資源描述：
《磁控濺射制備nio薄膜光電特性研究》由會員上傳分享，免費(fèi)在線閱讀，更多相關(guān)內(nèi)容在學(xué)術(shù)論文-天天文庫。
1、長春理工大學(xué)碩士學(xué)位論文原創(chuàng)性聲明本人鄭重聲明：所早交的碩十學(xué)位論文，《磁控濺射制備NiO薄膜光電特性研究》是本人在指導(dǎo)教師的指導(dǎo)下．獨(dú)立進(jìn)行研究工作所取得的成果。除文中已經(jīng)注明引圳的內(nèi)彝外，本論文不包含任何其他個(gè)人或集體已經(jīng)發(fā)表或撰寫過的作晶成果。對本文的研究做山重要貢獻(xiàn)的個(gè)人和集體，均已在文中以明確方式標(biāo)明。本人完全意識到本聲明的法律結(jié)果由本人承擔(dān)。作者簽名監(jiān)2址年立月盟日長春理工大學(xué)學(xué)位論文版權(quán)使用授權(quán)書本學(xué)位論文作者及指導(dǎo)教師完全了解“長春理工大學(xué)碩士、博士學(xué)位論文版權(quán)使用規(guī)定”，同意長春理工大學(xué)保留并向中國科學(xué)信息研究所、
2、中國優(yōu)秀博碩士學(xué)位論文全文數(shù)據(jù)庫和CNKI系列數(shù)據(jù)庫及其它國家有關(guān)部門或機(jī)構(gòu)送交學(xué)位論文的復(fù)印件和電子版，允許論文被查閱和借閱。本人授權(quán)長春理工大學(xué)可以將本學(xué)位論文的全部或部分內(nèi)容編入有關(guān)數(shù)據(jù)庫進(jìn)行檢索，也可采用影印、縮印或掃描等復(fù)制手段保存和匯編學(xué)位論文。作者簽名：—』l!ji差'-—!!蛑—蘭月型R導(dǎo)師簽名：至盤．2生咀年—L月盟同摘要NiO(氧化鎳)是一種寬禁帶半導(dǎo)體材料，呈現(xiàn)P型導(dǎo)電性質(zhì)而且它具有較好的化學(xué)、電學(xué)，光學(xué)和磁學(xué)特性，因此得到了人們廣泛的研究并且在各種光電器件，例如：紫外探測器，化學(xué)傳感器的功能層，電致變色超級電
3、容，有機(jī)發(fā)光二極管上得到了應(yīng)用。本論文首先綜述了Ni0薄膜的性質(zhì)、應(yīng)用和常用的制各方法，在制備方法中射頻磁控濺射法是較為常用的一種薄膜制各技術(shù)，但是各種濺射參數(shù)對薄膜的性質(zhì)有很大的影響。本文中也采用射頻磁控濺射法在不同濺射電壓、OJAr、襯底溫度和靶距下制各了NiO薄膜，利用x射線衍射儀(XRD)對薄膜的結(jié)構(gòu)進(jìn)行研究、紫外一可見光(UV—VIS)分光光度計(jì)、四探針范德堡法分別對薄膜光學(xué)和電學(xué)性質(zhì)進(jìn)行了深入的研究。文章最后給出了實(shí)驗(yàn)結(jié)論。關(guān)鍵詞：氧化鎳薄膜射頻磁控濺射ABSTRACTNicldeoxideisakindwideband
4、—gapconduciveoxideandPtypeconductivecharacteristicItwasconsideredasanattractivemaIcfiMduetoltsexcellentchemicalaswellaselectrical，opticalandmagniticpropertiessobeusedinallkindsofdisplay．Forexampleultraviolet(U-V)detectors，functionallayermaterialforchemicalsensois，elect
5、ronchemicalsupercapacitors，organiclightemiuingdiodesandsoonInthisstudyweoverviewtheproperties，applicationandpreparationmethodsofNiOfilms，RFmagnitronsputIeringhasbeenmostwidelyusedinthesemethodsandthedependencesofthinfilmspropertiesonallkindsofsputteringprocessNiOthinfi
6、lmsweredepositedbyRFmagnetronsputteringprocessatdifferentRFvoltages，02／Ar,subslratetempratureandsubstrate-targetdistanceInthispaper．thosepropertiesofcrystallinestructure，optical，electricalweretestedbyXRD-diffraction，UV-VISspeatrophotometerandfourproberesistivityme{lsur
7、mentweshowtheconclusionsinexperimentKeywords：NiOthinfilmsRFsputtering目錄摘要ABSTIiAcT錄第一章緒論．．．．．．．．．．．．?．11透明導(dǎo)電薄膜的分類12透明導(dǎo)電氧化物薄膜的發(fā)展趨勢平¨應(yīng)Hj13本論文的研究意義和主要研究內(nèi)容第二章NiO薄膜性質(zhì)和制備技術(shù)．．．．?21Ni0薄膜的基本性質(zhì)2Ni0薄膜的應(yīng)川23Ni0薄膜的制備方法24Ni0薄膜的表征方法第三章磁控濺射制備氧化鎳薄膜31磁控濺射原理平¨特點(diǎn)32磁控濺射Ni0薄膜成膜過程和主要影響田素3Nj0薄
8、膜的制備過程34Ni0薄膜性質(zhì)測試結(jié)果第四章濺射電壓不同時(shí)Ni0薄膜的性質(zhì)變化及影響41濺射電壓不同時(shí)Ni0薄膜的結(jié)構(gòu)特性42濺射電壓不同時(shí)Ni0薄膜的光學(xué)特性43濺射電壓不同時(shí)Ni0薄膜的光學(xué)帶隙44濺射電壓不同時(shí)Ni0薄膜的電學(xué)特
