污染物排放濃度，mg/m；4

7O實(shí)——玻璃熔爐干煙氣中含氧量百分率實(shí)測值。4.1.6純氧燃燒電子玻璃熔爐應(yīng)監(jiān)測排氣筒中大氣污染物排放濃度、排氣量及相應(yīng)時間內(nèi)3的玻璃出料量，按公式（2）計(jì)算基準(zhǔn)排氣量（3000m/t玻璃液）條件下的基準(zhǔn)排放濃度，并以此作為判定排放是否達(dá)標(biāo)的依據(jù)。大氣污染物排放濃度、排氣量、產(chǎn)品產(chǎn)量的監(jiān)測、統(tǒng)計(jì)周期為1小時，可連續(xù)采樣或等時間間隔采樣獲得大氣污染物排放濃度和排氣量數(shù)據(jù)，玻璃出料量數(shù)據(jù)以企業(yè)統(tǒng)計(jì)報表為依據(jù)。Q實(shí)C=?C…………………（2）基實(shí)3000?M3式中：C基——大氣污染物基準(zhǔn)排放濃度，mg/m；3C實(shí)——實(shí)測排氣筒中大氣污染物排放濃度，mg/m；3Q實(shí)——實(shí)測電子玻璃熔爐小時排氣量，m/h；M——與監(jiān)測時段相對應(yīng)的小時玻璃出料量，t/h。4.2無組織排放控制要求4.2.1電子玻璃企業(yè)在原料破碎、篩分、儲存、稱量、混合、輸送、投料等階段應(yīng)封閉操作，防止無組織排放。4.2.2自本標(biāo)準(zhǔn)實(shí)施之日起，電子玻璃企業(yè)大氣污染物無組織排放監(jiān)控點(diǎn)濃度限值應(yīng)符合表3規(guī)定。表3大氣污染物無組織排放限值3序號污染物項(xiàng)目濃度限值，mg/m限值含義無組織排放監(jiān)控位置監(jiān)控點(diǎn)與參照點(diǎn)總懸浮執(zhí)行HJ/T55的規(guī)定，上風(fēng)向1顆粒物1.0顆粒物（TSP）1小時濃設(shè)參照點(diǎn)，下風(fēng)向設(shè)監(jiān)控點(diǎn)度值的差值執(zhí)行HJ/T55的規(guī)定，監(jiān)控點(diǎn)監(jiān)控點(diǎn)環(huán)境空氣中鉛的2鉛及其化合物0.006設(shè)在周界外10m范圍內(nèi)濃度最高允許濃度最高點(diǎn)執(zhí)行HJ/T55的規(guī)定，監(jiān)控點(diǎn)監(jiān)控點(diǎn)環(huán)境空氣中砷的3砷及其化合物0.003設(shè)在周界外10m范圍內(nèi)濃度最高允許濃度最高點(diǎn)4.2.3在現(xiàn)有企業(yè)生產(chǎn)、建設(shè)項(xiàng)目竣工環(huán)保驗(yàn)收后的生產(chǎn)過程中，負(fù)責(zé)監(jiān)管的環(huán)境保護(hù)主管部門應(yīng)對周圍居住、教學(xué)、醫(yī)療等用途的敏感區(qū)域環(huán)境質(zhì)量進(jìn)行監(jiān)測。建設(shè)項(xiàng)目的具體監(jiān)控范圍為環(huán)境影響評價確定的周圍敏感區(qū)域；未進(jìn)行過環(huán)境影響評價的現(xiàn)有企業(yè)，監(jiān)控范圍由負(fù)責(zé)監(jiān)管的環(huán)境保護(hù)主管部門，根據(jù)企業(yè)排污的特點(diǎn)和規(guī)律及當(dāng)?shù)氐淖匀弧庀髼l件等因素，參照相關(guān)環(huán)境影響評價技術(shù)導(dǎo)則確定。地方政府應(yīng)對本轄區(qū)環(huán)境質(zhì)量負(fù)責(zé)，采取措施確保環(huán)境狀況符合環(huán)境質(zhì)量標(biāo)準(zhǔn)要求。4.3廢氣收集與排放5

