X射線衍射方法的應(yīng)用.ppt

X射線衍射方法的應(yīng)用.ppt

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1、X射線衍射分析方法的應(yīng)用吳志國蘭州大學(xué)等離子體與金屬材料研究所現(xiàn)代材料物理研究方法第六講晶體學(xué)基本知識(shí)X射線衍射原理X射線衍射分析方法X射線物相分析X射線衍射分析方法的應(yīng)用2X射線衍射分析方法的應(yīng)用多晶體點(diǎn)陣常數(shù)的精確測(cè)定納米材料晶粒尺寸的測(cè)定晶格畸變及衍射線形分析多晶體擇優(yōu)取向的測(cè)定晶體結(jié)晶度的測(cè)定薄膜材料掠角入射物相分析小角度散射研究超晶格結(jié)構(gòu)宏觀殘余內(nèi)應(yīng)力的測(cè)定薄膜厚度的測(cè)量3多晶體點(diǎn)陣常數(shù)的精確測(cè)定點(diǎn)陣常數(shù)是晶體物質(zhì)的基本結(jié)構(gòu)參數(shù),它隨物質(zhì)的化學(xué)組成和外界條件(溫度、壓力等)變化點(diǎn)陣常數(shù)的變化反映了晶體內(nèi)部原子結(jié)合力、密度、熱膨脹、固溶體類型、受力狀態(tài)、缺陷類型、濃度等的變化,

2、通過測(cè)量點(diǎn)陣常數(shù)的變化,可以揭示出上述問題的物理本質(zhì)和變化規(guī)律通過點(diǎn)陣常數(shù)的變化測(cè)定彈性應(yīng)力已經(jīng)發(fā)展為一種成熟的專門方法4多晶體點(diǎn)陣常數(shù)的精確測(cè)定精確測(cè)定已知多晶材料點(diǎn)陣常數(shù)的基本步驟:用照相法或者衍射儀法獲取待測(cè)試樣的粉末衍射譜;根據(jù)衍射線的角位置計(jì)算相應(yīng)晶面間距d;標(biāo)定各衍射線條的干涉指數(shù)hkl(指標(biāo)化);由d及相應(yīng)的hkl計(jì)算點(diǎn)陣常數(shù)(a、b、c等);消除誤差。晶體內(nèi)部各種因素引起的點(diǎn)陣常數(shù)的變化非常小,往往在10-4數(shù)量級(jí),這就要求測(cè)量精度非常高;得到精確的點(diǎn)陣常數(shù)值。5粉末衍射花樣的指標(biāo)化晶胞參數(shù)已知時(shí)衍射線的指標(biāo)化:6粉末衍射花樣的指標(biāo)化晶胞參數(shù)未知時(shí)衍射線的指標(biāo)化:在衍射

3、角θ(晶面間距d)已知的情況下,干涉指數(shù)和晶胞參數(shù)兩者是相互依賴的,無法直接求得。在不同晶系中,晶胞參數(shù)中未知值的個(gè)數(shù)是多寡不一的,對(duì)立方晶系來說,只有一個(gè)未知數(shù)a,中級(jí)晶族中為a和c兩個(gè)未知數(shù),低級(jí)晶族中未知數(shù)則多至3、4和6個(gè)。因此,在粉晶法中,指標(biāo)化對(duì)立方晶系來說是肯定可能的,對(duì)中級(jí)晶族一般是有可能的,而對(duì)低級(jí)晶族則一般是非常困難的。7立方晶系粉末衍射花樣的指標(biāo)化對(duì)立方晶系來說:對(duì)同一物質(zhì)的同一個(gè)衍射花樣,X射線波長(zhǎng)和晶胞參數(shù)是常數(shù)8立方晶系粉末衍射花樣的指標(biāo)化根據(jù)晶體結(jié)構(gòu)因子和點(diǎn)陣消光法則,立方晶系中能產(chǎn)生衍射的晶面歸納如下:簡(jiǎn)單立方晶體:100,110,111,200,210

