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1、膜技術在電子工業(yè)純水制造中的應用 摘要:純水在電子工業(yè)主要是電子元器件生產中的重要作用日益突出,純水水質已成為影響電子元器件產品質量、生產成品率及生產成本的重要因素之一,水質要求也越來越高。在電子元器件生產中,高純水主要用作清洗用水及用來配制各種溶液、漿料,不同的電子元器件生產中純水的用途及對水質的要求也不同。關鍵詞:膜技術純水
一、純水在電子元器件生產中的作用
純水在電子工業(yè)主要是電子元器件生產中的重要作用日益突出,純水水質已成為影響電子元器件產品質量、生產成品率及生產成本的重要因素之一,水質要求也越來越高。在電子元器件生產中,高純
2、水主要用作清洗用水及用來配制各種溶液、漿料,不同的電子元器件生產中純水的用途及對水質的要求也不同。
在電解電容器生產中,鋁箔及工作件的清洗需用純水,如水中含有氯離子,電容器就會漏電。在電子管生產中,電子管陰極涂敷碳酸鹽,如其中混入雜質,就會影響電子的發(fā)射,進而影響電子管的放大性能及壽命,因此其配液要使用純水。在顯像管和陰極射線管生產中,其熒光屏內壁用噴涂法或沉淀法附著一層熒光物質,是鋅或其他金屬的硫化物組成的熒光粉顆粒并用硅酸鉀粘合而成,其配制需用純水,如純水中含銅在8ppb以上,就會引起發(fā)光變色;含鐵在50ppb以上就會使發(fā)光變色、變
3、暗、閃光跳躍;含有機物膠體、微粒、細菌等,就會降低熒光層強度及其與玻殼的粘附力,并會造成氣泡、條跡、漏光點等廢次品。在黑白顯像管熒光屏生產的12個工序中,玻殼清洗、沉淀、濕潤、洗膜、管頸清洗等5個工序需使用純水,每生產一個顯像管需用純水80kg[1]。液晶顯示器的屏面需用純水清洗和用純水配液,如純水中存在著金屬離子、微生物、微粒等雜質,就會使液晶顯示電路發(fā)生故障,影響液晶屏質量,導致廢、次品。顯像管、液晶顯示器生產對純水水質的要求見表1。
在晶體管、集成電路生產中,純水主要用于清洗硅片,另有少量用于藥液配制,硅片氧化的水汽源,部分設備
4、的冷卻水,配制電鍍液等。集成電路生產過程中的80%的工序需要使用高純水清洗硅片,水質的好壞與集成電路的產品質量及生產成品率關系很大。水中的堿金屬會使絕緣膜耐壓不良,重金屬會使PN結耐壓降低,Ⅲ族元素會使N型半導體特性惡化,Ⅴ族元素會使P型半導體特性惡化[2],水中細菌高溫碳化后的磷會使P型硅片上的局部區(qū)域變?yōu)镹型硅而導致器件性能變壞[3],水中的顆粒如吸附在硅片表面,就會引起電路短路或特性變差。集成電路生產對純水水質的要求見表2。
二、膜技術在純水制造中的應用
純水制造中應用的膜技術主要有電滲析、反滲透、納濾、超濾、微濾,其工作原理、作
5、用等見表3。
與傳統(tǒng)的水處理技術相比,膜技術具有工藝簡單、操作方便、易于自動控制、能耗小、無污染、去除雜質效率高、運行成本低等優(yōu)點,特別是幾種膜技術的配合使用,再輔之以其他水處理工藝,如石英砂過濾、活性炭吸附、脫氣、離子交換、UV殺菌等,為去除水中的各種雜質,滿足日益發(fā)展的電子工業(yè)對高純水的需要,提供了有效而可靠的手段,而且也只有應用了多種膜技術,才能生產出合格、穩(wěn)定的高純水,才能生產出大規(guī)模、超大規(guī)模、甚大規(guī)模集成電路,從而使計算機、雷達、通訊、自動控制等現(xiàn)代電子工業(yè)的發(fā)展和應用得以實現(xiàn)。值得一提的是:當原水的含鹽量大于400mg
6、/L時,純水制造的除鹽工序采用RO-離子交換工藝后,比早先單用離子交換可節(jié)約酸、堿90%左右,使離子交換柱的周期產水量提高10倍左右[7],事實證明,可以降低純水制造的運行費用和制水成本,可以減少工人的勞動強度,可以減少對環(huán)境的污染,并可使純水水質得到提高并長期穩(wěn)定。據統(tǒng)計,在我國電子工業(yè)引進的純水制造系統(tǒng)中,有RO的約占系統(tǒng)總數(shù)的90%,有UF的約占20%,有MF的幾乎為100%[8],而ED在我國國產的純水系統(tǒng)特別是早期投產的純水系統(tǒng),以及為數(shù)眾多的對純水水質要求不高的一般電子元器件制造廠的純水系統(tǒng)中占有相當?shù)谋壤?三、微電子工廠純水
7、站使用膜技術實況
現(xiàn)以某微電子工廠中的某一純水站使用膜技術的實況,說明膜技術在電子工業(yè)純水制造中的應用。其純水制造系統(tǒng)工藝流程。
1.前級UF
前級UF是用于去除水中的懸濁物、膠體及有機物,降低水的SDI值,確保RO的安全運行。前級UF有5組,每組45根組件,共225根組件,進水280m3/h,透過水250m3/h,濃縮水排放,回收率約90%。UF組件為美國Romicon公司生產,型號HF-BZ-20-PM80,組件直徑5in,長43in,內壓式中空纖維膜,纖維直徑20mil,共有2940根纖維,膜面積132ft2,膜材料為PS,截
8、留分子量8萬。UF前采用5μm保安過濾器。
2.一級RO
水中加入還原劑Na2SO3以防止余氯氧化腐蝕RO膜,加入防垢劑6以防止CaCO3、CaSO4等在RO膜上結垢,再經5