光學(xué)散射測(cè)量中的儀器測(cè)量條件配置優(yōu)化方法研究

光學(xué)散射測(cè)量中的儀器測(cè)量條件配置優(yōu)化方法研究

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1、分類號(hào)學(xué)每舉棹代:碼密級(jí)專肀科技太牙博士學(xué)位論文光學(xué)散射測(cè)量中的儀器測(cè)量條件配置優(yōu)化方法研究學(xué)位申請(qǐng)人:董正瓊學(xué)科專業(yè):機(jī)械電子工程指導(dǎo)教師:劉世元教授答辯日期年月日ADissertationSubmittedtoAcademicDegreesEvaluationCommitteeofHuazhongUniversityofScienceandTechnologyfortheDegreeofDoctorofPhilosophyinEngineeringResearchonInstrumentMeasurementConfigurationO

2、ptimizationinOpticalScatterometryPh.DCandidate:DongZhengqiongMajor:MechatronicEngineeringSupervisor:Prof.LiuShiyuanHuazhongUniversityofScienceandTechnologyWuhan,Hubei430074,獨(dú)創(chuàng)性聲明本人聲明所呈交的學(xué)位論文是我個(gè)人在導(dǎo)師指導(dǎo)下進(jìn)行的研究工作及取得的研究成果。盡我所知,除文中已經(jīng)標(biāo)明引用的內(nèi)容外,本論文不包含任何其他個(gè)人或集體已經(jīng)發(fā)表或撰寫過(guò)的研究成果。對(duì)本文的研究做出貢

3、獻(xiàn)的個(gè)人和集體,均已在文中以明確方式標(biāo)明。本人完全意識(shí)到,本聲明的法律結(jié)果由本人承擔(dān)。學(xué)位論文作者簽名:‘日期:年月從日學(xué)位論文版權(quán)使用授權(quán)書本學(xué)位論文作者完全了解學(xué)校有關(guān)保留、使用學(xué)位論文的規(guī)定,即:學(xué)校有權(quán)保留并向國(guó)家有關(guān)部門或機(jī)構(gòu)送交論文的復(fù)印件和電子版,允許論文被查閱和借閱。本人授權(quán)華中科技大學(xué)可以將本學(xué)位論文的全部或部分內(nèi)容編入有關(guān)數(shù)據(jù)庫(kù)進(jìn)行檢索,可以采用影印、縮印或掃描等復(fù)制手段保存和匯編本學(xué)位論文。本論文屬于保密口,在年解密后適用本授權(quán)書。不保密。請(qǐng)?jiān)谝陨戏娇騼?nèi)打“十’)學(xué)位論文作者簽名:指導(dǎo)教師簽名:日期:冰年月曰:年月乂日

4、日期華中科技大學(xué)博士學(xué)位論文摘要相比于掃描電子顯微鏡和原子力顯微鏡等傳統(tǒng)測(cè)量手段,光學(xué)散射測(cè)量技術(shù)在滿足納米級(jí)尺度測(cè)量要求的同時(shí)具有快速、低成本、非破壞性和易于集成等優(yōu)點(diǎn),因而在納米制造等先進(jìn)工藝監(jiān)測(cè)及優(yōu)化領(lǐng)域中得到了廣泛的應(yīng)用。目前,如何進(jìn)一步實(shí)現(xiàn)更高精度和更快速度的納米結(jié)構(gòu)測(cè)量是光學(xué)散射測(cè)量技術(shù)的研究重點(diǎn)之一。由于光學(xué)散射測(cè)量在本質(zhì)上是一種基于模型的測(cè)量方法,通過(guò)將實(shí)際測(cè)量數(shù)據(jù)與模型仿真數(shù)據(jù)進(jìn)行匹配來(lái)反演提取出納米結(jié)構(gòu)參數(shù)值,故待測(cè)參數(shù)的測(cè)量精度主要取決于模型仿真數(shù)據(jù)對(duì)待測(cè)參數(shù)的靈敏度,其反演提取速度則在很大程度上受到所選測(cè)量數(shù)據(jù)集的大