4、,211,220,221體心立方晶體:110,200,211,220,310,222,312,400面心立方晶體:111,200,220,311,222,400,331,4209精確測(cè)定多晶體點(diǎn)陣常數(shù)的方法晶體內(nèi)部各種因素引起的點(diǎn)陣常數(shù)的變化十分微小,往往在10-4數(shù)量級(jí),如果采用一般的測(cè)試技術(shù),這種微弱的變化趨勢(shì)勢(shì)必被試驗(yàn)誤差所掩蓋,所以必須對(duì)點(diǎn)陣常數(shù)進(jìn)行精確測(cè)定。用X射線衍射方法測(cè)定晶體物質(zhì)的點(diǎn)陣常數(shù)是一種間接的方法,其實(shí)驗(yàn)依據(jù)是根據(jù)衍射譜上各衍射線所處位置的θ角,用Bragg方程和各個(gè)晶系的面間距公式,求出該晶體的點(diǎn)陣常數(shù)。多晶體衍射譜上每條衍射線都可以計(jì)算出點(diǎn)陣常數(shù)值,但是哪一

5、條衍射線確定的數(shù)值最接近實(shí)際呢?10精確測(cè)定多晶體點(diǎn)陣常數(shù)的誤差分析主要取決于sin?的精確度對(duì)于立方晶系:?d/d=?a/a=-ctg????90o時(shí),ctg?0若用85o數(shù)據(jù)求d其準(zhǔn)確度比?=50o時(shí)高100倍精確求算晶胞參數(shù)的數(shù)據(jù)要求:強(qiáng)度大;衍射角度測(cè)量準(zhǔn)確;單一面指數(shù);高角度。11精確測(cè)定多晶體點(diǎn)陣常數(shù)的誤差消除一般用外推法消除測(cè)量誤差:根據(jù)若干條衍射線測(cè)得的點(diǎn)陣常數(shù),外推至θ=90o對(duì)德拜照相法,外推函數(shù)f(θ)由J.B.Nelson和A.Taylor分別從實(shí)驗(yàn)和理論證明為:f(θ)=(cos2θ/sinθ+cos2θ/θ)/2衍射儀法的外推函數(shù)有:cos2θ、ctg2θ、

6、cosθctgθ這些都是經(jīng)驗(yàn)表達(dá)式,沒有公認(rèn)可靠的外推函數(shù)12精確測(cè)定多晶體點(diǎn)陣常數(shù)的誤差原因德拜法:半徑誤差、底片誤差、偏心誤差、吸收誤差衍射儀法:峰位的確定儀器誤差試樣誤差X射線誤差測(cè)試方法誤差13精確測(cè)定多晶體點(diǎn)陣常數(shù)的誤差原因儀器誤差:儀器未經(jīng)精確校準(zhǔn)。零點(diǎn)偏差:接收器零點(diǎn)誤差,此誤差是恒定的;測(cè)角器刻度誤差:固有機(jī)械誤差;這兩項(xiàng)誤差所導(dǎo)致的△2θ,一般調(diào)試后約為0.01o,若采用光學(xué)方法校正,可以達(dá)到0.001o。14精確測(cè)定多晶體點(diǎn)陣常數(shù)的誤差原因試樣誤差:試樣平板狀,與聚焦園不能重合而散焦;試樣表面與衍射儀軸不重合(偏離s);試樣對(duì)X射線有一定透明度,使X射線穿透加深,試

7、樣內(nèi)部深處晶面參與反射,相當(dāng)于試樣偏離衍射儀軸。高角度15精確測(cè)定多晶體點(diǎn)陣常數(shù)的誤差原因X射線誤差:入射線色散和角因子的作用使線形不對(duì)稱、射線發(fā)散等。測(cè)試方法誤差:連續(xù)掃描時(shí),掃描速度、記錄儀時(shí)間常數(shù)、記錄儀角度標(biāo)記能造成衍射角位移。16納米材料晶粒尺寸的測(cè)定小的晶粒尺寸往往導(dǎo)致晶面間距的不確定性,引起衍射圓錐的發(fā)散,從而使衍射峰形加寬。薄膜的平均晶粒尺寸D可用Scherrer公式進(jìn)行估算:其中K為常數(shù),用銅靶時(shí)近似為0.89,X射線波長(zhǎng)λ為

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