膜技術(shù)在電子工業(yè)純水制造中的應(yīng)用

膜技術(shù)在電子工業(yè)純水制造中的應(yīng)用

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1、膜技術(shù)在電子工業(yè)純水制造中的應(yīng)用簡介:純水在電子工業(yè)主要是電子元器件生產(chǎn)中的重要作用日益突出,純水水質(zhì)已成為影響電子元器件產(chǎn)品質(zhì)量、生產(chǎn)成品率及生產(chǎn)成本的重要因素之一,水質(zhì)要求也越來越高。在電子元器件生產(chǎn)中,高純水主要用作清洗用水及用來配制各種溶液、漿料,不同的電子元器件生產(chǎn)中純水的用途及對水質(zhì)的要求也不同?! ∫弧⒓兯陔娮釉骷a(chǎn)中的作用  純水在電子工業(yè)主要是電子元器件生產(chǎn)中的重要作用日益突出,純水水質(zhì)已成為影響電子元器件產(chǎn)品質(zhì)量、生產(chǎn)成品率及生產(chǎn)成本的重要因素之一,水質(zhì)要求也越來越高。在電子元器件生產(chǎn)中

2、,高純水主要用作清洗用水及用來配制各種溶液、漿料,不同的電子元器件生產(chǎn)中純水的用途及對水質(zhì)的要求也不同。  在電解電容器生產(chǎn)中,鋁箔及工作件的清洗需用純水,如水中含有氯離子,電容器就會漏電。在電子管生產(chǎn)中,電子管陰極涂敷碳酸鹽,如其中混入雜質(zhì),就會影響電子的發(fā)射,進而影響電子管的放大性能及壽命,因此其配液要使用純水。在顯像管和陰極射線管生產(chǎn)中,其熒光屏內(nèi)壁用噴涂法或沉淀法附著一層熒光物質(zhì),是鋅或其他金屬的硫化物組成的熒光粉顆粒并用硅酸鉀粘合而成,其配制需用純水,如純水中含銅在8ppb以上,就會引起發(fā)光變色;含鐵在

3、50ppb以上就會使發(fā)光變色、變暗、閃光跳躍;含有機物膠體、微粒、細菌等,就會降低熒光層強度及其與玻殼的粘附力,并會造成氣泡、條跡、漏光點等廢次品。在黑白顯像管熒光屏生產(chǎn)的12個工序中,玻殼清洗、沉淀、濕潤、洗膜、管頸清洗等5個工序需使用純水,每生產(chǎn)一個顯像管需用純水80kg[1]。液晶顯示器的屏面需用純水清洗和用純水配液,如純水中存在著金屬離子、微生物、微粒等雜質(zhì),就會使液晶顯示電路發(fā)生故障,影響液晶屏質(zhì)量,導(dǎo)致廢、次品。顯像管、液晶顯示器生產(chǎn)對純水水質(zhì)的要求見表1。表1??顯像管、液晶顯示器用純水水質(zhì)項目單位

4、電阻率MΩ·cm(25t)細菌個/ml微粒個/mlTOCmg/LNa+μg/LK+μg/LCuμg/LFeμg/LZnμg/L黑白顯像管彩色顯像管液晶顯示器≥5≥5≥5 ≤5≤1≤1≤10(Φ>0.5μ)≤10(Φ>1μ)≤10(Φ>1μ)≤0.5≤0.5≤1≤10≤10≤10≤10≤10≤10≤8≤10≤10≤10≤10≤10≤10≤10≤10  在晶體管、集成電路生產(chǎn)中,純水主要用于清洗硅片,另有少量用于藥液配制,硅片氧化的水汽源,部分設(shè)備的冷卻水,配制電鍍液等。集成電路生產(chǎn)過程中的80%的工序需要使用高純水

5、清洗硅片,水質(zhì)的好壞與集成電路的產(chǎn)品質(zhì)量及生產(chǎn)成品率關(guān)系很大。水中的堿金屬(K、Na等)會使絕緣膜耐壓不良,重金屬(Au、Ag、Cu等)會使PN結(jié)耐壓降低,Ⅲ族元素(B、Al、Ga等)會使N型半導(dǎo)體特性惡化,Ⅴ族元素(P、As、Sb等)會使P型半導(dǎo)體特性惡化[2],水中細菌高溫碳化后的磷(約占灰分的20-50%)會使P型硅片上的局部區(qū)域變?yōu)镹型硅而導(dǎo)致器件性能變壞[3],水中的顆粒(包括細菌)如吸附在硅片表面,就會引起電路短路或特性變差。集成電路生產(chǎn)對純水水質(zhì)的要求見表2。表2?集成電路(DRAM)對純水水質(zhì)的要

6、求[4][5][6]集成電路(DRAM)集成度16K64K256K1M4M16M相鄰線距(μm)42.21.81.20.80.5微粒直徑(μm)0.40.20.20.10.080.05個數(shù)(PCS/ml)<100<100<20<20<10<10細菌(CFU/100ML)<100<50<10<5<1<0.5電阻率(μs/cm,25℃)>16>17>17.5>18>18>18.2TOC(ppb)<1000<500<100<50<30<10DO(ppb)<500<200<100<80<50<10Na+(ppb)<1<1

7、<0.8<0.5<0.1<0.1  二、膜技術(shù)在純水制造中的應(yīng)用  純水制造中應(yīng)用的膜技術(shù)主要有電滲析(ED)、反滲透(RO)、納濾(NF)、超濾(UF)、微濾(MF),其工作原理、作用等見表3。表3?純水制造中常用的膜技術(shù)膜組件名稱EDRONFUFMF微孔孔徑5-50埃15-85埃50-1000埃(1μm)0.03-100μm工作原理離子選擇透過性1.優(yōu)先吸附-毛細管理論2.氫鏈理論3.擴散理論同左濾膜篩濾作用同左作用?????????去除懸濁物去除無機鹽離子去除無機鹽離子,以及有機物、微生物、膠體、熱源、病毒

8、等去除二價、三價離子,M>100的有機物,以及微生物、膠體、熱源、病毒等去除懸濁物、膠體以及M>6000的有機物組件形式膜堆式???大多為卷式,少量為中空纖維同左???大多為中空纖維,少量為卷式???摺迭濾筒式工作壓力(Mpa)0.03-0.31-40.5-1.50.1-0.50.05-0.5水回收率(%)50-8050-7550-8590-95100使用壽命(年)3-8

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