5、小影響。其中,納米結(jié)構(gòu)參數(shù)的靈敏度可以通過(guò)改變測(cè)量條件配置進(jìn)行改善,即調(diào)整入射波長(zhǎng)、入射角和方位角等測(cè)量條件的組合;測(cè)量條件配置中所選取波長(zhǎng)的數(shù)目越多,其對(duì)應(yīng)需分析的測(cè)量數(shù)據(jù)越多,但在理論上僅采用極大線性無(wú)關(guān)的最少量包含豐富待測(cè)結(jié)構(gòu)信息的測(cè)量數(shù)據(jù)即可反演出待測(cè)結(jié)構(gòu)參數(shù)。因此,可以通過(guò)選擇合適的測(cè)量條件配置使得納米結(jié)構(gòu)待測(cè)參數(shù)的靈敏度最高且反演分析所需測(cè)量數(shù)據(jù)最少,進(jìn)而實(shí)現(xiàn)納米結(jié)構(gòu)測(cè)量精度和速度的提高。本學(xué)位論文以此為出發(fā)點(diǎn),開展了光學(xué)散射測(cè)量中測(cè)量條件配置優(yōu)化方法的探索性研究。首先,本文利用組建的基于矩陣橢偏儀的納米結(jié)構(gòu)測(cè)量實(shí)驗(yàn)平臺(tái),對(duì)典型

6、納米結(jié)構(gòu)測(cè)量過(guò)程展開了靈敏度特性分析,分析結(jié)果表明了通過(guò)選擇合適的測(cè)量條件配置可實(shí)現(xiàn)更高靈敏度的納米結(jié)構(gòu)測(cè)量。然后針對(duì)單個(gè)納米結(jié)構(gòu)和尺寸差異較大的批量納米結(jié)構(gòu),分別就局部和全局靈敏度分析法對(duì)測(cè)量條件配置中入射角和方位角的優(yōu)化問(wèn)題展幵研究。最后,在優(yōu)化入射角和方位角爐基礎(chǔ)上,利用線性相關(guān)分析法進(jìn)一步研究了入射波長(zhǎng)的優(yōu)化問(wèn)題。主要工作和創(chuàng)新點(diǎn)如下:基于局部靈敏度法分析了納米結(jié)構(gòu)待測(cè)參數(shù)與測(cè)量數(shù)據(jù)之間的不確定度傳遞規(guī)律,結(jié)合納米結(jié)構(gòu)實(shí)際測(cè)量過(guò)程推導(dǎo)得到將測(cè)量數(shù)據(jù)與待測(cè)參數(shù)之間的誤差傳遞公式,進(jìn)而得到待測(cè)參數(shù)的不確定度估計(jì)公式。針對(duì)單個(gè)納米結(jié)構(gòu),提

7、出了一種以待測(cè)參數(shù)的相對(duì)不確定度之和為目標(biāo)函數(shù)的測(cè)量條件配置優(yōu)化方法,以實(shí)現(xiàn)納米結(jié)構(gòu)所有待測(cè)參數(shù)的統(tǒng)一最優(yōu)測(cè)量條件配置。基于方差分析法推導(dǎo)了光學(xué)特性模型中輸入結(jié)構(gòu)參數(shù)不確定度影響模型輸出的全方差公式,得到了結(jié)構(gòu)參數(shù)的主效應(yīng)這一全局靈敏度衡量指標(biāo)表達(dá)式,通過(guò)結(jié)合華中科技大學(xué)博士學(xué)位論文不同測(cè)量條件配置下待測(cè)結(jié)構(gòu)參數(shù)的主效應(yīng)與實(shí)際測(cè)量噪聲量級(jí),定義了“不確定度指數(shù)”這一精度衡量指標(biāo),并結(jié)合傅里葉幅度靈敏度檢驗(yàn)擴(kuò)展法給出了其計(jì)算公式。針對(duì)尺寸差異較大的批量納米結(jié)構(gòu),提出了一種以待測(cè)結(jié)構(gòu)參數(shù)不確定度指數(shù)為目標(biāo)函數(shù)的測(cè)量條件配置優(yōu)化方法,從而實(shí)現(xiàn)批量

8、待測(cè)納米結(jié)構(gòu)的統(tǒng)一最優(yōu)測(cè)量條件配置。在優(yōu)化入射角和方位角的基礎(chǔ)上,針對(duì)納米結(jié)構(gòu)實(shí)際值與設(shè)計(jì)值對(duì)應(yīng)光譜之間的偏差數(shù)據(jù)展幵了線性相關(guān)度分析,通過(guò)考慮實(shí)際測(cè)量過(guò)程中的隨機(jī)誤差得到了對(duì)應(yīng)

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