84.3.1產(chǎn)生大氣污染物的生產(chǎn)工藝和裝置需設(shè)立局部或整體氣體收集系統(tǒng)和凈化處理裝置，達(dá)標(biāo)后排放。4.3.2所有排氣筒高度應(yīng)不低于15m。排氣筒周圍半徑200m范圍內(nèi)有建筑物時，排氣筒高度還應(yīng)高出最高建筑物3m以上。5大氣污染物監(jiān)測要求5.1對企業(yè)排放廢氣的采樣應(yīng)根據(jù)監(jiān)測污染物的種類，在規(guī)定的污染物排放監(jiān)控位置進(jìn)行，有廢氣處理設(shè)施的，應(yīng)在該設(shè)施后監(jiān)控。在污染物排放監(jiān)控位置應(yīng)設(shè)置永久性排污口標(biāo)志。企業(yè)應(yīng)按照國家有關(guān)污染源監(jiān)測技術(shù)規(guī)范的要求設(shè)置采樣口，并符合規(guī)定的采樣條件。5.2新建企業(yè)和現(xiàn)有企業(yè)安裝污染物排放自動監(jiān)控設(shè)備的要求，按有關(guān)法律和《污染源自動監(jiān)控管理辦法》的規(guī)定執(zhí)行。5.3對企業(yè)大氣污染物排放情況進(jìn)行監(jiān)測的頻次、采樣時間等要求，按國家有關(guān)污染源監(jiān)測技術(shù)規(guī)范的規(guī)定執(zhí)行。5.4排氣筒中大氣污染物的監(jiān)測采樣按GB/T16157、HJ/T397或HJ/T75規(guī)定執(zhí)行；大氣污染物無組織排放的監(jiān)測按HJ/T55規(guī)定執(zhí)行。5.5對大氣污染物排放濃度的測定采用表4所列的方法標(biāo)準(zhǔn)。表4大氣污染物濃度測定方法標(biāo)準(zhǔn)序號污染物項(xiàng)目方法標(biāo)準(zhǔn)名稱方法標(biāo)準(zhǔn)編號固定污染源排氣中顆粒物測定與氣態(tài)污染物采樣方法GB/T16157–19961顆粒物環(huán)境空氣總懸浮顆粒物的測定重量法GB/T15432–19952煙氣黑度固定污染源排放煙氣黑度的測定林格曼煙氣黑度圖法HJ/T398–2007固定污染源排氣中二氧化硫的測定碘量法HJ/T56–20003二氧化硫固定污染源排氣中二氧化硫的測定定電位電解法HJ/T57–2000固定污染源廢氣二氧化硫的測定非分散紅外吸收法HJ629-2012固定污染源排氣中氯化氫的測定硫氰酸汞分光光度法HJ/T27–19994氯化氫固定污染源廢氣氯化氫的測定硝酸銀容量法（暫行）HJ548–2009環(huán)境空氣和廢氣氯化氫的測定離子色譜法（暫行）HJ549–20095氟化物大氣固定污染源氟化物的測定離子選擇電極法HJ/T67–2001固定污染源廢氣鉛的測定火焰原子吸收分光光度法（暫行）HJ538–20096鉛及其化合物環(huán)境空氣鉛的測定石墨爐原子吸收分光光度法（暫行）HJ539–2009環(huán)境空氣和廢氣砷的測定二乙基二硫代氨基甲酸銀分光光7砷及其化合物HJ540–2009度法（暫行）固定污染源排氣中氮氧化物的測定紫外分光光度法HJ/T42–19998氮氧化物固定污染源排氣中氮氧化物的測定鹽酸萘乙二胺分光光度法HJ/T43–19995.6企業(yè)應(yīng)按照有關(guān)法律和《環(huán)境監(jiān)測管理辦法》的規(guī)定，對排污狀況進(jìn)行監(jiān)測，并保存原始監(jiān)測記錄。6

96實(shí)施與監(jiān)督6.1本標(biāo)準(zhǔn)由縣級以上人民政府環(huán)境保護(hù)行政主管部門負(fù)責(zé)監(jiān)督實(shí)施。6.2在任何情況下，電子玻璃企業(yè)均應(yīng)遵守本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定的大氣污染物排放控制要求，采取必要措施（如備用含鉛煙塵凈化系統(tǒng)）保證污染防治設(shè)施正常運(yùn)行。各級環(huán)保部門在對企業(yè)進(jìn)行監(jiān)督性檢查時，可以現(xiàn)場即時采樣或監(jiān)測的結(jié)果，作為判定排污行為是否符合排放標(biāo)準(zhǔn)以及實(shí)施相關(guān)環(huán)境保護(hù)管理措施的依據(jù)。7

10附錄A（資料性附錄）玻殼構(gòu)成示意圖8